CN215033377U - 一种用于精密铸造的真空灌浆设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于机床加工技术领域，提供了一种用于精密铸造的真空灌浆设备，包括真空控制系统、真空搅拌机构和真空灌浆机构；真空搅拌机构包括搅拌罐、马达、引流管和置于搅拌罐内的搅拌棒，搅拌棒由马达驱动；真空灌浆机构包括灌浆箱体，灌浆箱体的顶部固定支撑搅拌罐的底部；引流管的一端内置到灌浆箱体中，引流管的另一端与搅拌罐连通；真空控制系统分别控制搅拌罐和灌浆箱体的真空度。从搅拌到灌浆，石膏浆始终处于真空状态下，石膏和水的混合物由于真空作用，内部不会产生气泡缺陷，在这种情况下形成的石膏壳体表面无气泡，铸造出来的零件表面光滑，大大减少了后期整形的工作量。

Description

一种用于精密铸造的真空灌浆设备

技术领域

本实用新型涉及机电设备技术领域，尤其涉及一种用于精密铸造的真空灌浆设备。

背景技术

灌浆工艺是熔模石膏型精密铸造重要的工艺之一，灌浆工序直接影响铸件成型后的表面质量。

熔模石膏型精密铸造一般采用手工或者电动搅拌，自然状态下灌浆，铸件表面由于灌浆阶段存在气泡，导致铸造成型后表面豆类缺陷比较多，后期整形工作量比较大。

实用新型内容

本实用新型为了解决石膏在搅拌和灌浆存在气泡的问题，提出了一种能够减少石膏壳体表面气泡的一种用于精密铸造的真空灌浆设备。为实现上述目的，本实用新型采用以下具体技术方案：

一种用于精密铸造的真空灌浆设备，包括：真空控制系统、真空搅拌机构、真空灌浆机构；

所述真空搅拌机构包括搅拌罐、马达、引流管和置于所述搅拌罐内的搅拌棒，所述搅拌棒由所述马达驱动；

所述真空灌浆机构包括灌浆箱体，所述灌浆箱体的顶部固定支撑所述搅拌罐的底部；

所述引流管的一端内置到所述灌浆箱体中，所述引流管的另一端与所述搅拌罐连通；

所述真空控制系统分别控制所述搅拌罐和所述灌浆箱体的真空度。

进一步的，所述真空灌浆设备还包括围绕所述引流管的多个支柱，所述支柱的一端固定连接所述灌浆箱体的顶部，所述支柱的另一端固定连接所述搅拌罐的底部。

进一步的，多个所述支柱均布在所述引流管的周向。

进一步的，所述支柱为中空结构，并与所述灌浆箱体的顶部和所述搅拌罐的底部均连通。

进一步的，所述真空控制系统包括真空管道和真空罐，所述真空管道依次设有与所述搅拌罐连通的第一吸入口和与所述灌浆箱体连通的第二吸入口，所述真空管道的出口与所述真空罐连接。

进一步的，所述搅拌罐的顶部设置有所述真空管道、三通管和压力表，所述三通管的第一管口连接所述压力表，所述三通管的第二管口通过真空管道阀门连接所述真空管道，所述三通管的第三管口连通所述搅拌罐的内部。

进一步的，所述马达设置于所述搅拌罐的顶部的外侧。

进一步的，所述搅拌罐包括搅拌罐盖和罐体，所述罐体靠近所述灌浆箱体的一端为漏斗状，所述漏斗的出口连接所述引流管。

进一步的，所述灌浆箱体还包括底板，所述底板放置于所述灌浆箱体的底面上，且所述底板相对所述灌浆箱体的底面可移动。

进一步的，所述底板的底部设有滚轮。

本实用新型能够取得以下技术效果：

本实用新型提供的一种用于精密铸造的真空灌浆设备操作简单。真空控制系统是保证搅拌过程中搅拌罐始终处于真空状态，气泡缺陷在搅拌过程中予以消除，搅拌好的石膏进入灌浆箱体，灌浆箱体连接的的真空控制系统提前将灌浆区抽真空，灌浆整个过程处于真空状态。从搅拌到灌浆，石膏浆始终处于真空状态下，石膏和水的混合物由于真空作用，内部不会产生气泡缺陷，在这种情况下形成的石膏壳体表面无气泡，铸造出来的零件表面光滑，大大减少了后期整形的工作量。

附图说明

图1为本实用新型公开的空灌浆设备的结构示意图。

附图标记：

11、真空管道；2、真空搅拌机构；211、拌罐盖；212、罐体；22、搅拌棒；23、马达；24、引流管；3、真空灌浆机构；31、灌浆箱体；311、底板；4、支柱。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，而不构成对本实用新型的限制。

本实用新型的目的是提供一种消除气泡的一种用于精密铸造的真空灌浆设备。下面将对本实用新型提供的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，通过具体实施例来进行详细说明。

图1示出了本实用新型的一种用于精密铸造的真空灌浆设备的结构，如图1所示，包括真空控制系统、真空搅拌机构2和真空灌浆机构3。

真空搅拌机构包括搅拌罐、马达23、引流管24和置于搅拌罐内的搅拌棒22，搅拌棒22由马达23驱动。真空搅拌机构安装驱动搅拌棒22的气动类型的马达23，由马达23控制搅拌棒22的旋转，通过真空控制系统控制搅拌罐在真空状态下搅拌石膏和水混合物。

优选的，马达23安装在搅拌罐的顶部的外侧，利于维修马达23并且与安装在搅拌罐内部相比，工作环境更好，便于延长使用寿命。

优选的，搅拌罐包括搅拌罐盖211和罐体212，罐体212靠近灌浆箱体31的一端为漏斗状，漏斗的出口连接引流管24。罐体212的一端自带漏斗功能，便于石膏浆集中流入到引流管24中。更为具体的，罐体212的上半部分是易于加工的圆筒，下半部分是空心的倒立的圆锥，形成漏斗功能。罐体212为圆柱与圆锥结合的不锈钢容器，上端的搅拌罐盖211也为不锈钢，搅拌罐盖211的上侧集成真空控制系统。罐体212与搅拌罐盖211之间采用密封条实现密封。

真空灌浆机构3包括灌浆箱体31，是一个长方体不锈钢箱体，箱门采用密封条密封。真空控制管道从灌浆箱体31的顶部连通灌浆箱体31，灌浆箱体31顶部有压力表、观察窗，便于观察箱内情况。

灌浆箱体31的顶部固定支撑搅拌罐的底部。引流管24的一端内置到灌浆箱体31中，引流管24的另一端与搅拌罐连通。真空搅拌机构2位于灌浆箱体31的上部，石膏浆通过引流管24从搅拌罐利用重力流入到灌浆箱体31中，节省能源与空间。

使用本领域常用的真空设备如真空罐能够分别实现对真空搅拌机构2和真空灌浆机构3抽真空，使用真空控制系统控制真空设备是真空设备领域的常用技术手段，这里不再赘述。

本实用新型的一个优选实施例中，真空控制系统包括真空管道11和真空罐，真空管道11分别设有与搅拌罐连通的第一吸入口和与灌浆箱体31连通的第二吸入口，真空管道11的出口与真空罐连接。真空设备通过择一连通第二吸入口和第一吸入口实现分别独立对搅拌罐和灌浆箱体31进行吸气抽真空。

本实用新型的一个优选实施例中，真空灌浆设备还包括围绕引流管24的多个支柱4，支柱4的一端固定连接灌浆箱体31的顶部，支柱4的另一端固定连接搅拌罐的底部。通过支柱4实现灌浆箱体31的顶部固定支撑搅拌罐的底部，支柱4设置在搅拌罐的底部，节省空间。

优选的，多个支柱4均布在引流管24的周向。支柱4更加均匀平稳的支撑搅拌罐。

优选的，支柱4为中空结构，并与灌浆箱体31的顶部和搅拌罐的底部均连通。空心的支柱4便于隐藏一些电线等位于灌浆箱体31和搅拌罐之间的零件，美化外观，又不易沾染石膏浆。

如隐藏置于搅拌罐和灌浆箱体31之间的部分的真空管道11，真空管道11的一端连通灌浆箱体31，真空管道11的另一端连接真空罐，真空管道11的中间部分依次穿设支柱4和搅拌罐。如引流管24外也可套设一个空心支柱，引流管24作为搅拌罐与灌浆箱体31的连接通道，通道中间由灌注阀控制石膏浆的流通。

搅拌罐的顶部设置有真空管道11、三通管和压力表，三通管的第一管口连接压力表，三通管的第二管口通过真空管道阀门连接真空管道11，三通管的第三管口连通述搅拌罐的内部。真空管道11通过三通管的第三管口继续向搅拌罐内延伸，穿过空心的支柱4后进入灌浆箱体31内，其开口可以设置为第二吸入口，由灌注箱真空阀进行开启的控制。真空管道11在搅拌罐内延伸的部分设置有第一吸入口，由阀体进行开启的控制。

本实用新型的一个优选实施例中，灌浆箱体31还包括底板311，底板311放置于灌浆箱体31的底面上，且底板311相对灌浆箱体31的底面可移动。灌浆箱体31内放置一个可以调整位置的底板311，工作时将石膏箱体放置在底板311上，调整位置便于石膏箱对准引流管24。完成真空灌浆工序后，将前端箱门打开，将石膏箱体运送到合适的位置静置。

优选的，底板311的底部设有滚轮，便于移动位置。

使用时：1、灌浆前，先检查搅拌罐与灌浆箱体31运行是否正常，各密封环节是否漏气，真空是否能抽到位。2、将引流管24放在石膏箱体内，确定灌注位置。引流管24的灌浆口放置适当位置，可推动底板311进行微调。3、手工搅拌石膏浆。4、将手工搅拌均匀的浆料倒入搅拌罐中。开启真空管道阀门，待压力表显示为需要的真空度时，开启搅拌。5、开启控制真空管道11与灌浆箱体31能够连通的灌注箱真空阀，使真空度为工艺需要的真空度时，搅拌适当时间后，开始灌注。6、灌浆完毕后关闭相关机构，带底板311取出石膏箱体。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本实用新型的限制，本领域的普通技术人员在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

以上本实用新型的具体实施方式，并不构成对本实用新型保护范围的限定。任何根据本实用新型的技术构思所作出的各种其他相应的改变与变形，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，包括：真空控制系统、真空搅拌机构(2)和真空灌浆机构(3)；

所述真空搅拌机构(2)包括搅拌罐、马达(23)、引流管(24)和置于所述搅拌罐内的搅拌棒(22)，所述搅拌棒(22)由所述马达(23)驱动；

所述真空灌浆机构(3)包括灌浆箱体(31)，所述灌浆箱体(31)的顶部固定支撑所述搅拌罐的底部；

所述引流管(24)的一端内置到所述灌浆箱体(31)中，所述引流管(24)的另一端与所述搅拌罐连通；

所述真空控制系统分别控制所述搅拌罐的真空度和所述灌浆箱体(31)的真空度。

2.根据权利要求1所述的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，所述真空灌浆设备还包括围绕所述引流管(24)的多个支柱(4)，所述支柱(4)的一端固定连接所述灌浆箱体(31)的顶部，所述支柱(4)的另一端固定连接所述搅拌罐的底部。

3.根据权利要求2所述的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，多个所述支柱(4)均布在所述引流管(24)的周向。

4.根据权利要求2所述的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，所述支柱(4)为中空结构，并与所述灌浆箱体(31)的顶部和所述搅拌罐的底部均连通。

5.根据权利要求1所述的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，所述真空控制系统包括真空管道(11)和真空罐，所述真空管道(11)包括与所述搅拌罐连通的第一吸入口和与所述灌浆箱体(31)连通的第二吸入口，所述真空管道(11)的出口与所述真空罐连接。

6.根据权利要求5所述的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，所述搅拌罐的顶部设置有所述真空管道(11)、三通管和压力表，所述三通管的第一管口连接所述压力表，所述三通管的第二管口通过真空管道阀门连接所述真空管道(11)，所述三通管的第三管口连通所述述搅拌罐的内部。

7.根据权利要求1所述的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，所述马达(23)设置于所述搅拌罐的顶部的外侧。

8.根据权利要求1所述的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，所述搅拌罐包括搅拌罐盖(211)和罐体(212)，所述罐体(212)靠近所述灌浆箱体(31)的一端为漏斗状的结构，漏斗的出口连接所述引流管(24)。

9.根据权利要求1所述的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，所述灌浆箱体(31)还包括底板(311)，所述底板(311)设置于所述灌浆箱体(31)的底面上，且所述底板(311)相对所述灌浆箱体(31)的底面可移动。

10.根据权利要求9所述的一种用于精密铸造的真空灌浆设备，其特征在于，所述底板(311)的底部设有滚轮。

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