CN214685916U - 旋转振动式流体研磨机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种旋转振动式流体研磨机,包括研磨杆机构和设于所述研磨杆机构下方的研磨料箱机构;所述研磨杆机构包括研磨杆组件、固定架、移动架以及水平驱动件,所述研磨杆组件设于移动架,所述水平驱动件驱使移动架相对固定架滑移;所述研磨料箱机构包括底架、料箱、旋转组件、振动组件,所述振动组件设于料箱,所述振动组件用于驱使料箱振动,所述旋转组件设于底架上,所述旋转组件包括旋转电机、可转动设于底架的旋转筒轴、设于旋转筒轴上的旋转盘以及平面轴承,所述旋转电机驱使旋转筒轴转动,从而使设于所述旋转盘上的料箱转动,所述平面轴承设于底架与旋转盘之间。本实用新型提供的旋转振动式流体研磨机,研磨质量好,效率高。
Description
技术领域
本实用新型涉及研磨设备技术领域,具体地说,涉及一种旋转振动式流体研磨机。
背景技术
现有技术的研磨机通常包括用于带动产品转动的研磨杆组件和放置研磨料的磨料箱,通过研磨杆在磨料箱内移动,使研磨料与工件表面发生高速碰撞,从而使得流体研磨料对工件表面产生磨削作用,以此达到研磨效果。
由于磨料箱内的研磨料流动性差,工件无法与新研磨料充分接触,其打磨质量受局限,表面处理效率难以满足生产需求。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种旋转振动式流体研磨机,研磨质量好,效率高。
本实用新型公开的旋转振动式流体研磨机所采用的技术方案是:
一种旋转振动式流体研磨机,包括研磨杆机构和设于所述研磨杆机构下方的研磨料箱机构;所述研磨杆机构包括研磨杆组件、固定架、移动架以及水平驱动件,所述研磨杆组件设于移动架,所述水平驱动件驱使移动架相对固定架滑移;所述研磨料箱机构包括底架、料箱、旋转组件、振动组件,所述振动组件设于料箱,所述振动组件用于驱使料箱振动,所述旋转组件设于底架上,所述旋转组件包括旋转电机、可转动设于底架的旋转筒轴、设于旋转筒轴上的旋转盘以及平面轴承,所述旋转电机驱使旋转筒轴转动,从而使设于所述旋转盘上的料箱转动,所述平面轴承设于底架与旋转盘之间,其中,所述料箱、旋转盘、旋转筒轴三者共轴设置。
作为优选方案,所述旋转筒轴包括轴盘和轴杆,所述轴盘与旋转盘固定连接,所述轴杆上端连接轴盘,所述轴杆下端可转动的穿设在底架上开设的轴孔内。
作为优选方案,所述振动组件包括振动电机、弹簧组以及振动座;所述振动电机固定于料箱,所述料箱设于振动座,并与所述振动座通过弹簧组弹性连接,所述振动座固定于旋转盘。
作为优选方案,所述振动座包括环体以及设于环体下端的至少三个支撑腿。
作为优选方案,所述料箱下端周缘围设有护罩,所述弹簧组设于护罩内侧,且所述护罩直径大于所述振动座上端。
作为优选方案,所述振动电机包括电机本体以及设于电机本体两端的偏心块。
作为优选方案,所述水平驱动件包括设于固定架上的气缸、导轨,以及设于导轨上的滑块,所述移动架设于滑块上,由所述气缸驱使移动架和滑块沿导轨滑动。
作为优选方案,所述研磨杆组件包括公转组件和自转组件;所述公转组件包括公转电机、公转盘和公转轴,所述公转电机与公转轴连接,所述公转轴与公转盘连接;所述自转组件包括自转电机、第一自转轴、第一齿轮、传动组和第二齿轮,所述自转电机与第一自转轴连接,所述第一自转轴与第一齿轮连接,所述传动组套设于公转轴,所述传动组分别与第一齿轮和第二齿轮连接,所述第二齿轮设于公转盘上。
本实用新型公开的旋转振动式流体研磨机的有益效果是:研磨时,使研磨杆机构下降或者研磨料箱机构上升,位于研磨杆组件的工件伸入料箱内,研磨杆组件驱动工件移动以进行研磨。振动组件使料箱振动,从而使料箱内的研磨料之间产生一定的位移,以此使得料箱内的研磨料更均匀的与工件接触碰撞。通过在底架与旋转盘之间设平面轴承,使得旋转盘可相对底架转动,将料箱设于旋转盘,旋转电机驱使旋转筒轴转动,设于旋转筒轴上的旋转盘跟随转动,从而使料箱转动,一方面提高了磨料与工件之间碰撞的速度,另一方面与研磨杆组件配合还起到了搅拌磨料的作用,从而使得研磨质量好,效率高。在需要更换产品时,水平驱动件驱使移动架相对固定架滑移,此时移动架上的研磨杆组件从料箱上方移出,因此产品的安装和拆卸都无需移出料箱,方便了产品的安装与拆卸。
附图说明
图1是本实用新型旋转振动式流体研磨机的结构示意图。
图2是本实用新型旋转振动式流体研磨机的研磨杆机构的结构示意图。
图3是本实用新型旋转振动式流体研磨机的研磨杆机构的剖视图。
图4是本实用新型旋转振动式流体研磨机的研磨料箱机构的结构示意图。
图5是本实用新型旋转振动式流体研磨机的研磨料箱机构的剖视图。
具体实施方式
下面结合具体实施例和说明书附图对本实用新型做进一步阐述和说明:
请参考图1,一种旋转振动式流体研磨机,包括研磨杆机构10和设于所述研磨杆机构10下方的研磨料箱机构20。
请参考图2和图3,所述研磨杆机构10包括研磨杆组件11、固定架12、移动架13以及水平驱动件14。所述研磨杆组件11设于移动架13,所述水平驱动件14驱使移动架13相对固定架12滑移。
请参考图4和图5,所述研磨料箱机构20包括底架21、料箱22、旋转组件23以及振动组件24。
所述振动组件24设于料箱22,所述振动组件24用于驱使料箱22振动。所述旋转组件23设于底架21上,所述旋转组件23包括旋转电机231、可转动设于底架21的旋转筒轴232、设于旋转筒轴232上的旋转盘233以及平面轴承234。其中旋转筒轴232的径向移动被底架21限制,以此实现旋转盘233径向移动的限制。
所述旋转电机231驱使旋转筒轴232转动,从而使设于所述旋转盘233上的料箱22转动。其中,所述料箱22、旋转盘233、旋转筒轴232三者共轴设置。
所述平面轴承234设于底架21与旋转盘233之间,以此实现旋转盘233与底架21之间的可转动连接,具体的,旋转盘233设在平面轴承234的上环,平面轴承234的下环设在底架21上。
请参考图2和图3,所述水平驱动件14包括设于固定架12上的气缸141、导轨142,以及设于导轨142上的滑块143。所述移动架13设于滑块143上,由所述气缸141驱使移动架13和滑块143沿导轨142滑动。
所述研磨杆组件11包括公转组件111和自转组件112。所述公转组件111包括公转电机1111、公转盘1112和公转轴1113,所述公转电机1111与公转轴1113连接,所述公转轴1113与公转盘1112连接。公转电机1111驱使公转轴1113转动,进而带动公转盘1112转动。
所述自转组件112包括自转电机1121、第一自转轴1122、第一齿轮1123、传动组1124和第二齿轮1125,所述自转电机1121与第一自转轴1122连接,所述第一自转轴1122与第一齿轮1123连接,所述传动组1124套设于公转轴1113,所述传动组1124分别与第一齿轮1123和第二齿轮1125连接,所述第二齿轮1125设于公转盘1112上。自转电机1121驱使第一自转轴1122转动,第一齿轮1123跟随转动,与第一齿轮1123啮合的传动组1124跟随转动,与传动组1124啮合的第二齿轮1125跟随转动。第二齿轮1125设有多组,每组第二齿轮1125驱使多个研磨杆转动,从而带动产品转动完成研磨。其中,传动组1124包括固定连接的第三齿轮和第四齿轮,第三齿轮与第一齿轮1123啮合,第四齿轮与第二齿轮1125啮合。
研磨时,使研磨杆机构10下降或者研磨料箱22机构20上升,位于研磨杆组件11的工件伸入料箱22内,研磨杆组件11驱动工件移动以进行研磨。振动组件24使料箱22振动,从而使料箱22内的研磨料之间产生一定的位移,以此使得料箱22内的研磨料更均匀的与工件接触碰撞。通过在底架21与旋转盘233之间设平面轴承234,使得旋转盘233可相对底架21转动,将料箱22设于旋转盘233,旋转电机231驱使旋转筒轴232转动,设于旋转筒轴232上的旋转盘233跟随转动,从而使料箱22转动,一方面提高了磨料与工件之间碰撞的速度,另一方面与研磨杆组件11配合还起到了搅拌磨料的作用,从而使得研磨质量好,效率高。
在需要更换产品时,水平驱动件14驱使移动架13相对固定架12滑移,此时移动架13上的研磨杆组件11从料箱22上方移出,因此产品的安装和拆卸都无需移出料箱22,方便了产品的安装与拆卸。
请参考图4和图5,所述旋转筒轴232包括轴盘2321和轴杆2322,所述轴盘2321与旋转盘233固定连接,所述轴杆2322上端连接轴盘2321,所述轴杆2322下端可转动的穿设在底架21上开设的轴孔内。所述轴孔内设有滚珠轴承,轴杆2322通过滚珠轴承与底架21可转动连接。
所述振动组件24包括振动电机241、弹簧组242以及振动座243。所述振动电机241固定于料箱22,所述料箱22设于振动座243,并与所述振动座243通过弹簧组242弹性连接,所述振动座243固定于旋转盘233。所述振动电机241包括电机本体以及设于电机本体两端的偏心块。通过偏心块转动时产生的不平衡量,带动料箱22振动。
振动时,支撑料箱22的弹簧组242通过伸长与收缩吸收振动能量,避免了振动传递至振动座243,进而影响旋转组件23的工作稳定性。
所述振动座243包括环体2431以及设于环体2431下端的至少三个支撑腿2432。所述弹簧组242包括若干弹簧,使若干所述弹簧呈环形间隔排布于振动座243上,所述振动电机241是上端固定于料箱22内,下端延伸至振动座243内,以此使得结构更紧凑。
所述料箱22下端周缘围设有护罩221,所述弹簧组242设于护罩221内侧,且所述护罩221直径大于所述振动座243上端。由于护罩221会跟随振动,通过使护罩221直径大于所述振动座243上端,避免护罩221振动时与振动座243发生碰撞。
最后应当说明的是,以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对本实用新型保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。
Claims (8)
1.一种旋转振动式流体研磨机,其特征在于,包括研磨杆机构和设于所述研磨杆机构下方的研磨料箱机构;
所述研磨杆机构包括研磨杆组件、固定架、移动架以及水平驱动件,所述研磨杆组件设于移动架,所述水平驱动件驱使移动架相对固定架滑移;
所述研磨料箱机构包括底架、料箱、旋转组件、振动组件,所述振动组件设于料箱,所述振动组件用于驱使料箱振动,所述旋转组件设于底架上,所述旋转组件包括旋转电机、可转动设于底架的旋转筒轴、设于旋转筒轴上的旋转盘以及平面轴承,所述旋转电机驱使旋转筒轴转动,从而使设于所述旋转盘上的料箱转动,所述平面轴承设于底架与旋转盘之间,其中,所述料箱、旋转盘、旋转筒轴三者共轴设置。
2.如权利要求1所述的旋转振动式流体研磨机,其特征在于,所述旋转筒轴包括轴盘和轴杆,所述轴盘与旋转盘固定连接,所述轴杆上端连接轴盘,所述轴杆下端可转动的穿设在底架上开设的轴孔内。
3.如权利要求1所述的旋转振动式流体研磨机,其特征在于,所述振动组件包括振动电机、弹簧组以及振动座;所述振动电机固定于料箱,所述料箱设于振动座,并与所述振动座通过弹簧组弹性连接,所述振动座固定于旋转盘。
4.如权利要求3所述的旋转振动式流体研磨机,其特征在于,所述振动座包括环体以及设于环体下端的至少三个支撑腿。
5.如权利要求3所述的旋转振动式流体研磨机,其特征在于,所述料箱下端周缘围设有护罩,所述弹簧组设于护罩内侧,且所述护罩直径大于所述振动座上端。
6.如权利要求3所述的旋转振动式流体研磨机,其特征在于,所述振动电机包括电机本体以及设于电机本体两端的偏心块。
7.如权利要求1-6任一项所述的旋转振动式流体研磨机,其特征在于,所述水平驱动件包括设于固定架上的气缸、导轨,以及设于导轨上的滑块,所述移动架设于滑块上,由所述气缸驱使移动架和滑块沿导轨滑动。
8.如权利要求1-6任一项所述的旋转振动式流体研磨机,其特征在于,所述研磨杆组件包括公转组件和自转组件;
所述公转组件包括公转电机、公转盘和公转轴,所述公转电机与公转轴连接,所述公转轴与公转盘连接;
所述自转组件包括自转电机、第一自转轴、第一齿轮、传动组和第二齿轮,所述自转电机与第一自转轴连接,所述第一自转轴与第一齿轮连接,所述传动组套设于公转轴,所述传动组分别与第一齿轮和第二齿轮连接,所述第二齿轮设于公转盘上。
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