CN214830785U - 一种气管结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型为一种气管结构，包括环形管以及连接管；连接管与环形管导通；环形管上设置有气孔；环形管设置于炉管内，环形管的外径小于炉管的内径；通过设置环形管作为进气管或者出气管，在环形管上设置一周的气孔，实现管内均匀的进气或者出气。

Description

一种气管结构

技术领域

本实用新型涉及半导体制造及太阳能光伏电池制造领域，特别是涉及一种气管结构。

背景技术

目前的光伏电池片制造设备，比如扩散炉、退火炉、氧化炉、低压化学气相沉积LPCVD、等离子增强化学气相沉积PECVD等大多是采用卧式多管设备，并且多管设备共用一个净化台和上下料设备。其中每根炉管都设置有独立的气路、桨、系统以及加热模块等。在上述的设备中扩散炉用于扩散的工艺，目的是为了制备PN节；退火炉用于激活掺杂元素、改变应力、改变晶态等用途；氧化炉用于在硅片表面制备氧化层；LPCVD设备用于生长隧穿氧化层、本征非晶硅、掺杂非晶硅和二氧化硅薄膜；PECVD设备具有镀氮化硅、碳化硅、氧化硅等功能。目前光伏产业的产能要求越来越高，传统的方法都是通过扩大炉管的管径实现提高产能的目的。传统的炉管都是采用直杆式的气管，并将气管布置在炉管内的底部位置，在气管上开设气孔实现出气和进气。传统的气管，由于气流都是从底部向上运动或者从上部向底部的气管运动，容易在靠近气管的部位形成堆积，导致管内气流不均匀。随着炉管管径和长度的增加，采用传统气管的炉管管内气流的均匀性问题就愈发凸显。管内气流不均匀，容易对裸露的硅片表面形成冲击，影响硅片的工艺效果，导致工艺产品成为残次品，提高了生产成本。因此需要一种使管内气流均匀的气管。

发明内容

本实用新型的目的是解决现有技术的不足，提供一种气管结构，结构简单，使用方便。

一种气管结构，包括环形管以及连接管；连接管与环形管导通；环形管上设置有气孔；环形管设置于炉管内，环形管的外径小于炉管的内径。

进一步的，所述环形管所处的平面与炉管的轴线垂直或近似垂直。

进一步的，所述环形管上设置有直管，直管用于与连接管连接；直管与环形管所在的平面垂直或近似垂直。

进一步的，所述连接管设置于炉尾，连接管穿过炉尾与外界连通。

进一步的，所述炉管的炉尾设置有套管，套管用于穿过连接管。

进一步的，所述气孔或者气孔组一设置于环形管上，每个气孔组一中包括至少两个气孔；同一个环形管上的每个气孔的朝向与垂直环形管所在平面的直线的夹角大小一致。

进一步的，所述环形管上设置有气孔组二；同一气孔组二的气孔位于环形管的同一管道径向截面上；气孔组二中包括至少两个气孔。

进一步的，所述环形管上的每个气孔都对应设置有一个朝向相反的气孔；实现环形管的双向均匀进出气。

进一步的，所述环形管上的气孔的朝向与环形管所在的平面垂直。

进一步的，所述环形管上的气孔的孔径一致。

本实用新型的有益效果为：

通过设置环形管作为进气管或者出气管，在环形管上设置一周的气孔，实现管内均匀的进气或者出气；

通过连接管将环形管与外部连通，实现对环形管的通气和抽气；

通过移动连接管能够在外部直接调节环形管在炉管内的位置，使用方便；

通过在环形管的径向平面内设置气孔组二，保证环形管在各个方向上都能够实现均匀进出气。

附图说明

图1为本实用新型实施例一的示意图；

图2为本实用新型实施例一的环形管和连接管示意图；

图3为本实用新型实施例一的环形管和连接管连接示意图；

图4为本实用新型实施例一的环形管位于炉管中部示意图；

图5为本实用新型实施例一的环形管位于炉管尾部示意图；

图6为传统炉管中出气气流的流向示意图；

图7为本实用新型实施例一的环形管位于炉口时气流流向示意图；

图8为本实用新型实施例二的环形管径向截面的部分示意图；

图9为本实用新型实施例三的环形管径向截面的部分示意图。

附图标识说明：环形管1、直管11、气孔12、气孔组一13、气孔组二14、连接管2、炉管3、套管31。

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。

需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。

实施例一：

如图1所示，一种气管结构，包括环形管1以及连接管2，其中连接管2与环形管1导通。环形管1上设置有气孔12；环形管1设置于炉管3内，环形管1的外径小于炉管3的内径；环形管1所处的平面与炉管3的轴线垂直或近似垂直；其中近似垂直表示在实际装置中存在误差的垂直关系。

如图2、3所示，所述同一个环形管1的上的气孔12的孔径一致，并且气孔12可以在环形管1上均匀设置或者气孔组一13在环形管1上均匀或间隔设定距离设置，需要说明的是在一些其他实施方式中，气孔或气孔组一在环形管上随机设置；其中每个气孔组一13中包括至少两个气孔12，在本例中由三个气孔12构成一个气孔组一13。其中同一个环形管1上的每个气孔12的朝向与垂直环形管1所在平面的直线的夹角大小一致；不同环形管1上的气孔12朝向可以不一致。

如图4、5所示，所述环形管1上设置有直管11，直管11用于与连接管2连接，直管11与连接管2套接。直管11与环形管1所在的平面呈设定角度，在本例中直管11与环形管1所在的平面垂直或近似垂直。连接管2设置于炉尾，连接管2穿过炉尾与外界连通。在炉管3的炉尾上设置有套管31，其中套管31用于穿过连接管2，并且支撑连接管2，实现支撑环形管1的目的。

如图6、7所示，在实施的过程中环形管1可以作为进气管或者出气管，通过环形管1上设置一周的气孔12，实现管内均匀的进气或者出气；通过设置连接管2能够实现对环形管1的通气和抽气；另一方面通过移动连接管2能够在外部直接调节环形管1在炉管3内的位置，使用方便。

实施例二：

如图8所示，本实施例是在实施例一的基础上改进得到，其中环形管1上的气孔12的朝向与环形管1所在的平面垂直，并且在环形管1上的每个气孔12都对应设置有一个朝向相反的气孔12，目的是能够实现环形管1的双向均匀进出气，尤其是将环形管1移动到靠近炉管3的中间位置的时候，如果是单向进出气，会影响另一边的气体的均匀程度，采用双向设置的气孔12，能够避免上述问题。

实施例三：

如图9所示，本实施例是在实施例一的基础上改进得到的，其中在环形管1上设置有气孔组二14，同一气孔组二14的气孔12位于环形管1的同一管道径向截面上。气孔组二14中包括至少两个气孔12，气孔组二14在环形管1上均匀设置。在实施的过程中通过在同一径向截面内设置气孔组二14，保证各个方向的均匀进出气，进而保证炉管3内的气流均匀。

实施例四：

本实施例是在实施例一的基础上改进得到的，其中连接管2设置于炉口。

以上描述仅是本实用新型的具体实例，不构成对本实用新型的任何限制。显然对于本领域的专业人员来说，在了解了本实用新型内容和原理后，都可能在不背离本实用新型原理、结构的情况下，进行形式和细节上的各种组合、修改和改变，但是这些基于本实用新型思想的修正和改变仍在本实用新型的权利要求保护范围之内。

Claims (8)

1.一种气管结构，其特征在于，包括环形管以及连接管；连接管与环形管导通；环形管上设置有气孔；环形管设置于炉管内，环形管的外径小于炉管的内径；

所述环形管所处的平面与炉管的轴线垂直；

所述环形管上设置有直管，直管用于与连接管连接；直管与环形管所在的平面垂直。

2.根据权利要求1所述的一种气管结构，其特征在于，所述连接管设置于炉尾，连接管穿过炉尾与外界连通。

3.根据权利要求2所述的一种气管结构，其特征在于，所述炉管的炉尾设置有套管，套管用于穿过连接管。

4.根据权利要求1所述的一种气管结构，其特征在于，所述气孔或者气孔组一设置于环形管上，每个气孔组一中包括至少两个气孔；同一个环形管上的每个气孔的朝向与垂直环形管所在平面的直线的夹角大小一致。

5.根据权利要求1所述的一种气管结构，其特征在于，所述环形管上设置有气孔组二；同一气孔组二的气孔位于环形管的同一管道径向截面上；气孔组二中包括至少两个气孔。

6.根据权利要求1所述的一种气管结构，其特征在于，所述环形管上的每个气孔都对应设置有一个朝向相反的气孔；实现环形管的双向均匀进出气。

7.根据权利要求6所述的一种气管结构，其特征在于，所述环形管上的气孔的朝向与环形管所在的平面垂直。

8.根据权利要求1所述的一种气管结构，其特征在于，所述环形管上的气孔孔径一致。

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