CN213532160U - 一种研磨机抛光液回用装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种研磨机抛光液回用装置,包括一号处理箱和二号处理箱,所述一号处理箱上端固定安装有工作台,所述工作台中部固定安装有导流孔,所述二号处理箱下端固定安装有输送装置,所述输送装置左端贯穿一号处理箱右端上部,所述一号处理箱中部设置有过滤件,所述一号处理箱左端中部固定安装有清理箱。本实用新型所述的一种研磨机抛光液回用装置,通过输送装置可实现抛光液的多次过滤,避免抛光液中掺杂废屑导致下次回用过程中工件表面的刮伤;通过将过滤网与两个滑轨之间滑动连接,从而便于对过滤网进行清洗与更换,而过滤网设置为左低右高的倾斜结构,并配合进料口和清理箱的设置可避免过滤网因废屑堆积而发生堵塞的概率。

Description

一种研磨机抛光液回用装置
技术领域
本实用新型涉及研磨机加工技术领域,特别涉及一种研磨机抛光液回用装置。
背景技术
研磨机作为一种抛光、磨光设备在机械加工中广泛使用,在一些机械零件,尤其是精密机械零件的加工过程中,为了降低工件的研磨抛光难度,多会采用抛光液喷洒到工件研磨表面,而对于研磨喷洒使用的抛光液往往会利用回用装置处理进行下一次的抛光液利用,而现有回用装置在处理过程中往往会存在以下问题:1.现有回用装置在处理过程中往往只对抛光液进行单次处理,使得抛光液中仍然掺杂有废屑,导致抛光液处理效果不佳,极易在下次回用过程中造成工件表面的刮伤;2.现有回用装置中的过滤件多为固定式安装,不便于对过滤件进行清洗与更换,并且过滤件表面在长期使用的过程中极易堵塞,影响回用装置的正常使用。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供一种研磨机抛光液回用装置,可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
一种研磨机抛光液回用装置,包括一号处理箱和二号处理箱,所述一号处理箱右端下侧和二号处理箱左端固定连接,且一号处理箱内部与二号处理箱内部相通,所述一号处理箱与二号处理箱共同构成L型空腔结构,所述一号处理箱上端固定安装有工作台,所述工作台中部固定安装有导流孔,且导流孔内部与一号处理箱内部相通,所述二号处理箱下端固定安装有输送装置,且输送装置上端贯穿二号处理箱上端右部,所述输送装置左端贯穿一号处理箱右端上部,所述一号处理箱左端中部开有进料口,所述一号处理箱中部设置有过滤件,所述一号处理箱右端中部开有插孔且过滤件右端贯穿插孔内部,所述过滤件位于进料口右端,所述一号处理箱左端中部固定安装有清理箱,且清理箱内部与进料口内部相通,所述一号处理箱左端下部固定安装有回用管,且回用管上端固定安装有阀门,所述工作台上端固定安装有研磨机件。
优选的,所述输送装置包括外护罩,所述外护罩外表面上部固定安装有导管,所述外护罩上端贯穿有输送件,所述导管呈左低右高倾斜安装,且导管左端贯穿一号处理箱右端并延伸至过滤件上方,所述外护罩为下端开口结构。
优选的,所述输送件包括电机,所述电机输出端固定连接有转轴,所述转轴外表面固定安装有螺旋叶片,所述转轴下端活动连接有轴承座。
优选的,所述轴承座位于外护罩下方,且轴承座下端与二号处理箱下端右部固定连接,所述转轴上端贯穿外护罩上端,所述螺旋叶片远离转轴的一侧均与外护罩内壁活动连接。
优选的,所述过滤件包括两个导轨,两个所述导轨内侧共同滑动安装有过滤网,且两个导轨呈前后对称分布,所述过滤网右端固定安装有磁铁板,所述磁铁板右端固定连接有提手。
优选的,所述过滤网和两个导轨均呈左低右高分布,两个所述导轨远离过滤网的一侧分别与一号处理箱前端和一号处理箱后端固定连接,且一号处理箱左右两端壁之间间距小于一号处理箱右端壁与外护罩之间间距。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
(1)本实用新型中,通过电机带动转轴上的螺旋叶片不断顺时针转动,使得二号处理箱内的抛光液在外护罩、转动的螺旋叶片和转轴的作用下不断沿螺旋叶片表面向上输送,最终进入导管内部实现抛光液的多次过滤,避免抛光液中掺杂废屑导致抛光液处理效果不佳,避免在下次回用过程中造成工件表面的刮伤。
(2)本实用新型中,通过将过滤网与两个滑轨之间滑动连接,从而便于对过滤网进行清洗与更换,而过滤网设置为左低右高的倾斜结构,并配合进料口和清理箱的设置可便于对大颗粒的废屑进行收集,避免过滤网因废屑堆积而发生堵塞的概率,保证抛光液处理工作的顺利进行。
附图说明
图1为本实用新型一种研磨机抛光液回用装置的局部纵向剖视图;
图2为本实用新型一种研磨机抛光液回用装置的输送装置的结构示意图;
图3为本实用新型一种研磨机抛光液回用装置的外护罩的内部结构示意图;
图4为本实用新型一种研磨机抛光液回用装置的过滤件的结构示意图。
图中:1、一号处理箱;2、二号处理箱;3、输送装置;4、清理箱;5、过滤件;6、工作台;7、导流孔;8、进料口;9、回用管;10、阀门;31、导管;32、输送件;33、外护罩;51、导轨;52、磁铁板;53、过滤网;54、提手;321、电机;322、螺旋叶片;323、转轴;324、轴承座。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
如图1-4所示,一种研磨机抛光液回用装置,包括一号处理箱1和二号处理箱2,一号处理箱1右端下侧和二号处理箱2左端固定连接,且一号处理箱1内部与二号处理箱2内部相通,一号处理箱1与二号处理箱2共同构成L型空腔结构,一号处理箱1上端固定安装有工作台6,工作台6中部固定安装有导流孔7,且导流孔7内部与一号处理箱1内部相通,二号处理箱2下端固定安装有输送装置3,且输送装置3上端贯穿二号处理箱2上端右部,输送装置3左端贯穿一号处理箱1右端上部,一号处理箱1左端中部开有进料口8,一号处理箱1中部设置有过滤件5,一号处理箱1右端中部开有插孔且过滤件5右端贯穿插孔内部,过滤件5位于进料口8右端,一号处理箱1左端中部固定安装有清理箱4,且清理箱4内部与进料口8内部相通,一号处理箱1左端下部固定安装有回用管9,且回用管9上端固定安装有阀门10,工作台6上端固定安装有研磨机件。
输送装置3包括外护罩33,外护罩33外表面上部固定安装有导管31,外护罩33上端贯穿有输送件32,导管31呈左低右高倾斜安装,可便于将外护罩33内的抛光液通过倾斜的导管31进行输送,且导管31左端贯穿一号处理箱1右端并延伸至过滤件5上方,外护罩33为下端开口结构,便于抛光液进入外护罩33内部;输送件32包括电机321,电机321输出端固定连接有转轴323,转轴323外表面固定安装有螺旋叶片322,转轴323下端活动连接有轴承座324,电机321带动转轴323上的螺旋叶片322不断顺时针转动,此时二号处理箱2内的抛光液在外护罩33、转动的螺旋叶片322和转轴323的作用下不断沿螺旋叶片322表面向上输送,从而便于对抛光液进行多次过滤操作;为了实现输送装置3的安装与连接,轴承座324位于外护罩33下方,且轴承座324下端与二号处理箱2下端右部固定连接,转轴323上端贯穿外护罩33上端,螺旋叶片322远离转轴323的一侧均与外护罩33内壁活动连接;过滤件5包括两个导轨51,两个导轨51内侧共同滑动安装有过滤网53,过滤网53与两个滑轨之间滑动连接,从而便于对过滤网53进行清洗与更换,且两个导轨51呈前后对称分布,过滤网53右端固定安装有磁铁板52,磁铁板52右端固定连接有提手54;过滤网53和两个导轨51均呈左低右高分布,两个导轨51远离过滤网53的一侧分别与一号处理箱1前端和一号处理箱1后端固定连接,且一号处理箱1左右两端壁之间间距小于一号处理箱1右端壁与外护罩33之间间距,从而便于有足够的空间通过拉动提手54将过滤网53抽出。
需要说明的是,本实用新型为一种研磨机抛光液回用装置,当工作台6上的研磨机在工作时,研磨机上使用的抛光液流入导流孔7内,进入导流孔7内的抛光液进入一号处理箱1上的过滤网53上,在过滤网53的作用下,抛光液内的大颗粒废屑沿倾斜的过滤网53向左运动,最终通过进料口8进入清理箱4内,而经过过滤的抛光液在重力的作用下沉积于一号处理箱1底部,因一号处理箱1与二号处理箱2内部相通,此时过滤的抛光液进入二号处理箱2内,而此时输送装置3上的电机321工作,电机321带动转轴323上的螺旋叶片322不断顺时针转动,此时二号处理箱2内的抛光液在外护罩33、转动的螺旋叶片322和转轴323的作用下不断沿螺旋叶片322表面向上输送,最终进入导管31内部,而导管31内部的抛光液最次输送至过滤网53上方,进行二次过滤,在输送装置3的作用下,抛光液不断循环过滤从而提高抛光液的处理效果,避免回收抛光液中的废屑刮伤工件表面,而过滤网53与两个滑轨之间滑动连接,从而便于对过滤网53进行清洗与更换,而过滤网53设置为左低右高的倾斜结构,可便于对大颗粒的废屑进行收集,避免过滤网53因废屑而发生堵塞的概率,保证抛光液处理工作的顺利进行,而经过多次处理的抛光液最终通过打开阀门10从回用管9排出,便于对抛光液进行回用操作。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (6)

1.一种研磨机抛光液回用装置,包括一号处理箱(1)和二号处理箱(2),其特征在于:所述一号处理箱(1)右端下侧和二号处理箱(2)左端固定连接,且一号处理箱(1)内部与二号处理箱(2)内部相通,所述一号处理箱(1)与二号处理箱(2)共同构成L型空腔结构,所述一号处理箱(1)上端固定安装有工作台(6),所述工作台(6)中部固定安装有导流孔(7),且导流孔(7)内部与一号处理箱(1)内部相通,所述二号处理箱(2)下端固定安装有输送装置(3),且输送装置(3)上端贯穿二号处理箱(2)上端右部,所述输送装置(3)左端贯穿一号处理箱(1)右端上部,所述一号处理箱(1)左端中部开有进料口(8),所述一号处理箱(1)中部设置有过滤件(5),所述一号处理箱(1)右端中部开有插孔且过滤件(5)右端贯穿插孔内部,所述过滤件(5)位于进料口(8)右端,所述一号处理箱(1)左端中部固定安装有清理箱(4),且清理箱(4)内部与进料口(8)内部相通,所述一号处理箱(1)左端下部固定安装有回用管(9),且回用管(9)上端固定安装有阀门(10),所述工作台(6)上端固定安装有研磨机件。
2.根据权利要求1所述的一种研磨机抛光液回用装置,其特征在于:所述输送装置(3)包括外护罩(33),所述外护罩(33)外表面上部固定安装有导管(31),所述外护罩(33)上端贯穿有输送件(32),所述导管(31)呈左低右高倾斜安装,且导管(31)左端贯穿一号处理箱(1)右端并延伸至过滤件(5)上方,所述外护罩(33)为下端开口结构。
3.根据权利要求2所述的一种研磨机抛光液回用装置,其特征在于:所述输送件(32)包括电机(321),所述电机(321)输出端固定连接有转轴(323),所述转轴(323)外表面固定安装有螺旋叶片(322),所述转轴(323)下端活动连接有轴承座(324)。
4.根据权利要求3所述的一种研磨机抛光液回用装置,其特征在于:所述轴承座(324)位于外护罩(33)下方,且轴承座(324)下端与二号处理箱(2)下端右部固定连接,所述转轴(323)上端贯穿外护罩(33)上端,所述螺旋叶片(322)远离转轴(323)的一侧均与外护罩(33)内壁活动连接。
5.根据权利要求1所述的一种研磨机抛光液回用装置,其特征在于:所述过滤件(5)包括两个导轨(51),两个所述导轨(51)内侧共同滑动安装有过滤网(53),且两个导轨(51)呈前后对称分布,所述过滤网(53)右端固定安装有磁铁板(52),所述磁铁板(52)右端固定连接有提手(54)。
6.根据权利要求5所述的一种研磨机抛光液回用装置,其特征在于:所述过滤网(53)和两个导轨(51)均呈左低右高分布,两个所述导轨(51)远离过滤网(53)的一侧分别与一号处理箱(1)前端和一号处理箱(1)后端固定连接,且一号处理箱(1)左右两端壁之间间距小于一号处理箱(1)右端壁与外护罩(33)之间间距。
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