CN214022246U - 一种退镀处理清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种退镀处理清洗设备,用于清洗退镀件,包括传送装置和位于传送装置上方的清洗装置,所述传送装置包括第一传送带和位于第一传送带下方的第二传送带,第一传动带的输出端和第二传送带的输入端位于同一垂直面上;在第一传送带和第二传送带之间还设置有用于将退镀件翻面以便于清洗的翻转机构。本实用新型的退镀处理清洗设备,通过在传送装置中设置翻转机构,使得退镀件在清洗过程中可以翻面清洗,减少退镀件表面的杂质残留,还避免了人工操作退镀件翻转时接触残留退镀液,提高了安全性。
Description
技术领域
本实用新型涉及退镀装置技术领域,尤其涉及一种退镀处理清洗设备。
背景技术
电镀的目的是在基材上镀上金属镀层,采用电镀具有多种有益效果:如能够提高金属制品或者零件的耐蚀性能,例如钢铁制品或者零件表面镀锌;再如能提高金属制品的防护及装饰性能,例如钢铁制品表面镀铜、镀镍镀铬等;同时也能修复金属零件尺寸,例如轴、齿轮等重要机械零件使用后磨损,可采用镀铁、镀铬等恢复其尺寸;同时电镀还可赋予某种制品或零件某种特殊的功能。在实际生产之中,电镀的产品具有很多不合格的次品,这些电镀后的不合格次品要进行返工,即需要进行退镀处理,退镀处理一般是采用将产品浸入退镀液中进行退镀,在退镀完成后产品表面会有退镀液及镀层残留,需要对产品进行清洗,现有的清洗设备一般是将产品放入水中浸泡进行洗,但是放入水中浸泡很容易产生清洗不完全的情况,粘连在产品表面的镀层和杂质很难去除。
因此,结合上述存在的技术问题,有必要提供一种新的技术方案。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种结构简单、清洗更彻底且适用性高的退镀处理清洗设备。
为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种退镀处理清洗设备,具体技术方案如下所述:
一种退镀处理清洗设备,用于清洗退镀件,包括传送装置和位于传送装置上方的清洗装置,所述传送装置包括第一传送带和位于第一传送带下方的第二传送带,第一传送带的输出端和第二传送带的输入端位于同一垂直面上;在第一传送带和第二传送带之间还设置有用于将退镀件翻面以便于清洗的翻转机构。
优选的是,所述传送装置还包括第一滑轨和第二滑轨,第一滑轨和第一传送带互相平行且位于同一平面,第二滑轨和第二传送带互相平行且位于同一平面;第一滑轨和第二滑轨设于第一传送带和第二传送带的同侧。
优选的是,所述清洗装置包括第一喷头和第二喷头,第一喷头位于第一传送带的正上方,第二喷头位于第二传送带的正上方。
优选的是,所述翻转机构包括气缸,气缸的活塞杆位于第一传送带和第一滑轨之间以便于推动退镀件翻转。
优选的是,所述气缸的活塞杆露出于第一滑轨末端和第一传送带末端之间。
优选的是,所述翻转机构还包括用于感应退镀件的位置并控制气缸运动的传感器,传感器与气缸电连接。
优选的是,所述传送装置上设置有多对用于定位退镀件的限位滚轮,限位滚轮分别对称设于第一传送带和第二传送带的输入端的两侧。
优选的是,所述限位滚轮的位置可根据退镀件的尺寸调节。
本实用新型的一种退镀处理清洗设备,具有如下有益效果:
(1)本实用新型的退镀处理清洗设备,通过在传送装置中设置翻转机构,使得退镀件在清洗过程中可以翻面清洗,减少退镀件表面的杂质残留,还避免了人工操作退镀件翻转时接触残留退镀液,提高了安全性;
(2)本实用新型的退镀处理清洗设备,通过喷头清洗水压较大使得清洗效果较浸泡清洗更佳,而设置两个清洗喷头,分别在对退镀件翻转前和翻转后对退镀件进行清洗,进一步提高清洗效果;
本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它附图。
图1 为本实用新型的结构示意图;
图2 为本实用新型传送装置的俯视图(包括两对限位滚轮)。
其中,1-传送装置;11-第一传送带;12-第二传送带;13-第一滑轨;14-第二滑轨;2-清洗装置;21-第一喷头;22-第二喷头;3-翻转机构;31-气缸;32-传感器;4-限位滚轮;5-退镀件。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
实施例
请参阅图1至图2,一种退镀处理清洗设备,用于清洗退镀件5,包括传送装置1和位于传送装置1上方的清洗装置2,传送装置1包括第一传送带11和位于第一传送带11下方的第二传送带12,第一传送带11的输出端和第二传送带12的输入端位于同一垂直面上;在第一传送带11和第二传送带12之间还设置有用于将退镀件5翻面以便于清洗的翻转机构3。传送装置1还包括第一滑轨13和第二滑轨14,第一滑轨13和第一传送带11互相平行且位于同一平面,第二滑轨14和第二传送带12互相平行且位于同一平面;第一滑轨13和第二滑轨14设于第一传送带和第二传送带12的同侧。清洗装置2包括第一喷头21和第二喷头22,第一喷头21位于第一传送带11的正上方,第二喷头22位于第二传送带12的正上方。翻转机构3包括气缸31,气缸31的活塞杆位于第一传送带11和第一滑轨13之间以便于推动退镀件5翻转。气缸31的活塞杆露出于第一滑轨13末端和第一传送带11末端之间。翻转机构3还包括用于感应退镀件5的位置并控制气缸31运动的传感器32,传感器32与气缸31电连接。传送装置1上设置有多对用于定位退镀件5的限位滚轮4,限位滚轮4分别对称设于第一传送带11和第二传送带12的输入端的两侧。限位滚轮4的位置可根据退镀件5的尺寸调节。
本实用新型在工作时,已完成退镀的退镀件5进入第一传送带11,位于第一传送带11输入端两侧的限位滚轮4对退镀件5进行定位,使得退镀件5的左右两端分别位于第一传送带11和第一滑轨13上,退镀件5在第一传送带11的驱动下运动至第一喷头21正下方进行清洗,之后继续运动至第一传送带11的输出端,翻转机构3中的传感器32感应到退镀件5的位置,驱动气缸31的活塞杆上升以推动退镀件5,此时退镀件5由于第一传送带11和第二传送带12存在高度差,其运动方向的前端下移,后端在气缸31的推动下向上方运动,完成翻转并进入第二传送带12的输入端,经第二传送带12输入端两侧的限位滚轮4的定位后运动至第二喷头22正下方,对退镀件5的翻转前的下表面进行清洗,去除退镀件5表面的杂质残留。
本实用新型的的有益效果是:通过在传送装置中设置翻转机构,使得退镀件在清洗过程中可以翻面清洗,减少退镀件表面的杂质残留,还避免了人工操作退镀件翻转时接触残留退镀液,提高了安全性;通过喷头清洗水压较大使得清洗效果较浸泡清洗更佳,而设置两个清洗喷头,分别在对退镀件翻转前和翻转后对退镀件进行清洗,进一步提高清洗效果。
尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本实用新型的限制,本领域的普通技术人员在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改和变型。
Claims (8)
1.一种退镀处理清洗设备,用于清洗退镀件(5),其特征在于:包括传送装置(1)和位于传送装置(1)上方的清洗装置(2),所述传送装置(1)包括第一传送带(11)和位于第一传送带(11)下方的第二传送带(12),第一传送带(11)的输出端和第二传送带(12)的输入端位于同一垂直面上;在第一传送带(11)和第二传送带(12)之间还设置有用于将退镀件(5)翻面以便于清洗的翻转机构(3)。
2.根据权利要求1所述的退镀处理清洗设备,其特征在于:所述传送装置(1)还包括第一滑轨(13)和第二滑轨(14),第一滑轨(13)和第一传送带(11)互相平行且位于同一平面,第二滑轨(14)和第二传送带(12)互相平行且位于同一平面;第一滑轨(13)和第二滑轨(14)设于第一传送带和第二传送带(12)的同侧。
3.根据权利要求1所述的退镀处理清洗设备,其特征在于:所述清洗装置(2)包括第一喷头(21)和第二喷头(22),第一喷头(21)位于第一传送带(11)的正上方,第二喷头(22)位于第二传送带(12)的正上方。
4.根据权利要求2所述的退镀处理清洗设备,其特征在于:所述翻转机构(3)包括气缸(31),气缸(31)的活塞杆位于第一传送带(11)和第一滑轨(13)之间以便于推动退镀件(5)翻转。
5.根据权利要求4所述的退镀处理清洗设备,其特征在于:所述气缸(31)的活塞杆露出于第一滑轨(13)末端和第一传送带(11)末端之间。
6.根据权利要求4所述的退镀处理清洗设备,其特征在于:所述翻转机构(3)还包括用于感应退镀件(5)的位置并控制气缸(31)运动的传感器(32),传感器(32)与气缸(31)电连接。
7.根据权利要求1所述的退镀处理清洗设备,其特征在于:所述传送装置(1)上设置有多对用于定位退镀件(5)的限位滚轮(4),限位滚轮(4)分别对称设于第一传送带(11)和第二传送带(12)的输入端的两侧。
8.根据权利要求7所述的退镀处理清洗设备,其特征在于:所述限位滚轮(4)的位置可根据退镀件(5)的尺寸调节。
Priority Applications (1)
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Family Applications (1)
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CN202022905039.1U Active CN214022246U (zh) | 2020-12-07 | 2020-12-07 | 一种退镀处理清洗设备 |
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2020
- 2020-12-07 CN CN202022905039.1U patent/CN214022246U/zh active Active
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