CN214390910U - 涂胶装置 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种涂胶装置,该涂胶装置包括甩干机,甩干机包括甩干机本体和掩膜版架,掩膜版架位于甩干机本体的表面上,掩膜版架用于固定掩膜版。该涂胶装置,包括甩干机,甩干机包括甩干机本体和掩膜版架,掩膜版架位于甩干机本体的表面上,掩膜版架用于固定掩膜版。相比现有技术中的涂胶装置仅为可控制转速和运行时间的直流电机,只具有甩干功能,本申请的涂胶装置在具备甩干功能的同时,通过将掩膜版放置在掩膜版架上,来固定掩膜版,可以使得掩膜版表面的光刻胶在甩干过程中变得较为均匀,保证光刻胶能较为均匀地覆盖掩膜版,避免了现有的涂胶装置无法使得掩膜版均匀涂布光刻胶的问题,保证了掩膜版的涂布光刻胶的效果较好。
Description
技术领域
本申请涉及涂胶领域,具体而言,涉及一种涂胶装置。
背景技术
现有技术中的涂胶装置,实际为甩干机,仅为可控制转速和运行时间的直流电机,只具有甩干功能。如果想用该甩干机进行掩膜版的涂胶,则由于该甩干机上没有固定该掩膜版的结构,而导致该甩干机无法使得方形掩膜版均匀涂布光刻胶。
实用新型内容
本申请的主要目的在于提供一种涂胶装置,以解决现有技术中涂胶装置无法使得方形掩膜版均匀涂布光刻胶的问题。
为了实现上述目的或其他目的,根据本申请的一个方面,提供了一种涂胶装置,包括甩干机,所述甩干机包括甩干机本体和掩膜版架,所述掩膜版架位于所述甩干机本体的表面上,所述掩膜版架用于固定掩膜版。
可选地,所述甩干机还包括掩膜版罩,可开合地设置在所述掩膜版架上。
可选地,所述掩膜版架包括支撑架和位于所述支撑架上的卡位件,所述卡位件用于将所述掩膜版固定在所述支撑架上。
可选地,所述卡位件包括凸起,且所述凸起有多个。
可选地,所述甩干机还包括甩干机盖板,所述甩干机盖板可开合地设置所述甩干机本体上。
可选地,所述甩干机盖板上具有开孔,所述涂胶装置还包括光刻胶供给设备,与所述开孔连接,所述光刻胶供给设备通过所述开孔将光刻胶设置在所述掩膜版上。
可选地,所述光刻胶供给设备包括储液设备和蠕动泵,其中,所述储液设备用于储存所述光刻胶;所述蠕动泵一端与所述储液设备连通,另一端与所述开孔连接。
可选地,所述光刻胶供给设备还包括控制开关,与所述蠕动泵连接,所述控制开关用于控制所述蠕动泵是否工作。
可选地,所述涂胶装置还包括排风罩和进风管,其中,所述排风罩罩设在所述甩干机的外周,所述排风罩上设置有开口;所述进风管与所述开口连通。
可选地,所述开口位于所述排风罩的顶面上。
本申请提供了一种涂胶装置,所述的涂胶装置,包括甩干机,所述甩干机包括甩干机本体和掩膜版架,所述掩膜版架位于所述甩干机本体的表面上,所述掩膜版架用于固定掩膜版。相比现有技术中的涂胶装置仅为可控制转速和运行时间的直流电机,只具有甩干功能,本申请的涂胶装置在具备甩干功能的同时,通过将掩膜版放置在所述掩膜版架上,来固定所述掩膜版,可以使得所述掩膜版表面的光刻胶在甩干过程中变得较为均匀,保证光刻胶能较为均匀地覆盖所述掩膜版,避免了现有的涂胶装置无法使得掩膜版均匀涂布光刻胶的问题,保证了掩膜版的涂布光刻胶的效果较好。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解,本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:
图1示出了根据本申请的一种具体的实施例得到的涂胶装置的示意图;
图2示出了根据本申请的另一种具体的实施例得到的涂胶装置的示意图。
其中,上述附图包括以下附图标记:
10、甩干机;20、光刻胶供给设备;30、排风罩;40、进风管;100、甩干机本体;101、掩膜版架;102、掩膜版罩;103、甩干机盖板;104、开孔;200、储液设备;201、蠕动泵;202、控制开关;300、开口。
具体实施方式
应该指出,以下详细说明都是例示性的,旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明,本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式,而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时,其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本实用新型的范围。同时,应当明白,为了便于描述,附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,上述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
应该理解的是,当元件(诸如层、膜、区域、或衬底)描述为在另一元件“上”时,该元件可直接在该另一元件上,或者也可存在中间元件。而且,在说明书以及权利要求书中,当描述有元件“连接”至另一元件时,该元件可“直接连接”至该另一元件,或者通过第三元件“连接”至该另一元件。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,在未作相反说明的情况下,这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制;方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。
为了便于描述,在这里可以使用空间相对术语,如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等,用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是,空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的器件被倒置,则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而,示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位),并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
此外,需要说明的是,使用“第一”、“第二”等词语来限定零部件,仅仅是为了便于对相应零部件进行区别,如没有另行声明,上述词语并没有特殊含义,因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。
正如背景技术所介绍的,现有技术中涂胶装置无法使得方形掩膜版均匀涂布光刻胶,为了解决如上的技术问题,本申请提出了一种涂胶装置。
根据本申请的一种典型的实施例,提供了一种涂胶装置,图1示出了根据本申请的实施例的涂胶装置的组成示意图,如图1所示,上述涂胶装置包括甩干机10,上述甩干机10包括甩干机本体100和掩膜版架101,上述掩膜版架101位于上述甩干机本体100的表面上,上述掩膜版架101用于固定掩膜版。
上述的涂胶装置,包括甩干机,上述甩干机包括甩干机本体和掩膜版架,上述掩膜版架位于上述甩干机本体的表面上,上述掩膜版架用于固定掩膜版。相比现有技术中的涂胶装置仅为可控制转速和运行时间的直流电机,只具有甩干功能,本申请的涂胶装置在具备甩干功能的同时,通过将掩膜版放置在上述掩膜版架上,来固定上述掩膜版,可以使得上述掩膜版表面的光刻胶在甩干过程中变得较为均匀,保证光刻胶能较为均匀地覆盖上述掩膜版,避免了现有的涂胶装置无法使得掩膜版均匀涂布光刻胶的问题,保证了掩膜版的涂布光刻胶的效果较好。
在实际的应用过程中,掩膜版一般为方形掩膜版,尺寸一般为5英寸或者6英寸,上述掩膜版架为上述掩膜版专用版架,上述掩膜版架可以为支持5英寸和6英寸的方形掩膜版放置的掩膜版架,当然,上述掩膜版架也可以设置成其他尺寸,来配合掩膜版的尺寸。现有的涂胶装置会使得方形掩膜版的四个角上覆盖不到胶,本申请的涂胶装置可以较好的缓解上述方形掩膜版四角缺胶的问题,使得光刻胶的涂覆效果较好。
为了进一步地缓解现有技术中涂胶装置无法使得方形掩膜版均匀涂布光刻胶的问题,根据本申请的一种具体的实施例,如图2所示,上述甩干机还包括掩膜版罩102,可开合地设置在上述掩膜版架101上。通过增加上述掩膜版罩,上述掩膜版罩和上述掩膜版架在固定了掩膜版的同时,降低了气流的影响,从而进一步地避免了光刻胶涂覆不均匀的问题,保证了掩膜版涂覆光刻胶的效果较好。
根据本申请的另一种具体的实施例,上述掩膜版架包括支撑架和位于上述支撑架上的卡位件,上述卡位件用于将上述掩膜版固定在上述支撑架上。通过上述卡位件将上述掩膜版固定在上述支撑架上,这样可以进一步地保证将上述掩膜版较好地固定在上述掩膜版架上,便于后续对上述掩膜版进行均匀地涂胶与甩干。
在实际的应用过程中,上述卡位件包括凸起,且凸起有多个,进一步地实现了将上述掩膜版较好地固定在上述掩膜版架上,便于后续对上述掩膜版进行均匀地涂胶与甩干。
具体地,在将掩膜版放在掩膜版架上时,上述凸起可以为卡设方形掩膜版的四个角的凸起,还可以为用于卡设在方形掩膜版的边的凸起,例如,一个边对应两个凸起;上述凸起的形状可以为直角形状,还可以圆柱状,本领域技术人员可以根据实际情况灵活选择上述凸起的数量、形状以及放置位置等,只要起到把掩膜版固定在上述支架上的作用即可。当然上述的卡位件并不限于凸起,还可以其他结构,比如上述卡位件还可以为与掩膜版形状匹配的凹槽,通过把掩膜版放置在上述凹槽中,实现对掩膜版的固定;上述卡位件还可以为凹槽和凸起的组合,当然,上述卡位件还可以为其他合适的结构。
在本申请的再一种具体的实施例中,如图1和图2所示,其中,图1示出了根据本申请的一种具体的实施例的涂胶装置的示意图,图2示出了根据本申请的另一种具体的实施例的涂胶装置的示意图,上述甩干机10还包括甩干机盖板103,上述甩干机盖板103可开合地设置在上述甩干机本体100上。通过可开合的上述甩干机盖板,便于开合上述甩干机盖板来对上述掩膜版进行操作。在不使用涂胶设备的情况下,可以将上述甩干机盖板合上,来防止上述甩干机内落灰,避免灰尘污染掩膜版架,保证了甩干机内部清洁。
根据本申请的又一种具体的实施例,如图1和图2所示,上述甩干机盖板103上具有开孔104,上述涂胶装置还包括光刻胶供给设备20,光刻胶供给设备20与上述开孔104连接,上述光刻胶供给设备20通过上述开孔104将光刻胶设置在上述掩膜版上。通过上述光刻胶供给设备,保证了上述涂胶装置给上述掩膜版涂覆光刻胶,上述甩干机盖板上具有开孔,使得无需打开甩干机盖板,就能将光刻胶设置在上述掩膜版上,避免了打开甩干机盖板给上述掩膜版涂覆光刻胶造成的环境污染问题。同时,上述光刻胶供给设备与上述开孔连接,通过上述开孔将光刻胶设置在上述掩膜版上,避免了现有的人工针筒手动点胶的问题,保证了点胶的效率较高。
需要说明的是,为了方便制图,上述涂胶设备中的部分连接管线在图1和图2中呈现为一条直线段或多条弯折的直线段,但实际上的连接管线应该为具有一定宽度的管路。
在实际的应用过程中,如图1和图2所示,上述光刻胶供给设备20包括储液设备200和蠕动泵201,其中,上述储液设备200用于储存上述光刻胶;上述蠕动泵201一端与上述储液设备200连通,另一端与上述开孔104连接。上述光刻胶供给设备,通过上述蠕动泵将上述储液设备中的光刻胶涂覆到上述掩膜版上,上述蠕动泵适用于光刻胶的粘度和密度,可以较均匀地实现光刻胶的涂覆,且不会对光刻胶造成污染,进一步地保证了喷涂效果较好。
根据本申请的另一种具体的实施例中,如图1和图2所示,上述光刻胶供给设备20还包括控制开关202,与上述蠕动泵201连接,上述控制开关202用于控制上述蠕动泵201是否工作。通过上述控制开关,可以灵活的控制光刻胶的喷涂量,实现了光刻胶的定点定量喷涂功能,进一步地保证了掩膜版涂布光刻胶的均匀性较好。
本申请的又一种具体的实施例中,上述控制开关包括脚踏开关。通过控制上述脚踏开关,可以使得涂胶装置灵活地喷射光刻胶到掩膜版表面,且能较好的控制光刻胶的喷涂量,这样进一步地保证了掩膜版涂布光刻胶的均匀性较好。
一种具体的实施例中,上述涂胶装置还包括出液口,通过控制上述出液口,可以实现对掩膜版的自动定点喷胶,进一步地保证了经上述涂胶装置,得到的掩膜版的光刻胶均匀性好,基本解决了掩膜版四角缺胶的问题,同时,相比现有技术中的甩干机,没有光刻胶自动注射口,无法实现喷光刻胶的功能,只能使用针筒手工注射光刻胶,本申请的涂胶装置通过自动喷胶,可以满足量产需求,极大地节省了点胶的人力成本。
本申请的再一种具体的实施例中,如图1和图2所示,上述涂胶装置还包括排风罩30和进风管40,其中,上述排风罩30罩设在上述甩干机10的外周,上述排风罩30上设置有开口300;上述进风管40与上述开口300连通。上述涂胶装置通过上述排风罩将整个上述涂胶装置罩住,通过上述进风管与上述开口连通来排风,使得排风罩内部形成负压,相比现有技术中的甩干机无排风,导致光刻胶的气味污染甩干机所在的净化间,本申请的涂胶装置有效地避免了排风罩内的气味散发,保证了净化间的空气质量较好。
在实际的应用过程中,上述开口位于上述排风罩的顶面上。上述开口位于上述排风罩的顶面上,便于将光刻胶的挥发气体通过顶面上的开口排出。
从以上的描述中,可以看出,本申请上述的实施例实现了如下技术效果:
本申请提供了一种涂胶装置,上述的涂胶装置,包括甩干机,上述甩干机包括甩干机本体和掩膜版架,上述掩膜版架位于上述甩干机本体的表面上,上述掩膜版架用于固定掩膜版。相比现有技术中的涂胶装置仅为可控制转速和运行时间的直流电机,只具有甩干功能,本申请的涂胶装置在具备甩干功能的同时,通过将掩膜版放置在上述掩膜版架上,来固定上述掩膜版,可以使得上述掩膜版表面的光刻胶在甩干过程中变得较为均匀,保证光刻胶能较为均匀地覆盖上述掩膜版,避免了现有的涂胶装置无法使得掩膜版均匀涂布光刻胶的问题,保证了掩膜版的涂布光刻胶的效果较好。
以上所述仅为本申请的优选实施例而已,并不用于限制本申请,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种涂胶装置,其特征在于,包括甩干机,所述甩干机包括:
甩干机本体;
掩膜版架,位于所述甩干机本体的表面上,所述掩膜版架用于固定掩膜版,
所述甩干机还包括:
掩膜版罩,可开合地设置在所述掩膜版架上;
所述掩膜版架包括支撑架和位于所述支撑架上的卡位件,所述卡位件用于将所述掩膜版固定在所述支撑架上。
2.根据权利要求1所述的涂胶装置,其特征在于,所述卡位件包括凸起,且所述凸起有多个。
3.根据权利要求1或2所述的涂胶装置,其特征在于,所述甩干机还包括甩干机盖板,所述甩干机盖板可开合地设置所述甩干机本体上。
4.根据权利要求3所述的涂胶装置,其特征在于,所述甩干机盖板上具有开孔,所述涂胶装置还包括:
光刻胶供给设备,与所述开孔连接,所述光刻胶供给设备通过所述开孔将光刻胶设置在所述掩膜版上。
5.根据权利要求4所述的涂胶装置,其特征在于,所述光刻胶供给设备包括:
储液设备,用于储存所述光刻胶;
蠕动泵,一端与所述储液设备连通,另一端与所述开孔连接。
6.根据权利要求5所述的涂胶装置,其特征在于,所述光刻胶供给设备还包括:
控制开关,与所述蠕动泵连接,所述控制开关用于控制所述蠕动泵是否工作。
7.根据权利要求1或2所述的涂胶装置,其特征在于,所述涂胶装置还包括:
排风罩,罩设在所述甩干机的外周,所述排风罩上设置有开口;
进风管,与所述开口连通。
8.根据权利要求7所述的涂胶装置,其特征在于,所述开口位于所述排风罩的顶面上。
Priority Applications (1)
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2020
- 2020-11-19 CN CN202022697916.0U patent/CN214390910U/zh active Active
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