CN215707309U - 一种硅烷处理剂用均匀注入装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅烷处理剂用均匀注入装置，包括主体和气泵，所述主体的外壁安装有气泵，所述气泵的外壁安装有气体管道，所述主体的内壁安装有下料腔，所述下料腔的内部顶壁安装有气压传感器，所述主体的顶端安装有控制器，所述下料腔的内部底壁开设有圆槽。本实用新型通过安装有气压传感器和圆槽来均匀注入硅烷处理剂，称量好的硅烷处理剂流入到下料腔内，气压传感器时刻检测下料腔内的气压情况，将检测到的信号传递给控制器，气压值发生变化时，控制器控制气泵向下料腔内充气，使得下料腔内的气压一直保持稳定，硅烷处理剂的流速就会保持不变，再经过均匀孔径的圆槽切分流向出料管，整个过程可使得硅烷处理剂注入均匀。

Description

一种硅烷处理剂用均匀注入装置

技术领域

本实用新型涉及硅烷处理剂注入技术领域，具体为一种硅烷处理剂用均匀注入装置。

背景技术

硅烷化处理是以有机硅烷为主要原料对金属或非金属材料进行表面处理的过程，现有的一种硅烷处理剂用注入装置，可以均匀注入，防止一下注入过多，影响其使用效果，可对硅烷处理剂进行称量，准确控制其注入量，避免了注入量过多造成浪费或过少导致效果发挥不出来的问题。

现有的硅烷处理剂用注入装置存在的缺陷是：

1.对比文件CN213385856U公开了一种弱碱性硅烷处理剂用均匀注入装置，保护的权项“包括圆形箱体，所述圆形箱体的顶部两侧均固定安装有进料管，所述圆形箱体的顶部开设有圆孔，所述圆形箱体的顶部固定安装有电机，所述电机的输出轴通过圆孔延伸至圆形箱体的内部并通过联轴器固定连接有螺旋送料轴，所述圆形箱体的内壁固定安装有圆形块，所述圆形块的内部中心处开设有连通圆口，本实用新型能够防止一下注入过多会造成有些弱碱性硅烷处理剂无法全部溶解和防止弱碱性硅烷处理剂堵塞投入口，还能够对倒入圆形箱体内部的弱碱性硅烷处理剂进行搅拌，防止倒入太多堆积在一起无法进行输送”，但是其缺少硅烷处理剂的称量结构，注入的硅烷处理剂量过多会造成浪费，注入量过少又会导致效果不能完全发挥出来的问题；

2.现有的硅烷处理剂用注入装置注入不均匀，一下注入过多，会影响其使用的效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅烷处理剂用均匀注入装置，以解决上述背景技术中提出的注入不均匀和缺少硅烷处理剂的称量结构的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅烷处理剂用均匀注入装置，包括主体、气泵和称重传感器，所述主体的外壁安装有气泵，所述主体的内壁安装有固定板，所述固定板的顶部安装有称重传感器；

所述气泵的外壁安装有气体管道，所述主体的内壁安装有下料腔，且气体管道的一端延伸进下料腔的内壁，所述下料腔的内部顶壁安装有气压传感器，所述主体的顶端安装有控制器，所述下料腔的内部底壁开设有圆槽；

所述主体的顶端贯穿安装有进料管，所述主体的内壁安装有称量腔，所述主体的底端贯穿安装有出料管。

优选的，所述主体的顶端安装有显示屏，主体的外壁贯穿安装有拉杆，且拉杆的一端延伸进称量腔的内壁，称量腔的内壁安装有伸缩杆，伸缩杆的一端安装有移动板，且移动板的一端与拉杆的一端连接，移动板的顶部开设有第二圆孔。

优选的，所述主体的底部安装有支撑腿。

优选的，所述进料管的顶端安装有密封盖。

优选的，所述称量腔的顶端开设有第一圆孔，称量腔的内壁贯穿安装有第一阀门。

优选的，所述下料腔的顶端贯穿安装有下料管，且下料管的顶端延伸进称量腔的内壁。

优选的，所述出料管的内壁贯穿安装有第二阀门。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.本实用新型通过安装有气压传感器和圆槽来均匀注入硅烷处理剂，称量好的硅烷处理剂流入到下料腔内，气压传感器时刻检测下料腔内的气压情况，将检测到的信号传递给控制器，气压值发生变化时，控制器控制气泵向下料腔内充气，使得下料腔内的气压一直保持稳定，硅烷处理剂的流速就会保持不变，再经过均匀孔径的圆槽切分流向出料管，整个过程可使得硅烷处理剂注入均匀；

2.本实用新型通过安装有称重传感器和移动板来对硅烷处理剂进行称量，从进料管内倒入硅烷处理剂，通过第一圆孔流向称量腔内，称重传感器开始称量，使用者可通过显示屏观察称重的量，当数值快要接近预定值时，拉动拉杆，带动移动板移动，移动板上的第二圆孔与第一圆孔开始交错，使得流进称量腔内的硅烷处理剂开始缓慢减少，便于控制倒入的量，达到要使用值时，拉动拉杆通过移动板将第一圆孔全部堵住，从而完成了对硅烷处理剂的称量，使用多少就称量多少，不会造成浪费。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的整体正视部分结构示意图；

图3为本实用新型的整体内部部分结构示意图；

图4为本实用新型的移动板部分结构示意图。

图中：1、主体；101、支撑腿；2、进料管；201、密封盖；3、称量腔；301、第一圆孔；302、第一阀门；4、下料腔；401、下料管；5、气泵；501、气体管道；502、气压传感器；503、控制器；504、圆槽；6、出料管；601、第二阀门；7、称重传感器；701、固定板；702、显示屏；703、拉杆；704、移动板；705、第二圆孔；706、伸缩杆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

实施例1：请参阅图1、图2和图3，一种硅烷处理剂用均匀注入装置，包括主体1、气泵5和称重传感器7，主体1的外壁安装有气泵5，主体1的内壁安装有固定板701，固定板701的顶部安装有称重传感器7，主体1的顶端贯穿安装有进料管2，主体1的内壁安装有称量腔3，主体1的底端贯穿安装有出料管6，主体1的底部安装有支撑腿101，进料管2的顶端安装有密封盖201，称量腔3的顶端开设有第一圆孔301，称量腔3的内壁贯穿安装有第一阀门302，下料腔4的顶端贯穿安装有下料管401，且下料管401的顶端延伸进称量腔3的内壁，出料管6的内壁贯穿安装有第二阀门601，主体1为气泵5提供安装位置，主体1为固定板701提供安装位置，固定板701为称重传感器7提供安装位置，主体1为称量腔3提供安装位置，支撑腿101对主体1起支撑作用，进料管2为密封盖201提供安装位置，从进料管2内倒入硅烷处理剂，通过第一圆孔301流进称量腔3内，称重传感器7对称量腔3内的硅烷处理剂进行称量，第一阀门302打开称量腔3内的硅烷处理剂通过下料管401流进下料腔4内，打开第二阀门601，硅烷处理剂则会流出。

实施例2：请参阅图1和图3，气泵5的外壁安装有气体管道501，主体1的内壁安装有下料腔4，且气体管道501的一端延伸进下料腔4的内壁，下料腔4的内部顶壁安装有气压传感器502，主体1的顶端安装有控制器503，下料腔4的内部底壁开设有圆槽504，气泵5通过气体管道501向下料腔4内充气，主体1为下料腔4提供安装位置，气压传感器502用来检测下料腔4内的气压情况，主体1为控制器503提供安装位置，圆槽504为均匀孔径的圆形通槽，称量好的硅烷处理剂流入到下料腔4内，气压传感器502将检测到的信号传递给控制器503，气压值发生变化时，控制器503控制气泵5向下料腔4内充气，使得下料腔4内的气压一直保持稳定，硅烷处理剂的流速就会保持不变，再经过均匀孔径的圆槽504切分流向出料管6，使得硅烷处理剂注入均匀。

实施例3：请参阅图3和图4，主体1的顶端安装有显示屏702，主体1的外壁贯穿安装有拉杆703，且拉杆703的一端延伸进称量腔3的内壁，称量腔3的内壁安装有伸缩杆706，伸缩杆706的一端安装有移动板704，且移动板704的一端与拉杆703的一端连接，移动板704的顶部开设有第二圆孔705，主体1为显示屏702提供安装位置，主体1为拉杆703提供安装位置，称量腔3为伸缩杆706提供安装位置，伸缩杆706可使得移动板704在称量腔3内来回移动，从进料管2内倒入的硅烷处理剂，先通过第一圆孔301再通过第二圆孔705流进称量腔3内，称重传感器7开始称量，使用者可通过显示屏702观察称重的量，当数值快要接近预定值时，拉动拉杆703，带动移动板704移动，移动板704上的第二圆孔705与第一圆孔301开始交错，使得流进称量腔3内的硅烷处理剂开始缓慢减少，达到要使用值时，拉动拉杆703通过移动板704将第一圆孔301全部堵住，从而完成了对硅烷处理剂的称量。

工作原理，打开密封盖201，从进料管2内倒入硅烷处理剂，先通过第一圆孔301再通过第二圆孔705流进称量腔3内，称重传感器7开始称量，使用者可通过显示屏702观察称重的量，拉动拉杆703通过移动板704可将第一圆孔301全部堵住，打开第一阀门302，称量腔3内的硅烷处理剂通过下料管401流进下料腔4内，气压传感器502将检测到的信号传递给控制器503，控制器503控制气泵5向下料腔4内充气，使得下料腔4内的气压一直保持稳定，硅烷处理剂的流速就会保持不变，再经过均匀孔径的圆槽504切分流向出料管6，打开第二阀门601，硅烷处理剂从出料管6内流出。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (7)

1.一种硅烷处理剂用均匀注入装置，包括主体(1)、气泵(5)和称重传感器(7)，其特征在于：所述主体(1)的外壁安装有气泵(5)，所述主体(1)的内壁安装有固定板(701)，所述固定板(701)的顶部安装有称重传感器(7)；

所述气泵(5)的外壁安装有气体管道(501)，所述主体(1)的内壁安装有下料腔(4)，且气体管道(501)的一端延伸进下料腔(4)的内壁，所述下料腔(4)的内部顶壁安装有气压传感器(502)，所述主体(1)的顶端安装有控制器(503)，所述下料腔(4)的内部底壁开设有圆槽(504)；

所述主体(1)的顶端贯穿安装有进料管(2)，所述主体(1)的内壁安装有称量腔(3)，所述主体(1)的底端贯穿安装有出料管(6)。

2.根据权利要求1所述的一种硅烷处理剂用均匀注入装置，其特征在于：所述主体(1)的顶端安装有显示屏(702)，主体(1)的外壁贯穿安装有拉杆(703)，且拉杆(703)的一端延伸进称量腔(3)的内壁，称量腔(3)的内壁安装有伸缩杆(706)，伸缩杆(706)的一端安装有移动板(704)，且移动板(704)的一端与拉杆(703)的一端连接，移动板(704)的顶部开设有第二圆孔(705)。

3.根据权利要求1所述的一种硅烷处理剂用均匀注入装置，其特征在于：所述主体(1)的底部安装有支撑腿(101)。

4.根据权利要求1所述的一种硅烷处理剂用均匀注入装置，其特征在于：所述进料管(2)的顶端安装有密封盖(201)。

5.根据权利要求1所述的一种硅烷处理剂用均匀注入装置，其特征在于：所述称量腔(3)的顶端开设有第一圆孔(301)，称量腔(3)的内壁贯穿安装有第一阀门(302)。

6.根据权利要求1所述的一种硅烷处理剂用均匀注入装置，其特征在于：所述下料腔(4)的顶端贯穿安装有下料管(401)，且下料管(401)的顶端延伸进称量腔(3)的内壁。

7.根据权利要求1所述的一种硅烷处理剂用均匀注入装置，其特征在于：所述出料管(6)的内壁贯穿安装有第二阀门(601)。

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