CN214670085U - 一种用于光刻机上的真空检测装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于光刻机上的真空检测装置，包括底座，底座上侧安装有上罩体，上罩体内顶部设有滑槽，且滑槽内安装有Y轴丝杆和Y轴滑块，且两个Y轴滑块之间安装有横向支撑板，横向支撑板下侧通过支臂安装有X轴丝杆和X轴滑块，X轴滑块下侧安装有Z轴电动推杆，Z轴电动推杆下侧通过安装座安装有真空检测装置，上罩体内部一侧通过第一连接杆安装有第一定位夹座，上罩体内部另一侧通过第二连接杆安装有第二定位夹座，第二连接杆通过齿轮组传动连接有第一电机，本实用新型通过设有的Y轴丝杠、X轴丝杠和Z轴电动推杆，使得便于对真空检测装置沿Y轴、X轴和Z轴移动调节处理，从而满足不同位置的检测处理，有利于提高检测的效率。

Description

一种用于光刻机上的真空检测装置

技术领域

本实用新型涉及检测设备技术领域，具体是一种用于光刻机上的真空检测装置。

背景技术

光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。真空检测装置在光刻机传片、传版以及各移动平台部分具有重要的作用；对掩膜版进行真空检测时，首先将掩膜版进行限位固定，由于保证对其检测时的稳定性。

现有技术中申请号为CN202010902638.X的用于光刻机上的真空检测装置，包括底座，所述底座上固定连接有两个支撑板，两个所述支撑板之间固定连接有安装板，所述安装板与底座之间设有可以升降的连接板，所述连接板的两端均设有可以调节的压板机构，所述底座上设有滑动槽，所述滑动槽内滑动连接有两个压台，两个所述压台与两个支撑板之间设有传动机构，所述连接板的底部设有可以移动的真空检测装置，所述压板机构包括设置在连接板内的安装槽，所述安装槽内滑动连接有L型板，所述连接板上贯穿设有与其螺纹连接的定位螺栓。本发明结构合理，可以对不同大小的掩膜版进行限位，便于对其进行真空检测，实用性较好，也可以对掩膜版进行保护，防止其受损。但是，难以对真空检测装置进行全方位的移动调节处理，难以满足不同位置的检测处理，而且需手动翻转调节掩膜版进行检测处理，降低了检测的效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于光刻机上的真空检测装置，以解决现有技术中难以对真空检测装置进行全方位的移动调节处理，难以满足不同位置的检测处理，而且需手动翻转调节掩膜版进行检测处理，降低了检测的效率的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于光刻机上的真空检测装置，包括底座，所述底座上侧安装有上罩体，所述上罩体内顶部两侧均开设有滑槽，且滑槽内安装有Y轴丝杆，所述Y轴丝杆上螺纹安装有Y轴滑块，且两个Y轴滑块之间安装有横向支撑板，所述横向支撑板下侧通过支臂安装有X轴丝杆，所述X轴丝杆上螺纹安装有X轴滑块，所述X轴滑块下侧安装有Z轴电动推杆，所述Z轴电动推杆下侧通过安装座安装有真空检测装置，所述上罩体内部一侧通过第一连接杆安装有第一定位夹座，所述上罩体内部另一侧通过第二连接杆安装有第二定位夹座，所述第二连接杆通过齿轮组传动连接有第一电机。

进一步的，所述第一定位夹座和第二定位夹座一侧均开设有凹槽，所述凹槽内侧安装有防护垫。

进一步的，所述Y轴丝杆和Y轴滑块在上罩体顶部的滑槽内平行安装有两组，所述Y轴丝杆一端传动连接有第二电机，且第二电机安装在上罩体外侧。

进一步的，所述第一连接杆和第一定位夹座之间通过第一轴承套圈转动连接，所述第二连接杆一端通过第二轴承套圈与上罩体内壁转动连接。

进一步的，所述第二连接杆上安装有从动齿轮，所述第一电机一端传动连接有主动齿轮，且主动齿轮和从动齿轮啮合连接。

进一步的，所述第一连接杆一端传动连接有气缸，所述气缸安装在上罩体外侧。

进一步的，所述X轴丝杆一端传动连接有第三电机，所述底座一端上侧安装有PLC控制柜，且第一电机和第三电机均与PLC控制柜电性连接。

进一步的，所述上罩体一侧安装有罩门，所述罩门内部安装有透视窗。

进一步的，所述X轴滑块一端安装有导向块，且导向块滑动卡设在横向支撑板内侧的导向槽内。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过滑槽内安装有Y轴丝杆，Y轴丝杆上螺纹安装有Y轴滑块，且两个Y轴滑块之间安装有横向支撑板，横向支撑板下侧通过支臂安装有X轴丝杆，所X轴丝杆上螺纹安装有X轴滑块，X轴滑块下侧安装有Z轴电动推杆，组成Y轴丝杠和X轴丝杠，使得便于对真空检测装置沿Y轴、X轴和Z轴移动调节处理，从而满足不同位置的检测处理，有利于提高检测的效率。

2、本实用新型而且由于第二连接杆通过齿轮组传动连接有第一电机，第一连接杆和第一定位夹座之间通过第一轴承套圈转动连接，第二连接杆一端通过第二轴承套圈与上罩体内壁转动连接，使得通过第一电机能够驱动第二连接杆旋转，从而带动第一定位夹座和第二定位夹座旋转调节，能够对待检测的掩膜版的背面进行检测处理，无需手动翻转调节掩膜版进行检测，便于进一步提高检测的效率。

3、本实用新型通过第一定位夹座和第二定位夹座一侧均开设有凹槽，凹槽内侧安装有防护垫，将掩膜版两侧卡接在凹槽内，便于对掩膜版两侧进行定位处理，定位方便，而且稳定性高，便于更好的进行检测处理。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型的整体结构主视图；

图2为本实用新型的立体结构示意图；

图3为本实用新型的横向支撑板与Y轴丝杆连接结构示意图；

图4为本实用新型的A处结构放大示意图；

图5为本实用新型的第二定位夹座结构示意图；

图6为本实用新型的第一定位夹座结构示意图。

图中：1、底座；2、上罩体；3、滑槽；4、Y轴丝杆；5、Y轴滑块；6、横向支撑板；7、支臂；8、X轴丝杆；9、X轴滑块；10、Z轴电动推杆；11、真空检测装置；12、第三电机；13、第一连接杆；14、气缸；15、第一轴承套圈；16、第一定位夹座；17、PLC控制柜；18、掩膜版；19、第二连接杆；20、第二定位夹座；21、第二轴承套圈；22、从动齿轮；23、第一电机；24、主动齿轮；25、罩门；26、透视窗；27、第二电机；28、凹槽；29、防护垫；30、导向块；31、导向槽。

具体实施方式

为使本实用新型实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1，图2，图3，图4，图5，图6，本实用新型实施例中，一种用于光刻机上的真空检测装置，包括底座1，底座1上侧安装有上罩体2，上罩体2内顶部两侧均开设有滑槽3，且滑槽3内安装有Y轴丝杆4，Y轴丝杆4上螺纹安装有Y轴滑块5，且两个Y轴滑块5之间安装有横向支撑板6，横向支撑板6下侧通过支臂7安装有X轴丝杆8，X轴丝杆8上螺纹安装有X轴滑块9，组成Y轴丝杠和X轴丝杠，使得通过设有的Y轴丝杠、X轴丝杠和Z轴电动推杆10，能够对真空检测装置11沿Y轴、X轴和Z轴移动调节处理，然后通过真空检测装置11进行相关检测处理，而且可满足不同位置的检测处理，有利于提高检测的效率，X轴滑块9下侧安装有Z轴电动推杆10，Z轴电动推杆10下侧通过安装座安装有真空检测装置11，真空检测装置11采用该领域常见通用的检测装置，上罩体2内部一侧通过第一连接杆13安装有第一定位夹座16，上罩体2内部另一侧通过第二连接杆19安装有第二定位夹座20，便于对掩膜版18两侧进行定位处理，第二连接杆19通过齿轮组传动连接有第一电机23，便于驱动第一定位夹座16和第二定位夹座20旋转调节对掩膜版18进行翻面检测处理。

优选的，第一定位夹座16和第二定位夹座20一侧均开设有凹槽28，凹槽28内侧安装有防护垫29，便于对掩膜版18两侧进行定位处理，定位方便，而且稳定性高，便于更好的进行检测处理。

优选的，Y轴丝杆4和Y轴滑块5在上罩体2顶部的滑槽3内平行安装有两组，Y轴丝杆4一端传动连接有第二电机27，且第二电机27安装在上罩体2外侧，便于形成Y轴丝杠，便于真空检测装置11沿Y轴移动调节检测处理。

优选的，第一连接杆13和第一定位夹座16之间通过第一轴承套圈15转动连接，第二连接杆19一端通过第二轴承套圈21与上罩体2内壁转动连接，便于对第一定位夹座16和第二定位夹座20进行旋转调节检测处理。

优选的，第二连接杆19上安装有从动齿轮22，第一电机23一端传动连接有主动齿轮24，且主动齿轮24和从动齿轮22啮合连接，使得通过第一电机23能够驱动第二连接杆19旋转，从而带动第一定位夹座16和第二定位夹座20旋转调节，能够对待检测的掩膜版18的背面进行检测处理，无需手动翻转调节掩膜版18进行检测，便于进一步提高检测的效率。

优选的，第一连接杆13一端传动连接有气缸14，气缸14安装在上罩体2外侧，便于驱动第一定位夹座16水平移动调节，从而便于对掩膜版18两侧进行夹持定位处理。

优选的，X轴丝杆8一端传动连接有第三电机12，底座1一端上侧安装有PLC控制柜17，且第一电机23，第二电机27和第三电机12均与PLC控制柜17电性连接，第一电机23，第二电机27和第三电机12均采用伺服电机。

优选的，上罩体2一侧安装有罩门25，罩门25内部安装有透视窗26，便于掩膜版18的拆装检测处理。

优选的，X轴滑块9一端安装有导向块30，且导向块30滑动卡设在横向支撑板6内侧的导向槽31内。

本实用新型的工作原理及使用流程：使用时，将掩膜版18两侧卡接在第二定位夹座20的凹槽28内，然后通过气缸14驱动第一定位夹座16移动调节，从而对掩膜版18两侧进行定位处理，然后通过设有的Y轴丝杠、X轴丝杠和Z轴电动推杆10，能够对真空检测装置11沿Y轴、X轴和Z轴移动调节处理，然后通过真空检测装置11进行相关检测处理，而且可满足不同位置的检测处理，有利于提高检测的效率；而且由于第二连接杆19通过齿轮组传动连接有第一电机23，第一连接杆13和第一定位夹座16之间通过第一轴承套圈15转动连接，第二连接杆19一端通过第二轴承套圈21与上罩体2内壁转动连接，使得通过第一电机23能够驱动第二连接杆19旋转，从而带动第一定位夹座16和第二定位夹座20旋转调节，能够对待检测的掩膜版18的背面进行检测处理，无需手动翻转调节掩膜版18进行检测，便于进一步提高检测的效率。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种用于光刻机上的真空检测装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)上侧安装有上罩体(2)，所述上罩体(2)内顶部两侧均开设有滑槽(3)，且滑槽(3)内安装有Y轴丝杆(4)，所述Y轴丝杆(4)上螺纹安装有Y轴滑块(5)，且两个Y轴滑块(5)之间安装有横向支撑板(6)，所述横向支撑板(6)下侧通过支臂(7)安装有X轴丝杆(8)，所述X轴丝杆(8)上螺纹安装有X轴滑块(9)，所述X轴滑块(9)下侧安装有Z轴电动推杆(10)，所述Z轴电动推杆(10)下侧通过安装座安装有真空检测装置(11)，所述上罩体(2)内部一侧通过第一连接杆(13)安装有第一定位夹座(16)，所述上罩体(2)内部另一侧通过第二连接杆(19)安装有第二定位夹座(20)，所述第二连接杆(19)通过齿轮组传动连接有第一电机(23)。

2.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置，其特征在于：所述第一定位夹座(16)和第二定位夹座(20)一侧均开设有凹槽(28)，所述凹槽(28)内侧安装有防护垫(29)。

3.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置，其特征在于：所述Y轴丝杆(4)和Y轴滑块(5)在上罩体(2)顶部的滑槽(3)内平行安装有两组，所述Y轴丝杆(4)一端传动连接有第二电机(27)，且第二电机(27)安装在上罩体(2)外侧。

4.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置，其特征在于：所述第一连接杆(13)和第一定位夹座(16)之间通过第一轴承套圈(15)转动连接，所述第二连接杆(19)一端通过第二轴承套圈(21)与上罩体(2)内壁转动连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置，其特征在于：所述第二连接杆(19)上安装有从动齿轮(22)，所述第一电机(23)一端传动连接有主动齿轮(24)，且主动齿轮(24)和从动齿轮(22)啮合连接。

6.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置，其特征在于：所述第一连接杆(13)一端传动连接有气缸(14)，所述气缸(14)安装在上罩体(2)外侧。

7.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置，其特征在于：所述X轴丝杆(8)一端传动连接有第三电机(12)，所述底座(1)一端上侧安装有PLC控制柜(17)，且第一电机(23)和第三电机(12)均与PLC控制柜(17)电性连接。

8.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置，其特征在于：所述上罩体(2)一侧安装有罩门(25)，所述罩门(25)内部安装有透视窗(26)。

Images