CN213715494U - 一种反射镜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种反射镜,所述反射镜包括基材层,以及叠置在所述基材层上的反射膜层;所述基材层为高分子材料,所述反射膜层由在基材层上依次沉积的第一单质硅层、第一氧化硅层、第二单质硅层、第二氧化硅层、第三单质硅层组成。本实用新型提供的反射镜,解决了玻璃镜易碎的问题,而且还具有重量轻的特点。另外,本申请的反射镜,反射膜层由在基材层上依次沉积的第一单质硅层、第一氧化硅层、第二单质硅层、第二氧化硅层、第三单质硅层这五层组成,不需要设置保护漆,解决了玻璃反射镜易碎、易漏光的问题。
Description
技术领域
本实用新型主要涉及镜子的技术领域,更具体地涉及一种反射镜。
背景技术
现有反射镜,其结构主要是由玻璃基材、金属膜和保护漆组成。金属膜为银、铝、铬等金属薄膜。这种玻璃镜不仅沉重,还易破碎,尤其是在学校里,学生因嬉戏不小心撞碎镜子,不仅清理困难,而且易造成划伤,出现很多不良后果。
实用新型内容
本实用新型提供了一种与现有技术不同的反射镜。
本实用新型提供的一种反射镜,包括基材层,以及叠置在所述基材层上的反射膜层;所述基材层为高分子材料,所述反射膜层由在基材层上依次沉积的第一单质硅层、第一氧化硅层、第二单质硅层、第二氧化硅层、第三单质硅层组成。
作为本申请提供的反射镜的一种实施方案,所述反射膜层的第一单质硅层的厚度为10-30nm、第一氧化硅层的厚度为5-15nm、第二单质硅层的厚度为20-40nm、第二氧化硅层的厚度为90-110nm 、第三单质硅层的厚度为10-30nm。
作为本申请提供的反射镜的一种实施方案,所述反射膜层是通过磁控溅射工艺沉积在所述基材层上。
作为本申请提供的反射镜的一种实施方案,所述氧化硅为SiO2。
作为本申请提供的反射镜的一种实施方案,所述基材层为PMMA。
作为本申请提供的反射镜的一种实施方案,所述反射镜还包括叠置在所述反射膜层上的加硬层。
作为本申请提供的反射镜的一种实施方案,所述加硬层为紫外光固化硬质涂层和热固型有机硅硬质涂层。
作为本申请提供的反射镜的一种实施方案,所述加硬层的厚度为5-50μm。
作为本申请提供的反射镜的一种实施方案,所述基材层上背离反射膜层的一面设置有加硬层。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
本实用新型提供的反射镜,解决了玻璃镜易碎的问题,而且还具有重量轻的特点。另外,本申请的反射镜,反射膜层由在基材层上依次沉积的第一单质硅层、第一氧化硅层、第二单质硅层、第二氧化硅层、第三单质硅层这五层组成,不需要设置保护漆,解决了玻璃反射镜易碎、易漏光的问题。
附图说明
图1为本实用新型实施例的一种反射镜的结构示意图;
图2为本实用新型实施例的一种反射镜的反射膜层的结构示意图。
附图标记:
基材层1、反射膜层2、加硬层3、第一单质硅层21、第一氧化硅层22、第二单质硅层23、第二氧化硅层24、第三单质硅层25。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例,都应当属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接或彼此可通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
如图1所示,本申请提出了一种反射镜,其包括基材层1以及叠置在所述基材层1上的反射膜层2。
本申请实施例的基材层1为高分子材料,高分子材料例如为PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PC(聚碳酸酯)、PS(聚苯乙烯)等。作为本申请优选的一种实施方案,基材层1选为PMMA材料。PMMA作为一种优异的光学材料,也叫亚克力,化学名称为聚甲基丙烯酸甲酯,俗称有机玻璃,是迄今为止质地最优异,价格又比较适宜的品种。本申请的反射镜,由于其基材为高分子材料,在成型方面比玻璃具有明显的优势,可根据客户的需要制作特殊要求的形状、曲面。
本申请实施例的反射膜层2由在基材层1上依次沉积的单质硅层、氧化硅层、单质硅层、氧化硅层、单质硅层这五层所组成。
本实用新型提供的反射镜,解决了玻璃镜易碎的问题,而且还具有重量轻的特点。另外,本申请的反射镜,如图2所示,反射膜层2由在基材层1上依次沉积的单质硅层、氧化硅层、单质硅层、氧化硅层、单质硅层这五层组成,与现有的金属薄膜相比,不容易脱落,耐用性好。
现有技术的铝等金属薄膜容易氧化脱落,因此保护漆可以起到保护的作用,保护漆长时间暴露在空气中,易受到空气中酸、碱的影响,会出现脱落现象,导致无法保护其中的金属膜,最终导致镜子漏光,缩短了镜子的使用寿命。而本申请的反射膜层2为五层复合膜层,主要为单质硅以及硅的氧化物,且最低一层和最上面一层为单质硅,因此不需要设置保护漆,解决了玻璃反射镜易碎、易漏光的问题。
相比于其它多层的反射层,本申请具体实施例的反射膜层具有以下好处:
一、只需要硅靶就可以完成溅射,可节约成本;二、相比于其它高折射率材料(比如二氧化钛折射率为2.2-2.6、五氧化二铌折射率为2.2-2.6),硅的折射率更高,具体射率为3-5。根据多层膜反射率公式可知,高的折射率材料可以以更薄的膜厚和层数设计成反射层;三、Al等金属层质软易划伤且易受大气腐蚀,影响产品性能,如果做特殊处理,产品工序增加,导致成本增加;本申请的反射膜层相比于Al等金属层,光学膜反射层耐腐蚀、耐刮伤。
上述的反射膜层2可以通过磁控溅射工艺沉积在基材层1上。反射膜层2的制备过程是,将PMMA基材层1清洗干净并干燥,先在基材层1上沉积第一单质硅层21(即硅层);之后,在第一单质硅层21(即硅层)上沉积第一氧化硅层22;再于第一氧化硅层22上沉积第二单质硅层23;接着在第二单质硅层23上沉积第三单质硅层25。在工艺过程中,需要控制反射膜层2的各膜层的厚度,作为本申请优选的一种实施方案,反射膜层2的第一单质硅层21的厚度为10-30nm、第一氧化硅层22的厚度为5-15nm、第二单质硅层23的厚度为20-40nm、第二氧化硅层24的厚度为90-110nm、第三单质硅层25的厚度为10-30nm。本申请具体实施例的该反射镜,具有高反射性,其反射率在75%以上。上述的氧化硅层为SiO2。
为了进一步改善反射镜的性能,所述反射镜还包括叠置在所述反射膜层2上的加硬层3(Hard Coating),使其耐刮伤。该加硬层3例如为紫外光固化硬质涂层体系,其是以多官能度丙烯酸酯为主体的紫外光固化硬质涂层;该加硬层3耐磨性好,具有硬度高、耐刮伤、不发生形变等优点,具有高透光率,透光率>94%。或者,还可以采用热固型有机硅硬质涂层体系,具体的,是以聚硅氧烷预聚体为主体的热固型有机硅硬质涂层,也具有与紫外光固化硬质涂层体系相似的效果。
加硬层3可以通过喷涂等方式在反射膜层2上涂布形成,再通过UV固化或热固化即可。作为本申请优选的一种实施方案,加硬层3的厚度为5-50μm之间。
作为更进一步的改善方案,除了在反射膜层2上层叠加硬层3外,在基材层1上背离反射膜层2的一面设置有加硬层3,该加硬层3的设置不仅可以保护背面,还可以提高反射镜的耐潮性,防止PMMA等高分子材料吸收周围空气的潮气而形变。
本申请的反射镜,还可用于汽车,作为后视镜。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
本实用新型提供的反射镜,解决了玻璃镜易碎的问题,而且还具有重量轻的特点。另外,本申请的反射镜,反射膜层由在基材层上依次沉积的第一单质硅层、第一氧化硅层、第二单质硅层、第二氧化硅层、第三单质硅层这五层组成,与现有的金属薄膜相比,不容易脱落,耐用性好。
显然,以上所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例,附图中给出了本申请的较佳实施例,但并不限制本申请的专利保护范围。本申请可以以许多不同的形式来实现,相反地,提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容的理解更加透彻全面。尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明,对于本领域的技术人员而言,其依然可以对前述各具体实施方式所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等效替换。凡是利用本申请说明书及附图内容所做的等效结构,直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理在本申请专利保护范围之内。
Claims (9)
1.一种反射镜,所述反射镜包括基材层,以及叠置在所述基材层上的反射膜层;其特征在于,所述基材层为高分子材料,所述反射膜层由在基材层上依次沉积的第一单质硅层、第一氧化硅层、第二单质硅层、第二氧化硅层、第三单质硅层组成。
2.根据权利要求1所述的反射镜,其特征在于,所述反射膜层的第一单质硅层的厚度为10-30nm、第一氧化硅层的厚度为5-15nm、第二单质硅层的厚度为20-40nm、第二氧化硅层的厚度为90-110nm 、第三单质硅层的厚度为10-30nm。
3.根据权利要求1所述的反射镜,其特征在于,所述反射膜层是通过磁控溅射工艺沉积在所述基材层上。
4.根据权利要求1所述的反射镜,其特征在于,所述氧化硅为SiO2。
5.根据权利要求1所述的反射镜,其特征在于,所述基材层为PMMA。
6.根据权利要求1所述的反射镜,其特征在于,所述反射镜还包括叠置在所述反射膜层上的加硬层。
7.根据权利要求6所述的反射镜,其特征在于,所述加硬层为紫外光固化硬质涂层和热固型有机硅硬质涂层。
8.根据权利要求7所述的反射镜,其特征在于,所述加硬层的厚度为5-50μm。
9.根据权利要求1所述的反射镜,其特征在于,所述基材层上背离反射膜层的一面设置有加硬层。
Priority Applications (1)
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CN202021405023.8U CN213715494U (zh) | 2020-07-16 | 2020-07-16 | 一种反射镜 |
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CN202021405023.8U Active CN213715494U (zh) | 2020-07-16 | 2020-07-16 | 一种反射镜 |
Country Status (1)
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2020
- 2020-07-16 CN CN202021405023.8U patent/CN213715494U/zh active Active
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