CN215581776U - 一种加热系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种加热系统，所述的加热系统包括：安装支架，所述安装支架内设有加热腔，所述安装支架上设有多个安装通孔，所述安装支架至少设置一个进料口；微波发生组件，所述微波发生组件位于所述加热腔内，所述微波发生组件包括多个磁控管，所述多个磁控管设置在所述安装通孔处，所述多个磁控管至少位于所述安装支架的其中一侧。本实用新型提供的加热系统结构紧凑、占用空间小，加热效率高、加热均匀性好。

Description

一种加热系统

技术领域

本实用新型涉及加热烹调技术领域，特别是涉及一种加热系统。

背景技术

现有工业熟化设备包括多个熟化腔、传送轨道及控制系统，微波发生器设于多个熟化腔内，因此熟化设备的占用空间大，结构复杂，只能用于较大操作空间的场所内，因此使用场景受到一定限制。另外，现有的工业熟化设备，由于设备空间大而经常出现加热不均匀、加热效率低的问题，一定程度上影响了熟化设备的加热效果。

实用新型内容

基于此，有必要针对现有熟化设备体积大、占用空间多、加热不均匀、加热效率低等问题，提供一种结构紧凑、占用空间小且加热效率高的加热系统，该加热系统能够应用于现有的熟化设备中，以改善现有熟化设备的加热效果。

一种加热系统，所述的加热系统包括：安装支架，所述安装支架内设有加热腔，所述安装支架上设有多个安装通孔，所述安装支架至少设置一个进料口；微波发生组件，所述微波发生组件位于所述加热腔内，所述微波发生组件包括多个磁控管，所述多个磁控管设置在所述安装通孔处，所述多个磁控管至少位于所述安装支架的其中一侧。

上述加热系统，微波发生组件通过安装支架上的安装孔固定连接于安装支架的加热腔内，从而在加热腔内形成微波加热容腔，安装支架上还设置有进料口，用于将物料放置于加热腔内进行微波加热。上述的加热系统，微波发生组件包括多个磁控管，从而可以提高加热系统的微波加热效率，提高加热性能。

多个磁控管可以安装在安装支架的任意一侧，在提高加热系统微波加热效率的同时，可以保证加热的均匀性，减少加热死角，提高物料加热的质量。

优选地，多个磁控管分别设置在安装支架的上下两侧，可以在减少加热死角，提高加热效率的同时，进一步提高加热腔不同位置的加热均匀性。

在其中一个实施例中，所述微波发生组件包括第一磁控管和第二磁控管，所述第一磁控管与所述第二磁控管在所述安装支架上对应设置。

上述的加热系统，微波发生组件包括第一磁控管和第二磁控管，通过设置两个磁控管，且两个磁控管可以分别设置在安装支架的相对两个安装平面上，也可以分别设置在安装支架同一安装平面上，从而保证了加热系统微波加热的均匀性的同时，还可以进一步优化磁控管的设置数量，可以减少加热系统的体积，有利于优化了加热系统的安装空间，节约制造成本。

在其中一个实施例中，所述第一磁控管和所述第二磁控管设置于所述安装支架的其中一面，所述安装支架的安装平面按照相互交错的中心线分成四份，所述第一磁控管和第二磁控管设置在相对的两份中。

上述的加热系统，第一磁控管和第二磁控管设置于安装支架的同一侧的安装平面上，且将第一磁控管和第二磁控管所处的安装平面分成四份，第一磁控管和第二磁控管位于安装平面相对的其中两份之中。此时第一磁控管和第二磁控管的磁场发生方向不一致，从而使微波的发生角度呈多样化，进一步地加热腔内各处微波反射的角度也呈多样化，使加热腔内各处均能接收到微波，防止出现加热死角，加热腔各位置的加热效果更均匀。

优选地，第一磁控管的阴极和阳极，以及第二磁控管的阴极和阳极的方向呈一定的夹角，或呈垂直角度设计。

在其中一个实施例中，所述微波发生组件还包括第三磁控管和第四磁控管，所述第一磁控管、第二磁控管位于所述安装支架的其中一个安装平面，所述第三磁控管、第四磁控管位于与所述第一磁控管和第二磁控管所处的安装平面相对的另外一个安装平面上。

上述的加热系统，微波发生组件还包括第三磁控管和第四磁控管，第三磁控管和第四磁控管设置于安装支架的同一安装平面上，且第三磁控管和第四磁控管的安装平面与第一磁控管和第二磁控管所处的安装平面相对设置，即加热腔内两相对安装平面上分别设置有两个磁控管。上述设计通过在安装支架的安装平面位置上均设置磁控管，在保证加热系统结构紧凑的前提下，进一步促进了加热腔内的微波加热效果的均匀性。

优选地，第一磁控管和第二磁控管的阴极和阳极位置设置方向，以及第三磁控管和第四磁控管的阴极和阳极位置设置方向均不相同，如呈一定的夹角，或呈角度垂直设计，以实现微波发生和反射角度的多样化，有利于提高微波加热的均匀性，防止出现加热死角。

在其中一个实施例中，所述第三磁控管和所述第四磁控管所处的安装平面按照相互交错的中心线分成四份，所述第三磁控管和第四磁控管设置在相对的两份中。

上述的加热系统中，进一步地，第三磁控管和第四磁控管设置于安装支架的同一侧面上，且位于同一安装平面的不同位置。此时两个磁控管的分布位置相对设置，微波加热位置更均匀，可以防止出现加热死角，加热腔各位置的加热效果更好。

在其中一个实施例中，所述第一磁控管与所述第二磁控管的安装距离为10cm～70cm，所述第三磁控管和所述第四磁控管的安装距离为10cm～70cm。

上述的加热系统，第一磁控管和第二磁控管之间的安装距离为10cm～70cm时，且第三磁控管和第四磁控管的安装距离为10cm～70cm时，加热系统的微波反射作用最佳，且不容易出现各磁控管之间干扰和磁场相抵的问题，加热系统的加热效率和加热均匀性均较好。

在其中一个实施例中的加热系统，还包括搅拌装置，所述搅拌装置包括驱动机构和搅拌叶组件，所述驱动机构与所述搅拌叶组件连接，所述驱动机构设置在所述安装支架上，所述搅拌装置设置于所述多个磁控管之间。

在上述的加热系统中，还包括搅拌装置，搅拌装置在加热腔内转动时，周期性地改变磁控管的负载状态，从而引起磁控管有较大频率牵引，磁控管的工作频率在一个频域内随着搅拌器的转动而周期性地变化，有利于加热腔内激起更多的电磁场模式。当搅拌装置的搅拌叶组件转动时，加热腔各模式的谐振频率发生周期性的变化，相当于叠加驻波场的波腹和波节位置不断位移，从而改善加热腔内微波场分布的均匀性。

在其中一个实施例中，所述搅拌叶组件包括扇叶和驱动轴，所述驱动轴一端与所述扇叶连接，另一端与所述驱动机构连接，所述扇叶沿周向设置有多个U形缺口。

上述的加热系统，进一步地，搅拌装置的搅拌叶组件上设有扇叶，扇叶在驱动轴上均匀分布，且扇叶沿周向设置有多个U形缺口。

优选地，搅拌叶组件的扇叶片数量为三片，搅拌叶组件为三等份的圆弧状搅拌装置，可以避免微波打火和能量泄漏，搅拌均匀性更好。

优选地，扇叶采用金属不锈钢材料，或者采用机械强度高、介质损耗低的聚四氟乙烯非金属材料制成，可以防止微波能量沿搅拌装置轴泄漏。

在其中一个实施例中的加热系统，还包括加热盘组件，所述安装支架的内壁上还设有安装槽，所述加热盘组件卡合于所述安装支架的所述安装槽处。

上述的加热系统，还包括加热盘组件，加热盘组件通过安装支架内壁上的安装槽卡合于加热腔内，加热盘组件用于承接物料，并接收微波发生组件中微波所传递的能量对物料进行加热。

在其中一个实施例中，所述加热盘组件与所述微波发生组件的垂直距离为30cm～100cm。

上述的加热系统，加热盘组件与微波发生组件的垂直距离为设置为30cm～100cm的范围，可以在保证微波发生组件加热效率和加热均匀性的同时，为加热盘组件的多层设置提供技术基础。

在其中一个实施例中，所述加热盘组件包括至少两个加热盘，所述至少两个加热盘沿所述安装支架的高度方向设置。

上述的加热系统，加热盘组件包括至少两个加热盘，从而大幅度提升加热系统的物料加热处理能力。而至少两个加热盘沿安装支架的高度方向设置，在保证加热物料数量的基础上，还能进一步优化加热系统的加热空间，使加热系统的结构更紧凑，减少了使用上述加热系统的加热设备的占地面积，节约了生产成本。

附图说明

图1为本实用新型所述加热系统的安装支架的结构示意图；

图2为本实用新型所述加热系统的结构示意图一；

图3为本实用新型所述加热系统的结构示意图二；

图4为本实用新型其中一个实施例所述第一安装平面的示意图；

图5为本实用新型其中一个实施例所述第二安装平面的示意图；

图6为本实用新型所述搅拌装置的安装位置图一；

图7为本实用新型所述搅拌装置的安装位置图二；

图8为本实用新型所述搅拌装置的结构示意图一；

图9为本实用新型所述搅拌装置的结构示意图二。

其中，附图标记与部件名称之间的对应关系为：

1安装支架，11安装槽，12第一安装平面，121第一安装平面第一区域，122第一安装平面第二区域，123第一安装平面第三区域，124第一安装平面第四区域，13第二安装平面，131第二安装平面第一区域，132第二安装平面第二区域，133第二安装平面第三区域，134第二安装平面第四区域；

2微波发生组件，21磁控管，211第一磁控管，212第二磁控管，213第三磁控管，214第四磁控管；

3搅拌装置，31驱动机构，32搅拌叶组件，321扇叶，322驱动轴；

4加热盘组件，41加热盘；

101加热腔，102安装通孔。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是，本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

下面参照附图描述本发明一些实施例所述加热系统。

如图1至图2所示，本实施例公开了一种加热系统，包括：安装支架1，安装支架1内设有加热腔101，安装支架1上设有多个安装通孔102，安装支架1至少设置一个进料口；微波发生组件2，微波发生组件2位于加热腔101内，微波发生组件2包括多个磁控管21，多个磁控管21设置在安装通孔102处，多个磁控管21至少位于安装支架1的其中一侧。

上述加热系统，微波发生组件2通过安装支架1上的安装孔102固定连接于安装支架1的加热腔101内，从而在加热腔101内形成微波加热容腔，安装支架1上还设置有进料口，用于将物料放置于加热腔101内进行微波加热。上述的加热系统，微波发生组件2包括多个磁控管21，从而可以提高加热系统的微波加热效率，提高加热性能。

多个磁控管21可以安装在安装支架1的任意一侧，在提高加热系统微波加热效率的同时，可以保证加热的均匀性，减少加热死角，提高物料加热的质量。

优选地，多个磁控管21分别设置在安装支架1的上下两侧，可以在减少加热死角，提高加热效率的同时，进一步提高加热腔101不同位置的加热均匀性。

如图3所示，除上述实施例的特征以外，本实施例进一步限定了：微波发生组件2包括第一磁控管211和第二磁控管212，第一磁控管211与第二磁控管212在安装支架1上对应设置。

上述的加热系统，微波发生组件2包括第一磁控管211和第二磁控管212，通过设置两个磁控管，且两个磁控管可以分别设置在安装支架1的相对两个安装平面上，也可以分别设置在安装支架1同一安装平面上，从而保证了加热系统微波加热的均匀性的同时，还可以进一步优化磁控管的设置数量，可以减少加热系统的体积，有利于优化了加热系统的安装空间，节约制造成本。

如图4所示，进一步地，第一磁控管211和第二磁控管212设置于安装支架1的第一安装平面12上，安装支架1的第一安装平面12按照相互交错的中心线分成四份，分别为第一安装平面第一区域121、第一安装平面第二区域122、第一安装平面第三区域123和第一安装平面第四区域124，第一磁控管211和第二磁控管212分别设置于第一区域121和第四区域124上，或分别设置于第二安装区域122和第三安装区域123上。

上述的加热系统，第一磁控管211和第二磁控管212设置于安装支架1的同一侧的安装平面上，且将第一磁控管211和第二磁控管212所处的安装平面分成四份，第一磁控管211和第二磁控管212位于安装平面相对的其中两份之中。此时第一磁控管211和第二磁控管212的磁场发生方向不一致，从而使微波发生的角度呈多样化，进一步地加热腔101内各处微波反射的角度也呈多样化，使加热腔101内各处均能接收到的微波，防止出现加热死角，加热腔101各位置的加热效果更均匀。

优选地，第一磁控管211的阴极和阳极，以及第二磁控管212的阴极和阳极的方向呈一定的夹角，或呈垂直角度设计。

如图3所示，在本实施例中的加热系统，微波发生组件2还包括第三磁控管213和第四磁控管214，第一磁控管211、第二磁控管212位于安装支架1的其中一个安装平面，如位于第一安装平面12上，第三磁控管213、第四磁控管214位于与第一磁控管211和第二磁控管212所处的安装平面相对的另外一个安装平面上，如位于第二安装平面13上。

上述的加热系统，微波发生组件2还包括第三磁控管213和第四磁控管214，第三磁控管213和第四磁控管214设置于安装支架1的同一安装平面上，且第三磁控管213和第四磁控管214的安装平面与第一磁控管211和第二磁控管212所处的安装平面相对设置，即加热腔101内两相对安装平面上分别设置有两个磁控管。上述设计通过在安装支架1的安装平面位置上均设置磁控管，在保证加热系统结构紧凑的前提下，进一步促进加热腔101内的微波加热效果的均匀性。

优选地，第一磁控管211和第二磁控管212的阴极和阳极位置设置方向，以及第三磁控管213和第四磁控管214的阴极和阳极位置设置方向均不相同，如呈一定的夹角，或呈角度垂直设计，以实现微波发生和反射角度的多样化，提高微波加热的均匀性。

如图5所示，进一步地，在本实施例中的加热系统，第三磁控管213和第四磁控管214所处的位于第二安装平面13上，且第二安装平面13按照相互交错的中心线分成四份，分别为第二安装平面第一区域131、第二安装平面第一二区域132、第二安装平面第三区域133、第二安装平面第四区域134，第三磁控管213和第四磁控管214分别设置于第一区域131和第四区域134上，或分别设置于第二区域132和第三区域133上。

上述的加热系统中，进一步地，第三磁控管213和第四磁控管214设置于安装支架1的同一侧面上，且位于同一安装平面的不同位置。此时两个磁控管的分布位置相对设置，微波加热位置更均匀，可以防止出现加热死角，加热腔101各位置的加热效果更好。

在本实施例中的加热系统，第一磁控管211与第二磁控管212的安装距离为10cm，第三磁控管213和第四磁控管214的安装距离为10cm。

上述的加热系统，第一磁控管211和第二磁控管212之间的安装距离为10cm时，且第三磁控管213和第四磁控管214的安装距离为10cm时，加热系统的结构紧凑，能满足小型化加热设备的安装需求，且加热热能集中，加热效率高，加热效果好。

在本实施例中的加热系统，第一磁控管211与第二磁控管212的安装距离为70cm，第三磁控管213和第四磁控管214的安装距离为70cm。

上述的加热系统，第一磁控管211和第二磁控管212之间的安装距离为70cm时，且第三磁控管213和第四磁控管214的安装距离为70cm时，能够在保证微波反射作用最佳、且不容易出现各磁控管之间干扰和磁场相抵问题的前提下，满足较大加热空间的需求，在保证加热均匀性的前提下，能进一步提高加热物料的处理数量和处理能力。

如图6-图7所示，在本实施例中的加热系统还包括搅拌装置3，搅拌装置3包括驱动机构31和搅拌叶组件32，驱动机构31与搅拌叶组件32连接，驱动机构31设置在安装支架1上，搅拌装置3设置于多个磁控管21之间。

在上述的加热系统中，还包括搅拌装置3，搅拌装置3在加热腔1内转动时，周期性地改变磁控管的负载状态，从而引起磁控管有较大频率牵引，磁控管的工作频率在一个频域内随着搅拌器的转动而周期性地变化，有利于加热腔1内激起更多的电磁场模式。当搅拌装置3的搅拌叶组件32转动时，加热腔1各模式的谐振频率发生周期性的变化，相当于叠加驻波场的波腹和波节位置不断位移，从而改善加热腔1内微波场分布的均匀性。

如图8-图9所示，在本实施例中，进一步地，搅拌叶组件32包括扇叶321和驱动轴322，驱动轴322一端与扇叶321连接，另一端与驱动机构31连接，扇叶321沿周向设置有多个U形缺口。

上述的加热系统，进一步地，搅拌装置3的搅拌叶组件上设有扇叶321，扇叶在驱动轴322上均匀分布，且扇叶321沿周向设置有多个U形缺口。

优选地，搅拌叶组件的扇叶片数量为三片，搅拌叶组件为三等份的圆弧状搅拌装置，可以避免微波打火和能量泄漏，搅拌均匀性更好。

优选地，扇叶321采用金属不锈钢材料，或者采用机械强度高、介质损耗低的聚四氟乙烯非金属材料制成，可以防止微波能量沿搅拌装置轴泄漏。

如图3所示，在本实施例中的加热系统，还包括加热盘组件4，安装支架1的内壁上还设有安装槽11，加热盘组件4卡合于安装支架1的安装槽11处。

上述的加热系统，还包括加热盘组件4，加热盘组件4通过安装支架1内壁上的安装槽11卡合于加热腔101内，加热盘组件4用于承接物料，并接收微波发生组件2中微波所传递的能量对物料进行加热。

本实施例中的加热系统，加热盘组件4与微波发生组件2的垂直距离为30cm。

上述的加热系统，加热盘组件4与微波发生组件2的垂直距离为设置为30cm，可以在保证微波发生组件2加热效率和加热均匀性的同时，使加热系统的结构更紧凑。

本实施例中的加热系统，加热盘组件4与微波发生组件2的垂直距离为100cm。

上述的加热系统，加热盘组件4与微波发生组件2的垂直距离为设置为100cm，可以在保证微波发生组件2加热效率和加热均匀性的同时，为加热盘组件4的多层设置提供技术基础。

如图3所示，在本实施例中的加热系统，加热盘组件4包括至少两个加热盘41，至少两个加热盘41沿安装支架1的高度方向设置。

上述的加热系统，加热盘组件4包括至少两个加热盘41，从而大幅度提升加热系统的物料加热处理能力。而至少两个加热盘41沿安装支架1的高度方向设置，在保证加热物料数量的基础上，还能进一步优化加热系统的加热空间，使加热系统的结构更紧凑，减少了使用上述加热系统的加热设备的占地面积，节约了生产成本。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种加热系统，其特征在于，所述的加热系统包括：

安装支架(1)，所述安装支架(1)内设有加热腔(101)，所述安装支架(1)上设有多个安装通孔(102)，所述安装支架(1)至少设置一个进料口；

微波发生组件(2)，所述微波发生组件(2)位于所述加热腔(101)内，所述微波发生组件(2)包括多个磁控管(21)，所述多个磁控管(21)设置在所述安装通孔(102)处，所述多个磁控管(21)至少位于所述安装支架(1)的其中一侧。

2.根据权利要求1所述的加热系统，其特征在于，所述微波发生组件(2)包括第一磁控管(211)和第二磁控管(212)，所述第一磁控管(211)与所述第二磁控管(212)在所述安装支架(1)上对应设置。

3.根据权利要求2所述的加热系统，其特征在于，所述第一磁控管(211)和所述第二磁控管(212)设置于所述安装支架(1)的其中一面，所述安装支架(1)的安装平面按照相互交错的中心线分成四份，所述第一磁控管(211)和第二磁控管(212)设置在相对的两份中。

4.根据权利要求3所述的加热系统，其特征在于，所述微波发生组件(2)还包括第三磁控管(213)和第四磁控管(214)，所述第一磁控管(211)、第二磁控管(212)位于所述安装支架(1)的其中一个安装平面，所述第三磁控管(213)、第四磁控管(214)位于与所述第一磁控管(211)和第二磁控管(212)所处的安装平面相对的另外一个安装平面上。

5.根据权利要求4所述的加热系统，其特征在于，所述第三磁控管(213)和第四磁控管(214)所处的安装平面按照相互交错的中心线分成四份，所述第三磁控管(213)和第四磁控管(214)设置在相对的两份中；和/或

所述第一磁控管(211)与所述第二磁控管(212)的安装距离为10cm～70cm，所述第三磁控管(213)和所述第四磁控管(214)的安装距离为10cm～70cm。

6.根据权利要求1所述的加热系统，其特征在于，还包括搅拌装置(3)，所述搅拌装置(3)包括驱动机构(31)和搅拌叶组件(32)，所述驱动机构(31)与所述搅拌叶组件(32)连接，所述驱动机构(31)设置在所述安装支架(1)上，所述搅拌装置(3)设置于所述多个磁控管(21)之间。

7.根据权利要求6所述的加热系统，其特征在于，所述搅拌叶组件(32)包括扇叶(321)和驱动轴(322)，所述驱动轴(322)一端与所述扇叶(321)连接，另一端与所述驱动机构(31)连接，所述扇叶(321)沿周向设置有多个U形缺口。

8.根据权利要求1～7任一一项所述的加热系统，其特征在于，还包括加热盘组件(4)，所述安装支架(1)的内壁上还设有安装槽(11)，所述加热盘组件(4)卡合于所述安装支架(1)的所述安装槽(11)处。

9.根据权利要求8所述的加热系统，其特征在于，所述加热盘组件(4)与所述微波发生组件(2)的垂直距离为30cm～100cm。

10.根据权利要求8所述的加热系统，其特征在于，所述加热盘组件(4)包括至少两个加热盘(41)，所述至少两个加热盘(41)沿所述安装支架(1)的高度方向设置。

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