CN213645167U - 超声波清洗箱 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种超声波清洗箱，旨在提供一种设计合理、干净度高和工作效率高的超声波清洗箱。本实用新型包括清洗箱本体，所述清洗箱本体的下端设置有超声波发生器，所述清洗箱本体的内部设置有提篮网架，所述提篮网架上设置有若干个网杯，所述网杯内放置有若干个石英晶体，所述清洗箱本体的顶端设置有注水管，所述注水管的出口处设置有过滤袋，所述清洗箱本体的中上部设置有溢水口，所述清洗箱本体的底部设置有排水阀，工作时所述溢水口位于石英晶体的上方。本实用新型应用于石英晶体的生产加工的技术领域。

Description

超声波清洗箱

技术领域

本实用新型涉及一种清洗箱,特别涉及一种超声波清洗箱。

背景技术

石英晶片在切割、研磨、滚筒加工过程中，因受到机械加工，研磨材与石英晶片之间的撞击产生了表面破坏层，由于表面破坏层存在极微小的凹凸不平，导致研磨材残留特及一些金属离子附着物粘附在晶片表层，如果清洗不能将其清洗干净直接增加晶体振动能量的损耗，同时也带来了表面应力弛豫效应。制成石英谐振器后，还会由于石英碎屑的脱落，引起频率漂移和电极不牢、老化率大、电阻大等问题。因此石英晶片必须进行清洗、腐蚀，清除表面破坏层，改善表面状态。石英晶体的石英晶片在制作工程中必须进行腐蚀抛光，由于石英晶片体积小、厚度薄、与液体接触后容易粘团及腐蚀后表面残留等不便于清洗干净，现有的清洗技术是将石英晶体放入网杯中，然后放入超声波清洗箱内浸泡清洗，该浸泡清洗方式需要频繁停机，对超声波清洗箱进行整机换水，影响工作效率。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种设计合理、干净度高和工作效率高的超声波清洗箱。

本实用新型所采用的技术方案是：本实用新型包括清洗箱本体，所述清洗箱本体的下端设置有超声波发生器，所述清洗箱本体的内部设置有提篮网架，所述提篮网架上设置有若干个网杯，所述网杯内放置有若干个石英晶体，所述清洗箱本体的顶端设置有注水管，所述注水管的出口处设置有过滤袋，所述清洗箱本体的中上部设置有溢水口，所述清洗箱本体的底部设置有排水阀，工作时所述溢水口位于石英晶体的上方。

进一步的，所述清洗箱本体的底部设置有加热管，所述清洗箱本体的内部还设置有温度传感器，所述清洗箱本体的外端设置有与所述加热管和所述温度传感器均电性连接的温控器。

进一步的，所述溢水口外部连接有循环水箱，所述循环水箱内部设置有过滤组件。

进一步的，所述提篮网架的底部设置有升降网板，所述升降网板的四周均设置有升降移动滑块，所述清洗箱本体的四周设置有与所述升降移动滑块相适配的导轨，所述清洗箱本体的底部两端均设置有所述升降网板相连接的升降驱动装置。

进一步的，所述清洗箱本体的底部还设置有伺服旋转电机和与所述伺服旋转电机相连接的搅拌叶，所述搅拌叶位于所述升降网板的下方。

进一步的，所述提篮网架的两端设置有提手，所述提篮网架上设置有若干个与所述网杯相适配的定位网槽。

更进一步的，所述清洗箱本体的外端设置有MCU控制器、定时器、启动开关和指示灯，所述超声波发生器、所述温控器、所述升降驱动装置、所述伺服旋转电机、所述定时器、所述启动开关和所述指示灯均与所述MCU控制器电性连接。

本实用新型的有益效果是：由于本实用新型包括清洗箱本体，所述清洗箱本体的下端设置有超声波发生器，所述清洗箱本体的内部设置有提篮网架，所述提篮网架上设置有若干个网杯，所述网杯内放置有若干个石英晶体，所述清洗箱本体的顶端设置有注水管，所述注水管的出口处设置有过滤袋，所述清洗箱本体的中上部设置有溢水口，所述清洗箱本体的底部设置有排水阀，工作时所述溢水口位于石英晶体的上方,所以本实用新型通过所述注水管和所述溢水口的配合使用，使所述清洗箱本体形成活水清洗，使得石英晶体清洗更干净，另外所述清洗箱本体循环出水能有效保持清洗水的干净度，减少停机整机换水的操作，提高了清洗的工作效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，在本实施例中，本实用新型包括清洗箱本体1，所述清洗箱本体1的下端设置有超声波发生器和与所述超声波发生器相连接的换能器，所述清洗箱本体1的内部设置有提篮网架3，所述提篮网架3上设置有若干个网杯4，所述网杯4内放置有若干个石英晶体，所述清洗箱本体1的顶端设置有注水管5，所述注水管5的出口处设置有过滤袋6，所述清洗箱本体1的中上部设置有溢水口7，所述清洗箱本体1的底部设置有排水阀，工作时所述溢水口7位于石英晶体的上方，此设计可以通过所述注水管5不断向所述清洗箱本体1内注入干净的温水，并通过所述溢水口7流出，从而使所述清洗箱本体1循环出水，形成活水清洗，相对于现有的浸泡式清洗整机换水的持续干净度更高，也可以减少停机排水的作业，提高生产效率。

在本实施例中，所述清洗箱本体1的底部设置有加热管，所述清洗箱本体1的内部还设置有温度传感器，所述清洗箱本体1的外端设置有与所述加热管和所述温度传感器均电性连接的温控器8，此设计能将所述清洗箱本体1中的清洗水温度保持在60-80℃之间。

在本实施例中，所述溢水口7外部连接有循环水箱，所述循环水箱内部设置有过滤组件，所述循环水箱中的水可以用在石英晶片的粗洗槽内进行使用。

在本实施例中，所述提篮网架3的底部设置有升降网板，所述升降网板的四周均设置有升降移动滑块，所述清洗箱本体1的四周设置有与所述升降移动滑块相适配的导轨，所述清洗箱本体1的底部两端均设置有所述升降网板相连接的升降驱动装置9，此设计可以通过所述升降驱动装置9带动所述提篮网架3进行上下升降动作，使置于所述提篮网架3内的石英晶体能够获得更好的清洗动作，使得清洗效率以及效果更高。

在本实施例中，所述清洗箱本体1的底部还设置有伺服旋转电机和与所述伺服旋转电机相连接的搅拌叶，所述搅拌叶位于所述升降网板的下方，所述搅拌叶使清洗水产生涡流，使液体充分与石英晶体碰撞，利于去掉石英晶体上的附着物，可在一定程度上提高对石英晶体的清洗效率。

在本实施例中，所述提篮网架3的两端设置有提手，所述提篮网架3上设置有若干个与所述网杯4相适配的定位网槽。

在本实施例中，所述清洗箱本体的外端设置有MCU控制器13、定时器、启动开关14和指示灯15，所述超声波发生器、所述温控器8、所述升降驱动装置9、所述伺服旋转电机、所述定时器、所述启动开关14和所述指示灯15均与所述MCU控制器13电性连接。

在本实施例中，所述注水管5上接有与所述MCU控制器13电性连接的定时阀。

在本实施例中，本实用新型的工作过程为：将装有石英晶体的所述网杯4放入所述提篮网架3后，按下启动开关14，本实用新型开始工作，当温控器8上显示清洗液温度高于60℃后，所述定时器开始七分钟倒计时，在这七分钟内，所述注水管5不断注入温水，所述升降驱动装置9带动所述提篮网架3升降运动进行清洗，所述伺服旋转电机带动搅拌叶搅拌，使清洗水产生涡流，提高对石英晶体的清洗效率，当七分钟结束时，所述定时阀关闭，所述注水管5停止注入，另外所述升降驱动装置9带动所述提篮网架3升到最高点，方便操作者更换新的待超洗的石英晶体。

本实用新型应用于石英晶体的生产加工的技术领域。

虽然本实用新型的实施例是以实际方案来描述的，但是并不构成对本实用新型含义的限制，对于本领域的技术人员，根据本说明书对其实施方案的修改及与其他方案的组合都是显而易见的。

Claims (7)

1.一种超声波清洗箱，其特征在于：它包括清洗箱本体（1），所述清洗箱本体（1）的下端设置有超声波发生器，所述清洗箱本体（1）的内部设置有提篮网架（3），所述提篮网架（3）上设置有若干个网杯（4），所述网杯（4）内放置有若干个石英晶体，所述清洗箱本体（1）的顶端设置有注水管（5），所述注水管（5）的出口处设置有过滤袋（6），所述清洗箱本体（1）的中上部设置有溢水口（7），所述清洗箱本体（1）的底部设置有排水阀，工作时所述溢水口（7）位于石英晶体的上方。

2.根据权利要求1所述的超声波清洗箱，其特征在于：所述清洗箱本体（1）的底部设置有加热管，所述清洗箱本体（1）的内部还设置有温度传感器，所述清洗箱本体（1）的外端设置有与所述加热管和所述温度传感器均电性连接的温控器（8）。

3.根据权利要求1所述的超声波清洗箱，其特征在于：所述溢水口（7）外部连接有循环水箱，所述循环水箱内部设置有过滤组件。

4.根据权利要求2所述的超声波清洗箱，其特征在于：所述提篮网架（3）的底部设置有升降网板，所述升降网板的四周均设置有升降移动滑块，所述清洗箱本体（1）的四周设置有与所述升降移动滑块相适配的导轨，所述清洗箱本体（1）的底部两端均设置有所述升降网板相连接的升降驱动装置（9）。

5.根据权利要求4所述的超声波清洗箱，其特征在于：所述清洗箱本体（1）的底部还设置有伺服旋转电机和与所述伺服旋转电机相连接的搅拌叶，所述搅拌叶位于所述升降网板的下方。

6.根据权利要求4所述的超声波清洗箱，其特征在于：所述提篮网架（3）的两端设置有提手，所述提篮网架（3）上设置有若干个与所述网杯（4）相适配的定位网槽。

7.根据权利要求5所述的超声波清洗箱，其特征在于：所述清洗箱本体的外端设置有MCU控制器（13）、定时器、启动开关（14）和指示灯（15），所述超声波发生器、所述温控器（8）、所述升降驱动装置（9）、所述伺服旋转电机、所述定时器、所述启动开关（14）和所述指示灯（15）均与所述MCU控制器（13）电性连接。

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