CN113043154A - 平衡式流体研磨机 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种平衡式流体研磨机,包括水平移动机构,以及与水平移动机构连接的移动架,移动架上设有料杆驱动机构;还包括设于料杆驱动机构下方的磨料腔体机构,磨料腔体机构包括底板、箱体、旋转组件、振动组件和平衡组件;振动组件设于箱体;旋转组件设于底板上,旋转组件包括旋转电机、传动齿轮组以及旋转盘,旋转电机与传动齿轮组传动连接,旋转盘与传动齿轮组啮合,箱体设于旋转盘上,并与所述旋转盘共轴设置;平衡组件包括环绕箱体设置的安装体,设于安装体上的第一磁吸件,以及设于箱体上的第二磁吸件,所述第一磁吸件和第二磁吸件之间相互排斥且位置相对应。本发明提供的平衡式流体研磨机,研磨质量好,效率高。

Description

平衡式流体研磨机
技术领域
本发明涉及研磨设备技术领域,具体地说,涉及一种平衡式流体研磨机。
背景技术
现有技术的流体抛光设备包括磨料箱和研磨杆组件,待磨工件装夹于研磨杆,使研磨杆在磨料箱移动,流体研磨料与工件表面发生高速碰撞,使得流体研磨料对工件表面产生磨削作用。由于磨料箱内的磨料流动性差,工件无法与新磨料充分接触,其打磨质量受局限,表面处理效率难以满足生产需求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种平衡式流体研磨机,研磨质量好,效率高。
本发明公开的平衡式流体研磨机所采用的技术方案是:
一种平衡式流体研磨机,包括水平移动机构,以及与水平移动机构连接的移动架,所述移动架上设有料杆驱动机构,所述水平移动机构用于带动移动架进行往复运动;还包括设于料杆驱动机构下方的磨料腔体机构,所述磨料腔体机构包括底板、箱体、旋转组件、振动组件和平衡组件;所述振动组件设于箱体,所述振动组件用于驱使箱体振动;所述旋转组件设于底板上,所述旋转组件包括旋转电机、传动齿轮组以及旋转盘,所述旋转电机与传动齿轮组传动连接,所述旋转盘与传动齿轮组啮合,所述箱体设于旋转盘上,并与所述旋转盘共轴设置;所述平衡组件包括环绕箱体设置的安装体,设于安装体上的第一磁吸件,以及设于箱体上的第二磁吸件,所述第一磁吸件和第二磁吸件之间相互排斥且位置相对应。
作为优选方案,所述第一磁吸件环绕安装体的内壁设置,所述第二磁吸件环绕箱体的外壁设置。
作为优选方案,所述第二磁吸件设有至少两组,两组所述第二磁吸件分别设于箱体的底部和顶部,所述第一磁吸件设有至少两组,两组所述第一磁吸件分别设于安装体的底部和顶部。
作为优选方案,还包括升降机构,以及与升降机构连接的升降架,所述水平移动机构设于升降架,所述升降机构用于带动升降架进行往复运动。
作为优选方案,所述升降机构包括升降伺服电机和升降组件,所述升降组件包括与升降伺服电机连接的蜗轮蜗杆组,以及与蜗轮蜗杆组连接的丝杆,所述丝杆固定于升降架。
作为优选方案,所述水平移动机构包括设于升降架上的导轨和气缸,以及设于导轨上的滑块,所述移动架设于滑块上,所述气缸与移动架连接。
作为优选方案,所述旋转盘与底板之间设有平面轴承。
作为优选方案,所述旋转组件还包括可转动设于底板的旋转筒轴;所述旋转盘固定于旋转筒轴上端,所述旋转盘、平面轴承、旋转筒轴共轴设置。
作为优选方案,所述旋转筒轴包括轴盘和轴杆,所述轴盘与旋转盘固定连接,所述轴杆上端连接轴盘,所述轴杆下端可转动的穿设在底板上开设的轴孔内。
作为优选方案,所述料杆驱动机构包括公转机构和自转机构,所述公转机构包括公转电机、公转盘和公转轴,所述公转电机与公转轴连接,所述公转轴与公转盘连接,所述自转机构包括自转电机、第一自转轴、第一齿轮、传动组和第二齿轮,所述自转电机与第一自转轴连接,所述第一自转轴与第一齿轮连接,所述传动组套设于公转轴,所述传动组分别与第一齿轮和第二齿轮连接,所述第二齿轮设于公转盘上。
本发明公开的平衡式流体研磨机的有益效果是:由于料杆驱动机构安装在移动架上,水平移动机构可以带动移动架进行水平方向的往复运动,从而带动料杆驱动机构进行水平方向的往复运动。料杆驱动机构水平移动后,可以从磨料腔体机构装置上方直接移外露,因此产品的安装和拆卸都无需移出磨料腔体装置,也无需工人进入料杆驱动机构下方,方便了产品的安装与拆卸,降低了工人安全风险。而在进行研磨时,振动组件使箱体振动,从而使箱体内的研磨料之间产生一定的位移。同时旋转电机转动,转动通过传动齿轮组传递至旋转盘,使箱体转动,一方面提高了磨料与工件之间碰撞的速度,另一方面还起到了搅拌磨料的作用,料杆驱动机构可以相对箱体中的研磨料进行水平方向的相对运动,通过研磨料与产品的多个方向的相对运动,从而使得研磨质量好,效率高,提高研磨效果。而安装体上的第一磁吸件与箱体上的第二磁吸件相斥,可以防止箱体振动时因旋转而导致的倾斜,从而可以使得箱体以较大的幅度进行振动,进一步提高研磨效果。
附图说明
图1是本发明平衡式流体研磨机的结构示意图。
图2是本发明平衡式流体研磨机的磨料腔体机构的正视图。
图3是本发明平衡式流体研磨机的磨料腔体机构的A-A的剖视图。
图4是本发明平衡式流体研磨机的料杆驱动机构的剖视图。
具体实施方式
下面结合具体实施例和说明书附图对本发明做进一步阐述和说明:
请参考图1、图2和图3,平衡式流体研磨机包括水平移动机构60,以及与水平移动机构60连接的移动架70,所述移动架70上设有料杆驱动机构80,所述水平移动机构60用于带动移动架70进行往复运动;
还包括设于料杆驱动机构80下方的磨料腔体机构,所述磨料腔体机构包括底板10、箱体20、旋转组件30、振动组件40和平衡组件50。
所述振动组件40设于箱体20,所述振动组件40用于驱使箱体20振动。
所述旋转组件30设于底板10上,所述旋转组件30包括旋转电机31、传动齿轮组32以及旋转盘33。所述旋转电机31与传动齿轮组32传动连接,所述旋转盘33与传动齿轮组32啮合,所述箱体20设于旋转盘33上,并与所述旋转盘33共轴设置。
所述平衡组件50包括环绕箱体20设置的安装体52,设于安装体52上的第一磁吸件54,以及设于箱体20上的第二磁吸件56,所述第一磁吸件54和第二磁吸件56之间相互排斥且位置相对应。
由于料杆驱动机构80安装在移动架70上,水平移动机构60可以带动移动架70进行水平方向的往复运动,从而带动料杆驱动机构80进行水平方向的往复运动。料杆驱动机构80水平移动后,可以从磨料腔体机构装置上方直接移外露,因此产品的安装和拆卸都无需移出磨料腔体装置,也无需工人进入料杆驱动机构80下方,方便了产品的安装与拆卸,降低了工人安全风险。而在进行研磨时,振动组件40使箱体20振动,从而使箱体20内的研磨料之间产生一定的位移。同时旋转电机31转动,转动通过传动齿轮组32传递至旋转盘33,使箱体20转动,一方面提高了磨料与工件之间碰撞的速度,另一方面还起到了搅拌磨料的作用,料杆驱动机构80可以相对箱体中的研磨料进行水平方向的相对运动,通过研磨料与产品的多个方向的相对运动,从而使得研磨质量好,效率高,提高研磨效果。而安装体52上的第一磁吸件54与箱体20上的第二磁吸件56相斥,可以防止箱体20振动时因旋转而导致的倾斜,从而可以使得箱体20以较大的幅度进行振动,进一步提高研磨效果。
当箱体20进行振动时,此时箱体20处于不平衡状态,即底面有的点高,有的点低,若此时箱体20再进行旋转,则可能因为旋转所带来的离心力导致箱体20倾斜,从而影响到产品的研磨。安装体52通过支撑管固定于底板10上,而安装体52上的第一磁吸件54相当于对箱体20有一个推力,使得将要倾斜的箱体20恢复平衡,从而保证产品能够进行较好的研磨。
本实施例中,所述第一磁吸件54环绕安装体52的内壁设置,所述第二磁吸件56环绕箱体20的外壁设置。具体的,第一磁吸件54和第二磁吸件56可以是连续的一体环绕设置,也可以是分成若干段的间隔设置。另一实施方式中,第一磁吸件54的宽度大于等于第二磁吸件56的宽度,使得第二磁吸件56能够一直处于第一磁吸件54的受力范围内。第一磁吸件54和第二磁吸件56均可通过磁铁来实现,且第一磁吸件54和第二磁吸件56的相对面为不同磁极,从而产生斥力。
所述第二磁吸件56设有至少两组,两组所述第二磁吸件56分别设于箱体20的底部和顶部,所述第一磁吸件54设有至少两组,两组所述第一磁吸件54分别设于安装体52的底部和顶部。通过至少两组第一磁吸件54和第二磁吸件56,分别对箱体20的顶部和底部产生斥力,从而保证箱体20能较好的保持平衡。
平衡式流体研磨机还包括升降机构90,以及与升降机构90连接的升降架100,所述水平移动机构60设于升降架100,所述升降机构90用于带动升降架100进行往复运动。将水平移动机构60安装在升降架100上,而升降机构90可以带动升降架100进行垂直方向的往复运动,从而带水平移动机构60进行垂直方向的往复运动。升降机构90带动水平移动机构60进行往复运动时,可以使得料杆驱动机构80相对磨料腔体装置中的研磨料进行垂直方向的相对运动,从而进一步的提高研磨效果。
本实施例中,升降机构90安装于机架上,用于带动其上方的升降架100、水平移动机构60和料杆驱动机构80进行垂直方向的往复移动。而水平移动机构60连接移动架70,并用于带动其上方的料杆驱动机构80进行水平方向的往复运动。
具体的,所述升降机构90包括升降伺服电机92和升降组件94,所述升降组件94包括与升降伺服电机92连接的蜗轮蜗杆组,以及与蜗轮蜗杆组连接的丝杆96,所述丝杆96固定于升降架100。蜗轮蜗杆组包括蜗杆,以及与蜗杆连接的蜗轮。升降伺服电机92驱动蜗杆进行转动,蜗轮外侧与蜗杆啮合,蜗轮内侧与丝杆96啮合。本实施例中,采用丝杆升降机来实现升降架100的升降。进一步的,所述升降组件94设有两组,两组所述蜗轮蜗杆组之间通过连接轴98连接。两组蜗杆分别通过联轴器与连接轴连接,因此两组蜗杆可以通过同一个升降伺服电机92进行驱动。具体的,设有四组丝杆升降机,并分别设于升降架100的两侧,每一侧的两个丝杆96使用同一个升降伺服电机92驱动。另一实施方式中,升降机构90也可以采用其它的升降结构,例如气缸驱动。
进一步的,所述升降机构90还包括导向柱97,以及设于升降架100上的导轨块99,所述导轨块99开设有导向槽,所述导向柱97设于导向槽内。导向柱97固定于机架上,当升降架100进行移动时,导轨块99沿着导向槽进行滑动,从而保证升降架100进行精准的移动。进一步的,所述导轨块99为导向轮。导向轮与导向柱97进行滑动摩擦,从而降低了导向轮与导向柱97之间的摩擦。
本实施例中,所述水平移动机构60包括设于升降架100上的导轨64和气缸62,以及设于导轨64上的滑块66。所述移动架70设于滑块66上,所述气缸62与移动架70连接。另一实施方式中,水平移动机构60也可以通过直线模组来实现,移动架70设于直线模组的移动块上。
研磨时,振动组件40使箱体20振动,从而使箱体20内的磨料之间产生一定的位移。同时旋转电机31转动,转动通过传动齿轮组32传递至旋转盘33,使箱体20转动。
所述旋转盘33包括旋转齿轮331以及固定于旋转齿轮331上的盘体332。其中,旋转齿轮331上开设有若干减重孔,以降低自身重量。
所述旋转盘33与底板10之间设有平面轴承34,以此实现旋转盘33与底板10之间的可转动连接。旋转盘33设在平面轴承34的上环,平面轴承34的下环设在底板10上。
所述旋转组件30还包括可转动设于底板10的旋转筒轴35。所述旋转盘33固定于旋转筒轴35上端,通过该旋转筒轴35限制旋转盘33的径向移动,避免工作时旋转盘33退让而导致其与传动齿轮组32脱离。其中,所述旋转盘33、平面轴承34、旋转筒轴35共轴设置。
所述旋转筒轴35包括轴盘351和轴杆352,所述轴盘351与旋转盘33固定连接,所述轴杆352上端连接轴盘351,所述轴杆352下端可转动的穿设在底板10上开设的轴孔内。所述轴孔内设有滚珠轴承,轴杆352通过滚珠轴承与底板10可转动连接。
所述振动组件40包括振动电机41、弹簧组42以及振动座43。所述振动电机41固定于箱体20,所述振动座43固定于旋转盘33,所述箱体20设于振动座43,并与所述振动座43通过弹簧组42弹性连接。
振动电机41包括电机本体以及设于电机本体两端的偏心块,通过偏心块转动时产生的不平衡量,带动箱体20振动。振动时,支撑箱体20的弹簧组42通过伸长与收缩吸收振动能量,避免了振动传递至振动座43,进而影响旋转组件30的工作稳定性。
其中,所述振动座43呈中空的筒状,所述弹簧组42包括若干弹簧,使若干所述弹簧呈环形间隔排布于振动座43上,所述振动电机41是上端固定于箱体20内,下端延伸至振动座43内,以此使得结构更紧凑。
所述箱体20下端周缘围设有护罩22,所述弹簧组42设于护罩22内侧,且所述护罩22直径大于所述振动座43上端。由于护罩22会跟随振动,通过使护罩22直径大于所述振动座43上端,避免护罩22振动时与振动座43发生碰撞。
本实施例中,所述升降机构90上还设有挡板110,所述挡板110与料杆驱动机构80的位置相对应。挡板用于遮挡溅出的研磨料。
请参考图4,本实施例中,所述料杆驱动机构80包括公转机构和自转机构。所述公转机构包括公转电机122、公转盘126和公转轴124,所述公转电机122与公转轴124连接,所述公转轴124与公转盘126连接。公转电机122驱动公转轴124从而带动公转盘126自转。
所述自转机构包括自转电机132、第一自转轴133、第一齿轮134、传动组135和第二齿轮138。所述自转电机132与第一自转轴133连接,所述第一自转轴133与第一齿轮134连接。所述传动组135套设于公转轴124,所述传动组135分别与第一齿轮134和第二齿轮138连接,所述第二齿轮138设于公转盘126上。自转电机132驱动第一自转轴133从而带动第一齿轮134转动,第一齿轮134通过传动组135带动第二齿轮138转动,第二齿轮138用于带动研磨料杆转动,从而带动产品转动完成研磨。具体的,传动组135包括固定连接的第三齿轮136和第四齿轮137。
最后应当说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对本发明保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (10)

1.一种平衡式流体研磨机,其特征在于,包括水平移动机构,以及与水平移动机构连接的移动架,所述移动架上设有料杆驱动机构,所述水平移动机构用于带动移动架进行往复运动;
还包括设于料杆驱动机构下方的磨料腔体机构,所述磨料腔体机构包括底板、箱体、旋转组件、振动组件和平衡组件;
所述振动组件设于箱体,所述振动组件用于驱使箱体振动;
所述旋转组件设于底板上,所述旋转组件包括旋转电机、传动齿轮组以及旋转盘,所述旋转电机与传动齿轮组传动连接,所述旋转盘与传动齿轮组啮合,所述箱体设于旋转盘上,并与所述旋转盘共轴设置;
所述平衡组件包括环绕箱体设置的安装体,设于安装体上的第一磁吸件,以及设于箱体上的第二磁吸件,所述第一磁吸件和第二磁吸件之间相互排斥且位置相对应。
2.如权利要求1所述的平衡式流体研磨机,其特征在于,所述第一磁吸件环绕安装体的内壁设置,所述第二磁吸件环绕箱体的外壁设置。
3.如权利要求2所述的平衡式流体研磨机,其特征在于,所述第二磁吸件设有至少两组,两组所述第二磁吸件分别设于箱体的底部和顶部,所述第一磁吸件设有至少两组,两组所述第一磁吸件分别设于安装体的底部和顶部。
4.如权利要求1所述的平衡式流体研磨机,其特征在于,还包括升降机构,以及与升降机构连接的升降架,所述水平移动机构设于升降架,所述升降机构用于带动升降架进行往复运动。
5.如权利要求4所述的平衡式流体研磨机,其特征在于,所述升降机构包括升降伺服电机和升降组件,所述升降组件包括与升降伺服电机连接的蜗轮蜗杆组,以及与蜗轮蜗杆组连接的丝杆,所述丝杆固定于升降架。
6.如权利要求4所述的平衡式流体研磨机,其特征在于,所述水平移动机构包括设于升降架上的导轨和气缸,以及设于导轨上的滑块,所述移动架设于滑块上,所述气缸与移动架连接。
7.如权利要求1所述的平衡式流体研磨机,其特征在于,所述旋转盘与底板之间设有平面轴承。
8.如权利要求7所述的平衡式流体研磨机,其特征在于,所述旋转组件还包括可转动设于底板的旋转筒轴;
所述旋转盘固定于旋转筒轴上端,所述旋转盘、平面轴承、旋转筒轴共轴设置。
9.如权利要求8所述的平衡式流体研磨机,其特征在于,所述旋转筒轴包括轴盘和轴杆,所述轴盘与旋转盘固定连接,所述轴杆上端连接轴盘,所述轴杆下端可转动的穿设在底板上开设的轴孔内。
10.如权利要求1所述的平衡式流体研磨机,其特征在于,所述料杆驱动机构包括公转机构和自转机构,所述公转机构包括公转电机、公转盘和公转轴,所述公转电机与公转轴连接,所述公转轴与公转盘连接,所述自转机构包括自转电机、第一自转轴、第一齿轮、传动组和第二齿轮,所述自转电机与第一自转轴连接,所述第一自转轴与第一齿轮连接,所述传动组套设于公转轴,所述传动组分别与第一齿轮和第二齿轮连接,所述第二齿轮设于公转盘上。
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