CN213680509U - 一种新型光学保护膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种新型光学保护膜，包括低折射率抗指纹涂层、耐磨层、光线雾化层、纳米吸波层、透明基材和光学压敏胶层，低折射率抗指纹涂层、耐磨层、光线雾化层、纳米吸波层、透明基材和光学压敏胶层从上往下依次层叠设置，本实用新型的结构简单，设计合理，增加了低折射率抗指纹涂层来防指纹，减少保护膜表面油污残留，增加了耐磨层来提高耐磨性和结构强度，增加了光线雾化层来提高光线透过率和光学效果，提升光线扩散效果和光线雾化程度，增加了纳米吸波层来吸收电磁波，提高保护膜的抗电磁波效果。

Description

一种新型光学保护膜

技术领域

本实用新型涉及电子产品保护膜技术领域，更具体地说，是涉及一种新型光学保护膜。

背景技术

随着电子科技的发展，电子产品例如手机和平板电脑等，已经成为人们日常生活中必不可少的产品，而光学保护膜则可以对电子产品的屏幕起到很好的保护作用。然而，目前的光学保护膜存在以下不足：1、在使用时，由于其表面强度差，使保护膜易于损坏；2、保护膜表面容易产生指纹；3、透光率和光线效果仍有待加强；4、不具有抗电磁波效果。为此，我们提出一种新型光学保护膜。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中的上述缺陷，提供一种新型光学保护膜。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种新型光学保护膜，包括低折射率抗指纹涂层、耐磨层、光线雾化层、纳米吸波层、透明基材和光学压敏胶层，所述低折射率抗指纹涂层、耐磨层、光线雾化层、纳米吸波层和透明基材从上往下依次层叠设置，所述耐磨层与光线雾化层之间、光线雾化层与纳米吸波层之间、纳米吸波层与透明基材之间分别通过纳米光学胶粘接，所述光学压敏胶层连接在透明基材的下表面。

作为优选的实施方式，所述低折射率抗指纹涂层的折射率低于1.46，由UV固化型丙烯系防指纹添加剂涂覆成型。

作为优选的实施方式，所述耐磨层为钢化玻璃或高硬度PMMA。

作为优选的实施方式，所述光线雾化层为紫外光固化树脂，所述紫外光固化树脂为甲基丙烯酰氧基树脂。

作为优选的实施方式，所述纳米吸波层由纳米吸波材料制成，所述纳米吸波材料包括纳米吸波粉和/或纳米吸波纤维。

作为优选的实施方式，所述透明基材为透光率大于90％和雾度小于1％的光学级PET膜或PC膜。

作为优选的实施方式，所述光学压敏胶层为丙烯酸酯压敏胶、聚氨酯压敏胶或有机硅压敏胶。

作为优选的实施方式，该新型光学保护膜还包括离型膜，所述离型膜连接在光学压敏胶层的下表面。

作为优选的实施方式，所述离型膜为有机硅离型膜或有机氟类离型膜。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

本实用新型的结构简单，设计合理，增加了低折射率抗指纹涂层来防指纹，减少保护膜表面油污残留，增加了耐磨层来提高耐磨性和结构强度，增加了光线雾化层来提高光线透过率和光学效果，提升光线扩散效果和光线雾化程度，增加了纳米吸波层来吸收电磁波，提高保护膜的抗电磁波效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的第一种新型光学保护膜的结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的第二种新型光学保护膜的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例一

请参考图1，本实用新型的实施例一提供了一种新型光学保护膜，包括低折射率抗指纹涂层1、耐磨层2、光线雾化层3、纳米吸波层4、透明基材5和光学压敏胶层6，下面结合附图对本实施例各个组成部分进行详细说明。

如图1所示，低折射率抗指纹涂层1、耐磨层2、光线雾化层3、纳米吸波层4和透明基材5从上往下依次层叠设置，耐磨层2与光线雾化层3之间、光线雾化层3与纳米吸波层4之间、纳米吸波层4与透明基材5之间分别通过纳米光学胶7粘接，光学压敏胶层6连接在透明基材5的下表面。

低折射率抗指纹涂层1的折射率可以低于1.46，由大金公司生产的UV固化型丙烯系防指纹添加剂(OPTOOL DAC-HP)涂覆成型。低折射率抗指纹涂层1起到增加保护膜的防指纹效果，减少保护膜表面油污残留，增加用户使用体验。

耐磨层2可以为碱铝硅酸盐钢化玻璃或高硬度PMMA，其提高耐磨性和结构强度。

光线雾化层3可以为紫外光固化树脂，紫外光固化树脂可以为甲基丙烯酰氧基树脂。光线雾化层3可使光线的反射率达到最小，最大程度提高光线透过率，有效提高保护膜的光学效果，可以提升光线扩散效果和光线雾化程度。

纳米吸波层4可以由纳米吸波材料制成，纳米吸波材料可以包括纳米吸波粉和/或纳米吸波纤维。纳米吸波层4能够吸收电磁波，形成防护层，提高保护膜的抗电磁波效果。

透明基材5可以为透光率大于90％和雾度小于1％的光学级PET膜或PC膜，光学效果好。

光学压敏胶层6可以为丙烯酸酯压敏胶、聚氨酯压敏胶或有机硅压敏胶。

实施例二

请参考图2，本实用新型的实施例二提供了另一种新型光学保护膜，其也包括上述实施例一所述的低折射率抗指纹涂层1、耐磨层2、光线雾化层3、纳米吸波层4、透明基材5和光学压敏胶层6，与上述实施例一的相同之处不再赘述，不同之处在于：还包括离型膜8，离型膜8连接在光学压敏胶层6的下表面。其中，离型膜8可以为有机硅离型膜或有机氟类离型膜。贴膜时，可以剥离离型膜8。

综上所述，本实用新型的结构简单，设计合理，增加了低折射率抗指纹涂层来防指纹，减少保护膜表面油污残留，增加了耐磨层来提高耐磨性和结构强度，增加了光线雾化层来提高光线透过率和光学效果，提升光线扩散效果和光线雾化程度，增加了纳米吸波层来吸收电磁波，提高保护膜的抗电磁波效果。

上述实施例可以为本实用新型较佳的实施方式，但本实用新型的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本实用新型的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应可以为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种新型光学保护膜，其特征在于：包括低折射率抗指纹涂层、耐磨层、光线雾化层、纳米吸波层、透明基材和光学压敏胶层，所述低折射率抗指纹涂层、耐磨层、光线雾化层、纳米吸波层和透明基材从上往下依次层叠设置，所述耐磨层与光线雾化层之间、光线雾化层与纳米吸波层之间、纳米吸波层与透明基材之间分别通过纳米光学胶粘接，所述光学压敏胶层连接在透明基材的下表面。

2.根据权利要求1所述的一种新型光学保护膜，其特征在于：所述低折射率抗指纹涂层的折射率低于1.46，由UV固化型丙烯系防指纹添加剂涂覆成型。

3.根据权利要求1所述的一种新型光学保护膜，其特征在于：所述耐磨层为钢化玻璃或高硬度PMMA。

4.根据权利要求1所述的一种新型光学保护膜，其特征在于：所述光线雾化层为紫外光固化树脂，所述紫外光固化树脂为甲基丙烯酰氧基树脂。

5.根据权利要求1所述的一种新型光学保护膜，其特征在于：所述纳米吸波层由纳米吸波材料制成，所述纳米吸波材料为纳米吸波粉或纳米吸波纤维。

6.根据权利要求1所述的一种新型光学保护膜，其特征在于：所述透明基材为透光率大于90％和雾度小于1％的光学级PET膜或PC膜。

7.根据权利要求1所述的一种新型光学保护膜，其特征在于：所述光学压敏胶层为丙烯酸酯压敏胶、聚氨酯压敏胶或有机硅压敏胶。

8.根据权利要求1所述的一种新型光学保护膜，其特征在于：还包括离型膜，所述离型膜连接在光学压敏胶层的下表面。

9.根据权利要求8所述的一种新型光学保护膜，其特征在于：所述离型膜为有机硅离型膜或有机氟类离型膜。

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