CN215510495U - 一种无机陶瓷制备用抛光装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种无机陶瓷制备用抛光装置，包括升降机构和转动机构；升降机构包括底座、气缸和支撑板；气缸固定在底座上；支撑板水平固定在气缸上的活塞杆的顶部；转动机构包括双输出轴电机、两个转轴、清洗轮、圆形抛光轮和锥形抛光轮；双输出轴电机固定在所述支撑板上，两个转轴分别与双输出轴电机上的两个输出轴固定连接；清洗轮固定在任一转轴的一端，清洗轮的表面包覆有抹布；锥形抛光轮固定在另一转轴的一端，圆形抛光轮通过套接的方式固定在设有锥形抛光轮的转轴上。本实用新型，通过在双输出轴电机的两端分别设置清洗轮、圆形抛光轮和锥形抛光轮，实现其功能的多样性。

Description

一种无机陶瓷制备用抛光装置

技术领域

本实用新型属于无机陶瓷制备技术领域，尤其涉及一种无机陶瓷制备用抛光装置。

背景技术

陶瓷材料是指用天然或合成化合物经过成形和高温烧结制成的一类无机非金属材料。它具有高熔点、高硬度、高耐磨性、耐氧化等优点。可用作结构材料、刀具材料，由于陶瓷还具有某些特殊的性能，又可作为功能材料。

无机陶瓷在制备的过程中需要用到抛光装置进行表面抛光处理。公告号为CN210909462U的中国实用新型专利公开了一种新型的手动升降的陶瓷制备用抛光设备，其结构包括压板、电机、开关、转杆、齿轮、研磨盘、底座、外接电源线和升降装置，上述抛光设备，通过设置了升降装置，利用转动手柄转动螺纹杆使移动块左右移动，然后改变升降杆与支撑板之间的角度的大小，从而达到升降的效果，解决了现有技术无法实现使抛光设备的高度适合多数使用者，造成使用不便的问题。但是，当待抛光的陶瓷产品的表面为斜面时，上述装置在进行抛光时容易压坏陶瓷的表面，因此其适用范围相对有限。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的不足，本实用新型的目的在于：提供一种无机陶瓷制备用抛光装置，包括升降机构和转动机构；

所述升降机构包括底座、气缸和支撑板；所述气缸固定在底座上，且所述气缸上的活塞杆竖直向上设置；所述支撑板水平固定在所述气缸上的活塞杆的顶部；

所述转动机构包括双输出轴电机、两个转轴、清洗轮、圆形抛光轮和锥形抛光轮；所述双输出轴电机固定在所述支撑板上，两个所述转轴分别与双输出轴电机上的两个输出轴固定连接；所述清洗轮固定在任一转轴的一端，所述清洗轮的表面包覆有抹布；所述锥形抛光轮固定在另一转轴的一端，所述圆形抛光轮通过套接的方式固定在设有锥形抛光轮的转轴上。

优选地，所述底座上位于气缸的两侧竖直对称设有限位杆，所述支撑板套接在两个限位杆上。

优选地，所述限位杆的顶部设有挡块。

优选地，所述锥形抛光轮的一端设有螺纹孔，所述转轴的一端固定有与螺纹孔相适配的螺柱，所述锥形抛光轮通过螺纹孔固定在所述转轴上的螺柱上。

优选地，所述底座内设有空腔，所述空腔内设有塑料小球。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果：

（1）通过气缸实现支撑板的升降运动，使得支撑板到达合适高度对无机陶瓷进行抛光，通过在双输出轴电机的两端分别设置清洗轮、圆形抛光轮和锥形抛光轮，实现其功能的多样性，适配有斜面的无机陶瓷，对其进行表面抛光；

（2）结构简单，使用方便。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实施例中的一种无机陶瓷制备用抛光装置的结构示意图；

图2为本实施例中的一种无机陶瓷制备用抛光装置的侧视图；

图3为本实施例中的锥形抛光轮的结构示意图；

图4为本实施例中的底座内的空腔的结构示意图。

具体实施方式

下面将对本实用新型具体实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1~3所示，一种无机陶瓷制备用抛光装置，包括升降机构和转动机构；

所述升降机构包括底座1、气缸2和支撑板3；所述气缸2固定在底座1上，且所述气缸2上的活塞杆竖直向上设置；所述支撑板3水平固定在所述气缸2上的活塞杆的顶部；如此设置，通过气缸2上的活塞杆的升降实现支撑板3的升降运动；优选地，为了保证支撑板3运动的直线性，所述底座1上位于气缸2的两侧竖直对称设有限位杆7，所述支撑板3套接在两个限位杆7上。进一步地，所述限位杆7的顶部设有挡块8，防止支撑板3脱离限位杆7。

所述转动机构包括双输出轴电机4、两个转轴6、清洗轮10、圆形抛光轮5和锥形抛光轮9；

所述双输出轴电机4固定在所述支撑板3上，两个所述转轴6分别与双输出轴电机4上的两个输出轴固定连接，在双输出轴电机4的驱动下，实现两个转轴6的转动；所述清洗轮10固定在任一转轴6的一端，所述清洗轮10的表面包覆有抹布，用于对无机陶瓷的表面进行擦拭；所述锥形抛光轮9固定在另一转轴6的一端，所述圆形抛光轮5通过套接的方式固定在设有锥形抛光轮9的转轴6上。

在进行抛光时，首先驱动气缸2，使得支撑板3上升到合适高度，而后启动双输出轴电机4，对无机陶瓷的表面进行抛光，如无机陶瓷的表面为斜面，则使用锥形抛光轮9对其表面进行抛光，如为平面则使用圆形抛光轮5对其表面进行抛光处理，在处理的过程中，可以使用另一转轴6上的清洗轮10擦拭其表面。

进一步地，所述锥形抛光轮9的一端设有螺纹孔11，所述转轴6的一端固定有与螺纹孔11相适配的螺柱，所述锥形抛光轮9通过螺纹孔11固定在所述转轴6上的螺柱上，通过可拆卸式连接方便更换，另外针对不同斜度的无机陶瓷，也可更换不同的锥形抛光轮进行抛光，增加其适用性。

进一步地，如图4所示，所述底座1内设有空腔13，所述空腔13内设有塑料小球14，如此设置，可以通过空腔13内的塑料小球14吸收部分震动带来的能量，从而降低震动带来的不良影响。

以上对本实用新型所提供的一种无机陶瓷制备用抛光装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型的结构及工作原理进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实--用新型权利要求保护的范围内。

Claims (5)

1.一种无机陶瓷制备用抛光装置，其特征在于，包括升降机构和转动机构；

所述升降机构包括底座、气缸和支撑板；所述气缸固定在底座上，且所述气缸上的活塞杆竖直向上设置；所述支撑板水平固定在所述气缸上的活塞杆的顶部；

所述转动机构包括双输出轴电机、两个转轴、清洗轮、圆形抛光轮和锥形抛光轮；所述双输出轴电机固定在所述支撑板上，两个所述转轴分别与双输出轴电机上的两个输出轴固定连接；所述清洗轮固定在任一转轴的一端，所述清洗轮的表面包覆有抹布；所述锥形抛光轮固定在另一转轴的一端，所述圆形抛光轮通过套接的方式固定在设有锥形抛光轮的转轴上。

2.根据权利要求1所述的一种无机陶瓷制备用抛光装置，其特征在于，所述底座上位于气缸的两侧竖直对称设有限位杆，所述支撑板套接在两个限位杆上。

3.根据权利要求2所述的一种无机陶瓷制备用抛光装置，其特征在于，所述限位杆的顶部设有挡块。

4.根据权利要求1~3任一项所述的一种无机陶瓷制备用抛光装置，其特征在于，所述锥形抛光轮的一端设有螺纹孔，所述转轴的一端固定有与螺纹孔相适配的螺柱，所述锥形抛光轮通过螺纹孔固定在所述转轴上的螺柱上。

5.根据权利要求1~3任一项所述的一种无机陶瓷制备用抛光装置，其特征在于，所述底座内设有空腔，所述空腔内设有塑料小球。

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