CN213570729U - 用于pecvd设备的配套供应系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种用于PECVD设备的配套供应系统，用于PECVD设备的配套供应系统包括循环水管路系统，循环水管路系统包括：进水管路装置，进水管路装置与腔体和/或设备组件连通；出水管路装置，出水管路装置与腔体和/或设备组件连通；其中，进水管路装置能够将冷却水输入腔体和/或设备组件以实现对PECVD设备的冷却降温功能。本实用新型的技术方案中，由于进水管路装置能够向PECVD设备的腔体和/或设备组件内输入冷却水，这样能够对PECVD设备进行整体地冷却降温，从而使得PECVD设备中需要降温的腔体和/或设备组件得到良好的降温，避免了PECVD设备超温工作而发生运行故障的问题，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

Description

用于PECVD设备的配套供应系统

技术领域

本实用新型涉及PECVD设备技术领域，具体而言，涉及一种用于PECVD设备的配套供应系统。

背景技术

目前，因太阳能电池工艺HIT技术中的镀膜工序需要使用PECVD设备，PECVD设备在工作的过程中，其设备组件会发热需要降温，另外因工艺需要镀膜用的腔体需要加热，这样腔体也需降温。PECVD设备长期在超出工作温度的状态下运行容易产生运行故障，因此亟待开发一种PECVD设备的配套供应系统，用于PECVD设备的降温。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。

为此，本实用新型的一个目的在于提供一种用于PECVD设备的配套供应系统。

为了实现上述目的，本实用新型的实施例提供了一种用于PECVD设备的配套供应系统，PECVD设备包括腔体和设置在腔体上的设备组件，用于PECVD设备的配套供应系统包括循环水管路系统，循环水管路系统包括：进水管路装置，进水管路装置与腔体和/或设备组件连通；出水管路装置，出水管路装置与腔体和/或设备组件连通；其中，进水管路装置能够将冷却水输入腔体和/或设备组件以实现对PECVD设备的冷却降温功能。

在该技术方案中，由于进水管路装置能够向PECVD设备的腔体和/或设备组件内输入冷却水，这样能够对PECVD设备进行整体地冷却降温，从而使得PECVD设备中需要降温的腔体和/或设备组件得到良好的降温，避免了PECVD设备超温工作而发生运行故障的问题，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

另外，本实用新型提供的上述实施例中的用于PECVD设备的配套供应系统还可以具有如下附加技术特征：

在上述技术方案中，腔体包括工艺腔和与工艺腔连通的输送腔，设备组件包括真空泵和工艺腔处理设备，真空泵通过连通管路与工艺腔和工艺腔连通，工艺腔处理设备设置在工艺腔上，进水管路装置和出水管路装置均与输送腔和/或工艺腔处理设备和/或真空泵连通。

在该技术方案中，通过进水管路装置能够向PECVD设备的输送腔、工艺腔处理设备和真空泵通入冷却水，这样对输送腔、工艺腔处理设备和真空泵进行冷却，从而实现配套供应系统对PECVD设备的整体降温，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

在上述任一技术方案中，进水管路装置包括：主进水管路；第一支进水管路，第一支进水管路的一端与主进水管路连通，第一支进水管路的另一端与输送腔连通；第二支进水管路，第二支进水管路的一端与主进水管路连通，第二支进水管路的另一端与工艺腔处理设备连通；第三支进水管路，第三支进水管路的一端与主进水管路连通，第三支进水管路的另一端与真空泵连通。

在该技术方案中，通过第一支进水管路能够将冷却水从主进水管路输入到输送腔内，以冷却输送腔，通过第二支进水管路能够将冷却水从主进水管路输入到工艺腔处理设备内，以冷却工艺腔处理设备，通过第三支进水管路能够将冷却水从主进水管路输入到真空泵内，以冷却真空泵，从而实现配套供应系统对PECVD设备的整体降温，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

在上述任一技术方案中，出水管路装置包括：主出水管路；第一支出水管路，第一支出水管路的一端与主出水管路连通，第一支出水管路的另一端与输送腔连通；第二支出水管路，第二支出水管路的一端与主出水管路连通，第二支出水管路的另一端与工艺腔处理设备连通；第三支出水管路，第三支出水管路的一端与主出水管路连通，第三支出水管路的另一端与真空泵连通。

在该技术方案中，通过第一支出水管路能够将输送腔内的冷却水输入到主出水管路，通过第二支出水管路能够将工艺腔处理设备内的冷却水输入到主出水管路，通过第三支出水管路能够将真空泵内的冷却水输入到主出水管路内，这样使得冷却水能够在输送腔、真空泵和工艺腔处理设备内循环流动，从而确保配套供应系统能够对PECVD设备进行整体降温，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

在上述任一技术方案中，PECVD设备还包括控制阀组件，用于PECVD设备的配套供应系统还包括充气管路系统，充气管路系统包括第一充气管路装置和第二充气管路装置，第一充气管路装置用于为控制阀组件提供驱动气源，第二充气管路装置用于将氮气输入到设备组件的真空泵和腔体内。

在该技术方案中，由于第一充气管路装置用于为控制阀组件提供驱动气源，这样使得控制阀组件能够在气源的驱动作用下正常地工作，从而确保配套供应系统能够正常地工作。第二充气管路装置能够将氮气输入到真空泵和腔体内，这样能够打破腔体内真空的作用，同时能够净化真空泵和腔体内的空气，从而满足真空泵和腔体的工艺要求，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

在上述任一技术方案中，第一充气管路装置包括：第一充气管路；压缩空气分气块，压缩空气分气块与第一充气管路的输出端连接；压缩空气进气球阀，压缩空气进气球阀设置在第一充气管路上；过滤调压阀，过滤调压阀设置在第一充气管路上，且位于压缩空气分气块和压缩空气进气球阀之间。

在该技术方案中，压缩空气分气块用于对气源进行分配，从而满足气源的分配要求，压缩空气进气球阀用于控制第一充气管路的通断，从而满足气源输出的通断要求，过滤调压阀用于对气源进行过滤并对气源的压力进行调节，从而满足气源压力输出的要求。这样使得第一充气管路装置能够为控制阀组件稳定地提供驱动气源，进而确保控制阀组件能够在气源的驱动作用下正常地工作。

在上述任一技术方案中，第一充气管路装置还包括油雾分离器和压缩空气分气快接头，其中油雾分离器设置在第一充气管路上，且位于过滤调压阀和压缩空气分气块之间，压缩空气分气快接头设置在压缩空气分气块上，且与第一充气管路连通。

在该技术方案中，油雾分离器能够将气源中的油雾进行分离，从而净化气源以满足气源的洁净度要求，压缩空气分气快接头与真空门阀连通，这样能够将气源导入相应的真空门阀中，从而确保真空门阀能够正常地工作。另外，压缩空气分气快接头与阀导连通，通过阀导进一步地对气源进行控压分配，以便将气源输入到气动阀内，从而确保气动阀能够正常地工作。

在上述任一技术方案中，第二充气管路装置包括：第二充气管路；氮气一次分气块，氮气一次分气块与第二充气管路的输出端连接；氮气进气球阀，氮气进气球阀设置在第二充气管路上；调压阀，调压阀设置在第二充气管路上，且位于氮气一次分气块和氮气进气球阀之间；氮气一次分气接头，氮气一次分气接头设置在氮气一次分气块上，且与第二充气管路连通。

在该技术方案中，氮气一次分气块能够对氮气进行一次分配，以将氮气输送到相应的输送腔和工艺腔，这样能够打破腔体内真空的作用，同时能够净化腔体内的空气，从而满足腔体的工艺要求，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

在上述任一技术方案中，第二充气管路装置还包括：第三充气管路，第三充气管路的一端与氮气一次分气块连接，且与第二充气管路连通；氮气二次分气块，氮气二次分气块与第三充气管路的另一端连接；氮气二次分气接头，氮气二次分气接头设置在氮气二次分气块上，且与第三充气管路连通。

在该技术方案中，氮气二次分气块能够对氮气进行二次分配，以将氮气输送到相应的真空泵内，能够净化真空泵内的空气，从而满足真空泵的工艺要求，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

在上述任一技术方案中，控制阀组件包括真空门阀和/或大气门阀和/或气动阀和/或阀导。

在该技术方案中，真空门阀、大气门阀、气动阀和阀导为通路控制元件，通过控制上述通路控制元件动作能够确保PECVD设备正常地工作，从而满足太阳能电池工艺HIT技术中的镀膜工序要求。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1示出了根据本实用新型实施例的PECVD设备的结构示意图；

图2示出了根据本实用新型实施例的用于PECVD设备的配套供应系统的循环水管路系统结构示意图；

图3示出了根据本实用新型实施例的用于PECVD设备的配套供应系统的第一充气管路装置的结构示意图；

图4示出了根据本实用新型实施例的用于PECVD设备的配套供应系统的第二充气管路装置的结构示意图。

其中，图1至图4中附图标记与部件名称之间的对应关系为：

10、循环水管路系统；12、进水管路装置；122、主进水管路；124、第一支进水管路；126、第二支进水管路；128、第三支进水管路；14、出水管路装置；142、主出水管路；144、第一支出水管路；146、第二支出水管路；148、第三支出水管路；20、充气管路系统；22、第一充气管路装置；222、第一充气管路；224、压缩空气分气块；226、压缩空气进气球阀；227、过滤调压阀；228、油雾分离器；229、压缩空气分气快接头；24、第二充气管路装置；241、第三充气管路；242、第二充气管路；243、氮气二次分气块；244、氮气一次分气块；245、氮气二次分气接头；246、氮气进气球阀；248、调压阀；249、氮气一次分气接头；101、气动阀；102、腔体；1022、工艺腔；1024、输送腔；103、阀导；104、设备组件；1042、真空泵；1044、工艺腔处理设备；106、真空门阀；108、大气门阀。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本实用新型的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是，本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本实用新型的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

需要说明的是，本申请中的PECVD(英文全称为Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition)设备指的是等离子体增强型化学气相沉积设备，用于太阳能电池工艺HIT(英文全称为Hetero-junction with intrinsic Thinlayer)技术中的镀膜工序。

下面参照图1至图4描述根据本实用新型一些实施例的用于PECVD设备的配套供应系统。

如图1和图2所示，本实用新型及本实用新型的实施例提供了一种用于PECVD设备的配套供应系统，PECVD设备包括腔体102和设置在腔体102上的设备组件104，用于PECVD设备的配套供应系统包括循环水管路系统10。循环水管路系统10包括进水管路装置12和出水管路装置14。其中，进水管路装置12与腔体102和/或设备组件104连通。出水管路装置14与腔体102和/或设备组件104连通。进水管路装置12能够将冷却水输入腔体102和/或设备组件104以实现对PECVD设备的冷却降温功能。

上述设置中，由于进水管路装置12能够向PECVD设备的腔体102和/或设备组件104内输入冷却水，这样能够对PECVD设备进行整体地冷却降温，从而使得PECVD设备中需要降温的腔体102和/或设备组件104得到良好的降温，避免了PECVD设备超温工作而发生运行故障的问题，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

具体地，如图1所示，在本实用新型的实施例中，腔体102包括工艺腔1022和与工艺腔1022连通的输送腔1024，设备组件104包括真空泵1042和工艺腔处理设备1044，真空泵1042设置在工艺腔1022和工艺腔1022上，工艺腔处理设备1044设置在工艺腔1022上，进水管路装置12和出水管路装置14均与输送腔1024和工艺腔处理设备1044连通。

上述设置中，通过进水管路装置12能够向PECVD设备的输送腔1024、工艺腔处理设备1044和真空泵1042通入冷却水，这样对输送腔1024、工艺腔处理设备1044和真空泵1042进行冷却，从而实现配套供应系统对PECVD设备的整体降温，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

需要说明的是，如图1所示，在本实用新型的实施例中，腔体102包括两个工艺腔1022和四个输送腔1024。其中，两个工艺腔1022之间设置有一个输送腔1024，其余三个输送腔1024设置在两个工艺腔1022的外侧，即以位于两个工艺腔1022之间的输送腔1024为参照，两个输送腔1024依次设置在位于两个工艺腔1022之间的输送腔1024左边的工艺腔1022的左侧，一个输送腔1024设置在位于两个工艺腔1022之间的输送腔1024右边的工艺腔1022的右侧。每个输送腔1024和每个工艺腔1022上均相应设置有一个真空泵1042，每个工艺腔1022上还设置有工艺腔处理设备1044，工艺腔处理设备1044包括射频、匹配器、等离子体电源等设备。

具体地，如图2所示，在本实用新型的实施例中，进水管路装置12包括主进水管路122、第一支进水管路124、第二支进水管路126和第三支进水管路128。其中，第一支进水管路124的一端与主进水管路122连通，第一支进水管路124的另一端与输送腔1024连通。第二支进水管路126的一端与主进水管路122连通，第二支进水管路126的另一端与工艺腔处理设备1044连通。第三支进水管路128的一端与主进水管路122连通，第三支进水管路128的另一端与真空泵1042连通。

上述设置中，通过第一支进水管路124能够将冷却水从主进水管路122输入到输送腔1024内，以冷却输送腔1024，通过第二支进水管路126能够将冷却水从主进水管路122输入到工艺腔处理设备1044内，以冷却工艺腔处理设备1044，通过第三支进水管路128能够将冷却水从主进水管路122输入到真空泵1042内，以冷却真空泵1042，从而实现配套供应系统对PECVD设备的整体降温，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

需要说明的是，如图1和图2所示，在本实用新型的实施例中，进水管路装置12包括一个主进水管路122、三个第一支进水管路124、两个第二支进水管路126和六个第三支进水管路128。其中，两个第二支进水管路126一一对应地与两个工艺腔1022连通设置，六个第三支进水管路128一一对应地与六个真空泵1042连通设置。三个第一支进水管路124一一对应地与三个输送腔1024连通设置，即位于最右侧的输送腔1024不设置第一支进水管路124。

具体地，如图2所示，在本实用新型的实施例中，出水管路装置14包括主出水管路142、第一支出水管路144、第二支出水管路146和第三支出水管路148。其中，第一支出水管路144的一端与主出水管路142连通，第一支出水管路144的另一端与输送腔1024连通。第二支出水管路146的一端与主出水管路142连通，第二支出水管路146的另一端与工艺腔处理设备1044连通。第三支出水管路148的一端与主出水管路142连通，第三支出水管路148的另一端与真空泵1042连通。

上述设置中，通过第一支出水管路144能够将输送腔1024内的冷却水输入到主出水管路142，通过第二支出水管路146能够将工艺腔处理设备1044内的冷却水输入到主出水管路142，通过第三支出水管路148能够将真空泵1042内的冷却水输入到主出水管路142内，这样使得冷却水能够在输送腔1024、真空泵1042和工艺腔处理设备1044内循环流动，从而确保配套供应系统能够对PECVD设备进行整体降温，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

需要说明的是，主出水管路142的输出端与配套供应系统外部的常务端设备连接，常务端设备能够对使用过的冷却水进行冷却降温，并将经过冷却降温后的冷却水输送回主进水管路122，从而实现冷却水的循环使用。

需要说明的是，如图1和图2所示，在本实用新型的实施例中，出水管路装置14包括一个主出水管路142、三个第一支出水管路144、两个第二支出水管路146和六个第三支出水管路148。其中，三个第一支出水管路144一一对应地与三个输送腔1024连通，即位于最右侧的输送腔1024不设置第一支出水管路144，两个第二支出水管路146一一对应地与两个工艺腔处理设备1044连通，六个第三支出水管路148一一对应地与六个真空泵1042连通。

需要说明的是，第一支出水管路144和第二支出水管路146的回水端加装有浮子流量计，以便检测各支路冷却水的流量，从而实现对冷却水的流量控制，达到腔体理想的冷却效果。本申请中的冷却水使用纯化的水，以达到保护设备及最佳的冷却效果。输送的真空泵1042上的冷却水经过橡胶软管直接回送到主出水管路142，然后流回常务端进行冷却以实现冷却水的循环利用。

具体地，如图3和图4所示，在本实用新型的实施例中，PECVD设备还包括控制阀组件，用于PECVD设备的配套供应系统还包括充气管路系统20，充气管路系统20包括第一充气管路装置22和第二充气管路装置24，第一充气管路装置22用于为控制阀组件提供驱动气源，第二充气管路装置24用于将氮气输入到真空泵1042和腔体102内。

上述设置中，由于第一充气管路装置22用于为控制阀组件提供驱动气源，这样使得控制阀组件能够在气源的驱动作用下正常地工作，从而确保配套供应系统能够正常地工作。第二充气管路装置24能够将氮气输入到真空泵1042和腔体102内，这样能够打破腔体102内真空的作用，同时能够净化真空泵1042和腔体102内的空气，从而满足真空泵1042和腔体102的工艺要求，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

需要说明的是，如图1和图4所示，当腔体需要打开腔体102的上盖或者位于最左侧的输送腔1024和位于最右侧的输送腔1024需要充气至大气状态时，通过第二充气管路装置24向腔体102内通入氮气，起到打破真空的作用。

具体地，如图3所示，在本实用新型的实施例中，第一充气管路装置22包括第一充气管路222、压缩空气分气块224、压缩空气进气球阀226和过滤调压阀227。其中，压缩空气分气块224与第一充气管路222的输出端连接。压缩空气进气球阀226设置在第一充气管路222上。过滤调压阀227设置在第一充气管路222上，且位于压缩空气分气块224和压缩空气进气球阀226之间。

上述设置中，压缩空气分气块224用于对气源进行分配，从而满足气源的分配要求，压缩空气进气球阀226用于控制第一充气管路222的通断，从而满足气源输出的通断要求，过滤调压阀227用于对气源进行过滤并对气源的压力进行调节，从而满足气源压力输出的要求。这样使得第一充气管路装置22能够为控制阀组件稳定地提供驱动气源，进而确保控制阀组件能够在气源的驱动作用下正常地工作。

需要说明的是，如图1和图3所示，在本实用新型的实施例中，控制阀组件包括真空门阀106、大气门阀108、气动阀101和阀导103。其中，相邻的两个输送腔1024之间设置有一个真空门阀106，工艺腔1022与其相邻的输送腔1024之间设置有一个真空门阀106，即控制阀组件包括五个真空门阀106，位于最左侧和最右侧的输送腔1024上各设置有一个大气门阀108，每个输送腔1024与其对应设置的真空泵1042之间设置有一个气动阀101，每个工艺腔1022与其对应设置的真空泵1042之间设置有一个气动阀101。

具体地，如图3所示，在本实用新型的实施例中，第一充气管路装置22还包括油雾分离器228和压缩空气分气快接头229，其中油雾分离器228设置在第一充气管路222上，且位于过滤调压阀227和压缩空气分气块224之间，压缩空气分气快接头229设置在压缩空气分气块224上，且与第一充气管路222连通。

上述设置中，油雾分离器228能够将气源中的油雾进行分离，从而净化气源以满足气源的洁净度要求，压缩空气分气快接头229与真空门阀106连通，这样能够将气源导入相应的真空门阀106中，从而确保真空门阀106能够正常地工作。另外，压缩空气分气快接头229与阀导103连通，通过阀导103进一步地对气源进行控压分配，以便将气源输入到气动阀101内，从而确保气动阀101能够正常地工作。

具体地，如图4所示，在本实用新型的实施例中，第二充气管路装置24包括第二充气管路242、氮气一次分气块244、氮气进气球阀246、调压阀248和氮气一次分气接头249。其中，氮气一次分气块244与第二充气管路242的输出端连接。氮气进气球阀246设置在第二充气管路242上，调压阀248设置在第二充气管路242上，且位于氮气一次分气块244和氮气进气球阀246之间。氮气一次分气接头249设置在氮气一次分气块244上，且与第二充气管路242连通。

上述设置中，氮气一次分气块244能够对氮气进行一次分配，以将氮气输送到相应的输送腔1024和工艺腔1022，这样能够打破腔体102内真空的作用，同时能够净化腔体102内的空气，从而满足腔体102的工艺要求，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

具体地，如图4所示，在本实用新型的实施例中，第二充气管路装置24还包括第三充气管路241、氮气二次分气块243和氮气二次分气接头245。其中，第三充气管路241的一端与氮气一次分气块244连接，且与第二充气管路242连通。氮气二次分气块243与第三充气管路241的另一端连接。氮气二次分气接头245设置在氮气二次分气块243上，且与第三充气管路241连通。

上述设置中，氮气二次分气块243能够对氮气进行二次分配，以将氮气输送到相应的真空泵1042内，能够净化真空泵1042内的空气，从而满足真空泵1042的工艺要求，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

此外，若因工艺需求，需要增设或减少工艺腔1022和输送腔1024时，出水管路装置14上对应增设或减少相关支路管路，充气管路装置对应增设或减少相关支路管路。

需要说明的是，如图1所示，加工件通过左端的大气门阀108进入第一个输送腔1024内，左端的大气门阀108关闭，真空泵1042对第一个输送腔1024进行抽真空作用，同时第一个输送腔1024内的加热装置对第一个输送腔1024内的加工件进行预加热，经一定加热时间后，第一个真空门阀106打开，加工件进入第二个输送腔1024，第一个真空门阀106关闭，第二个输送腔1024内的加热装置对加工件进行加热，经一定加热时间后，第二个真空门阀106打开，加工件进入第一个工艺腔1022，加工件进入第一个工艺腔1022后，第二个真空门阀106关闭，加工件在第一个工艺腔1022内进行工艺反应，经一定工艺反应时间后，第三个真空门阀106打开，加工件进入第三个输送腔1024内，加工件进入第三个输送腔1024后，第三个真空门阀106关闭，第三个输送腔1024为过渡腔，第四个真空门阀106打开，加工件进入第二个工艺腔1022，加工件进入第二个工艺腔1022后，第四个真空门阀106关闭，经一定工艺反应时间后，第五个真空门阀106打开，加工件进入第四个输送腔1024，加工件进入第四个输送腔1024后，第五个真空门阀106关闭。当加工件进入第四个输送腔1024时，处于真空状态，为使加工件通过右端的大气门阀108进入大气中，在第四个输送腔1024内，通过真空装置的作用，使第四个输送腔1024内的气压值达到一定范围内，满足出腔要求。

从以上的描述中，可以看出，由于进水管路装置12能够向PECVD设备的腔体102和/或设备组件104内输入冷却水，这样能够对PECVD设备进行整体地冷却降温，从而使得PECVD设备中需要降温的腔体102和/或设备组件104得到良好的降温，避免了PECVD设备超温工作而发生运行故障的问题，进而确保PECVD设备能够正常地工作。

在本实用新型中，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；术语“多个”则指两个或两个以上，除非另有明确的限定。术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；“相连”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或单元必须具有特定的方向、以特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本实用新型的限制。

在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于PECVD设备的配套供应系统，所述PECVD设备包括腔体(102)和设置在所述腔体(102)上的设备组件(104)，其特征在于，所述用于PECVD设备的配套供应系统包括循环水管路系统(10)，所述循环水管路系统(10)包括：

进水管路装置(12)，所述进水管路装置(12)与所述腔体(102)和/或所述设备组件(104)连通；

出水管路装置(14)，所述出水管路装置(14)与所述腔体(102)和/或所述设备组件(104)连通；

其中，所述进水管路装置(12)能够将冷却水输入所述腔体(102)和/或所述设备组件(104)以实现对所述PECVD设备的冷却降温功能。

2.根据权利要求1所述的用于PECVD设备的配套供应系统，其特征在于，所述腔体(102)包括工艺腔(1022)和与所述工艺腔(1022)连通的输送腔(1024)，所述设备组件(104)包括真空泵(1042)和工艺腔处理设备(1044)，所述真空泵(1042)设置在所述工艺腔(1022)和所述工艺腔(1022)上，所述真空泵(1042)通过连通管路与所述工艺腔(1022)和所述工艺腔(1022)连通，所述工艺腔处理设备(1044)设置在所述工艺腔(1022)上，所述进水管路装置(12)和出水管路装置(14)均与所述输送腔(1024)和/或所述工艺腔处理设备(1044)和/或所述真空泵(1042)连通。

3.根据权利要求2所述的用于PECVD设备的配套供应系统，其特征在于，所述进水管路装置(12)包括：

主进水管路(122)；

第一支进水管路(124)，所述第一支进水管路(124)的一端与所述主进水管路(122)连通，所述第一支进水管路(124)的另一端与所述输送腔(1024)连通；

第二支进水管路(126)，所述第二支进水管路(126)的一端与所述主进水管路(122)连通，所述第二支进水管路(126)的另一端与所述工艺腔处理设备(1044)连通；

第三支进水管路(128)，所述第三支进水管路(128)的一端与所述主进水管路(122)连通，所述第三支进水管路(128)的另一端与所述真空泵(1042)连通。

4.根据权利要求2所述的用于PECVD设备的配套供应系统，其特征在于，所述出水管路装置(14)包括：

主出水管路(142)；

第一支出水管路(144)，所述第一支出水管路(144)的一端与所述主出水管路(142)连通，所述第一支出水管路(144)的另一端与所述输送腔(1024)连通；

第二支出水管路(146)，所述第二支出水管路(146)的一端与所述主出水管路(142)连通，所述第二支出水管路(146)的另一端与所述工艺腔处理设备(1044)连通；

第三支出水管路(148)，所述第三支出水管路(148)的一端与所述主出水管路(142)连通，所述第三支出水管路(148)的另一端与所述真空泵(1042)连通。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的用于PECVD设备的配套供应系统，其特征在于，所述PECVD设备还包括控制阀组件，所述用于PECVD设备的配套供应系统还包括充气管路系统(20)，所述充气管路系统(20)包括第一充气管路装置(22)和第二充气管路装置(24)，所述第一充气管路装置(22)用于为所述控制阀组件提供驱动气源，所述第二充气管路装置(24)用于将氮气输入到所述设备组件(104)的真空泵(1042)和所述腔体(102)内。

6.根据权利要求5所述的用于PECVD设备的配套供应系统，其特征在于，所述第一充气管路装置(22)包括：

第一充气管路(222)；

压缩空气分气块(224)，所述压缩空气分气块(224)与所述第一充气管路(222)的输出端连接；

压缩空气进气球阀(226)，所述压缩空气进气球阀(226)设置在所述第一充气管路(222)上；

过滤调压阀(227)，所述过滤调压阀(227)设置在所述第一充气管路(222)上，且位于所述压缩空气分气块(224)和所述压缩空气进气球阀(226)之间。

7.根据权利要求6所述的用于PECVD设备的配套供应系统，其特征在于，所述第一充气管路装置(22)还包括油雾分离器(228)和压缩空气分气快接头(229)，其中所述油雾分离器(228)设置在所述第一充气管路(222)上，且位于所述过滤调压阀(227)和所述压缩空气分气块(224)之间，所述压缩空气分气快接头(229)设置在所述压缩空气分气块(224)上，且与所述第一充气管路(222)连通。

8.根据权利要求5所述的用于PECVD设备的配套供应系统，其特征在于，所述第二充气管路装置(24)包括：

第二充气管路(242)；

氮气一次分气块(244)，所述氮气一次分气块(244)与所述第二充气管路(242)的输出端连接；

氮气进气球阀(246)，所述氮气进气球阀(246)设置在所述第二充气管路(242)上；

调压阀(248)，所述调压阀(248)设置在所述第二充气管路(242)上，且位于所述氮气一次分气块(244)和所述氮气进气球阀(246)之间；

氮气一次分气接头(249)，所述氮气一次分气接头(249)设置在所述氮气一次分气块(244)上，且与所述第二充气管路(242)连通。

9.根据权利要求8所述的用于PECVD设备的配套供应系统，其特征在于，所述第二充气管路装置(24)还包括：

第三充气管路(241)，所述第三充气管路(241)的一端与所述氮气一次分气块(244)连接，且与所述第二充气管路(242)连通；

氮气二次分气块(243)，所述氮气二次分气块(243)与所述第三充气管路(241)的另一端连接；

氮气二次分气接头(245)，所述氮气二次分气接头(245)设置在所述氮气二次分气块(243)上，且与所述第三充气管路(241)连通。

10.根据权利要求5所述的用于PECVD设备的配套供应系统，其特征在于，所述控制阀组件包括真空门阀(106)和/或大气门阀(108)和/或气动阀(101)和/或阀导(103)。

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