CN215278008U - 一种纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置，包括喷嘴本体，喷嘴本体后端连接有液体帽和空气帽，喷嘴本体一侧设置有气体入口，喷嘴本体内部设有导流环槽，气体入口与导流环槽连通，液体帽前端设有气体导流孔，气体导流孔与喷嘴本体的导流环槽连通，喷嘴本体顶部设置有液体入口，液体入口与喷嘴本体内部的中间孔连通，中间孔的出液端设置有液体导流片，液体导流片上开设有导流孔，液体帽后端设有液体喷孔，空气帽后端设有喷孔，气体高速旋转后撞击从液体喷孔喷出的液体颗粒，并带动液体颗粒旋转后从喷孔喷出形成圆锥形喷雾；本实用新型喷雾型态更稳定，分布更均匀，能够实现细颗粒喷雾及颗粒分布均匀的纳米清洗功能。

Description

一种纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置

[技术领域]

本实用新型涉及喷嘴技术领域，具体地说是一种纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置。

[背景技术]

空气雾化嘴是工业应用领域的重要部件，可以应用在半导体行业，用于清洗工艺。喷嘴使用性能决定着整个设备的性能，对生产有着极为重要的意义。然而，众多喷嘴的使用性能不一，半导体行业对喷嘴的颗粒度和喷雾形态是特别严格的。现有的空气雾化喷嘴仅能初步实现应用要求，不能满足颗粒度，打击力、覆盖、角度、分布和喷雾形态等特定要求，不能保证清洗效果。

[实用新型内容]

本实用新型的目的就是要解决上述的不足而提供一种纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置，喷雾型态更稳定，分布更均匀，能够实现细颗粒喷雾及颗粒分布均匀的纳米清洗功能。

为实现上述目的设计一种纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置，包括喷嘴本体1、空气帽2、液体帽3、锁紧螺帽4和液体导流片5，所述喷嘴本体1后端连接有液体帽3和空气帽2，所述空气帽2设于液体帽3外前部，所述空气帽2、液体帽3与喷嘴本体1通过锁紧螺帽4连接为一体，所述喷嘴本体1一侧设置有气体入口1-1，所述喷嘴本体1内部设有导流环槽1-2，所述气体入口1-1与导流环槽1-2连通，所述液体帽3前端设有气体导流孔3-1，所述气体导流孔3-1与喷嘴本体1的导流环槽1-2连通，所述喷嘴本体1顶部设置有液体入口1-3，所述液体入口1-3与喷嘴本体1内部的中间孔连通，所述中间孔的出液端设置有液体导流片5，所述液体导流片5上开设有导流孔5-1，所述液体帽3后端设有液体喷孔3-2，所述空气帽2后端设有喷孔2-1，液体自液体入口1-3进入经过液体导流片5的导流孔5-1从液体喷孔3-2喷出完成一次雾化，气体自气体入口1-1进入经过导流环槽1-2、导流孔3-1高速旋转后，撞击经过液体导流片5从液体喷孔3-2喷出的液体颗粒，并带动液体颗粒旋转后从空气帽2的喷孔2-1喷出形成圆锥形喷雾。

进一步地，所述液体帽3与空气帽2之间形成旋转腔，所述旋转腔分别与气体导流孔3-1、喷孔2-1连通，经过导流孔3-1的气体在液体帽3与空气帽2形成的旋转腔内旋转后，撞击一次雾化后液滴，加速旋转后一起从喷孔2-1喷出形成圆锥形喷雾。

进一步地，所述气体入口1-1通过喷嘴本体1内的流道一连通导流环槽1-2，所述流道一为环形流道，所述液体入口1-3通过喷嘴本体1中心位置的流道二连通中间孔。

进一步地，所述喷嘴本体1与空气帽2采用无缝连接，所述喷嘴本体1与空气帽2外表面光滑过渡。

进一步地，所述液体导流片5上开设有三个导流孔5-1，所述三个导流孔5-1沿周向均匀分布。

本实用新型同现有技术相比，具有如下优点：

(1)本实用新型通过结构设计，雾化气体进入喷嘴本体的气体入口，经过内部导流气道，经过导流叶片，将气体均匀化，并高速旋转，撞击经过液体导流片从液体孔喷出的液体颗粒，带动液体颗粒旋转，最后从喷孔喷出，使细微的雾滴形成所需的圆锥形喷雾形态；

(2)本实用新型增加一个气体导流孔和液体导流片，将原来用在双流体喷嘴的本体，液体帽，空气帽，经过改进设计，实现细颗粒喷雾及颗粒分布均匀的纳米清洗功能；

(3)本实用新型将原来不喷稳定的喷雾形态，变得稳定，方便实际应用，喷雾边缘清晰，没有粗颗粒夹杂其中，也没有飞溅，同时解决了气体低流速下的均匀性问题；

(4)本实用新型在液体经过多级雾化后，得到大致稳定的喷雾型态的情况下，喷雾速度可调整，喷雾型态更稳定，分布更均匀，值得推广应用。

[附图说明]

图1a是本实用新型的剖视图；

图1b是本实用新型的立体结构示意图；

图2是本实用新型空气帽的结构示意图；

图3是本实用新型液体帽的结构示意图；

图4是本实用新型液体导流片的结构示意图；

图中：1、喷嘴本体 1-1、气体入口 1-2、导流环槽 1-3、液体入口 2、空气帽 2-1、喷孔 3、液体帽 3-1、气体导流孔 3-2、液体喷孔 4、锁紧螺帽 5、液体导流片 5-1、导流孔。

[具体实施方式]

下面结合附图对本实用新型作以下进一步说明：

如附图所示，本实用新型提供了一种纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置，包括喷嘴本体1、空气帽2、液体帽3、锁紧螺帽4和液体导流片5，喷嘴本体1后端连接有液体帽3和空气帽2，空气帽2设于液体帽3外前部，空气帽2、液体帽3与喷嘴本体1通过锁紧螺帽4连接为一体，喷嘴本体1一侧设置有气体入口1-1，喷嘴本体1内部设有导流环槽1-2，气体入口1-1与导流环槽1-2连通，液体帽3前端设有气体导流孔3-1，气体导流孔3-1与喷嘴本体1的导流环槽1-2连通，喷嘴本体1顶部设置有液体入口1-3，液体入口1-3与喷嘴本体1内部的中间孔连通，中间孔的出液端设置有液体导流片5，液体导流片5上开设有导流孔5-1，液体帽3后端设有液体喷孔3-2，空气帽2后端设有喷孔2-1，液体自液体入口1-3进入经过液体导流片5的导流孔5-1从液体喷孔3-2喷出完成一次雾化，气体自气体入口1-1进入经过导流环槽1-2、导流孔3-1高速旋转后，撞击经过液体导流片5从液体喷孔3-2喷出的液体颗粒，并带动液体颗粒旋转后从空气帽2的喷孔2-1喷出形成圆锥形喷雾。

其中，液体帽3与空气帽2之间形成旋转腔，旋转腔分别与气体导流孔3-1、喷孔2-1连通，经过导流孔3-1的气体在液体帽3与空气帽2形成的旋转腔内旋转后，撞击一次雾化后液滴，加速旋转后一起从喷孔2-1喷出形成圆锥形喷雾。气体入口1-1通过喷嘴本体1内的流道一连通导流环槽1-2，流道一为环形流道，液体入口1-3通过喷嘴本体1中心位置的流道二连通中间孔。喷嘴本体1与空气帽2采用无缝连接，喷嘴本体1与空气帽2外表面光滑过渡。液体导流片5上开设有三个导流孔5-1，三个导流孔5-1沿周向均匀分布。

本实用新型中，气体从喷嘴本体的气体入口进入，气体经过内部流道，从液体帽的导流孔旋转腔，气体旋转；液体从喷雾本体的液体入口进入，经过液体导流片的导流孔，获得旋转动力，从液体帽的液体孔喷出完成一次雾化。气体撞击一次雾化后液滴，使液体获得旋转动力，加速旋转，一起从空气帽的喷孔喷出，形成圆锥形的喷雾效果。喷嘴本体和空气帽的连接是无缝的，外表面光滑过渡，不易挂水，不易污染，所常比较优异的圆形或者圆锥形，越少的出现相贯线为佳。本实用新型整个工作过程是连贯的，只要根据工艺需求独立调整气体和液体流量即可，该空气帽在低气压、低流速下喷雾性能有均匀打击力，提高气压打击力增大但均匀性不变。

本实用新型增加一个气体导流孔和液体导流片，将原来用在双流体喷嘴的本体、液体帽、空气帽，经过改进设计，实现细颗粒喷雾及颗粒分布均匀的纳米清洗功能。气体进入喷嘴本体的气体入口，经过内部气道，经过导流叶片，气体高速旋转，撞击经过液体导流片从液体孔喷出的液体颗粒，带动液体颗粒旋转，最后从喷孔喷出，使雾滴形成所需的圆锥形喷雾形态。该喷嘴装置将原来不喷稳定的喷雾形态，变得稳定，方便实际应用；且喷雾边缘清晰，没有粗颗粒夹杂其中，也没有飞溅；同时该设计解决了气体低流速下的均匀性问题。

本实用新型并不受上述实施方式的限制，其他的任何未背离本实用新型的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置，包括喷嘴本体(1)、空气帽(2)、液体帽(3)、锁紧螺帽(4)和液体导流片(5)，其特征在于：所述喷嘴本体(1)后端连接有液体帽(3)和空气帽(2)，所述空气帽(2)设于液体帽(3)外前部，所述空气帽(2)、液体帽(3)与喷嘴本体(1)通过锁紧螺帽(4)连接为一体，所述喷嘴本体(1)一侧设置有气体入口(1-1)，所述喷嘴本体(1)内部设有导流环槽(1-2)，所述气体入口(1-1)与导流环槽(1-2)连通，所述液体帽(3)前端设有气体导流孔(3-1)，所述气体导流孔(3-1)与喷嘴本体(1)的导流环槽(1-2)连通，所述喷嘴本体(1)顶部设置有液体入口(1-3)，所述液体入口(1-3)与喷嘴本体(1)内部的中间孔连通，所述中间孔的出液端设置有液体导流片(5)，所述液体导流片(5)上开设有导流孔(5-1)，所述液体帽(3)后端设有液体喷孔(3-2)，所述空气帽(2)后端设有喷孔(2-1)，液体自液体入口(1-3)进入经过液体导流片(5)的导流孔(5-1)从液体喷孔(3-2)喷出完成一次雾化，气体自气体入口(1-1)进入经过导流环槽(1-2)、导流孔(5-1)高速旋转后，撞击经过液体导流片(5)从液体喷孔(3-2)喷出的液体颗粒，并带动液体颗粒旋转后从空气帽(2)的喷孔(2-1)喷出形成圆锥形喷雾。

2.如权利要求1所述的纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置，其特征在于：所述液体帽(3)与空气帽(2)之间形成旋转腔，所述旋转腔分别与气体导流孔(3-1)、喷孔(2-1)连通，经过导流孔(5-1)的气体在液体帽(3)与空气帽(2)形成的旋转腔内旋转后，撞击一次雾化后液滴，加速旋转后一起从喷孔(2-1)喷出形成圆锥形喷雾。

3.如权利要求1所述的纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置，其特征在于：所述气体入口(1-1)通过喷嘴本体(1)内的流道一连通导流环槽(1-2)，所述流道一为环形流道，所述液体入口(1-3)通过喷嘴本体(1)中心位置的流道二连通中间孔。

4.如权利要求1、2或3所述的纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置，其特征在于：所述喷嘴本体(1)与空气帽(2)采用无缝连接，所述喷嘴本体(1)与空气帽(2)外表面光滑过渡。

5.如权利要求1、2或3所述的纳米清洗技术提高半导体洁净度的喷嘴装置，其特征在于：所述液体导流片(5)上开设有三个导流孔(5-1)，所述三个导流孔(5-1)沿周向均匀分布。

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