CN213377533U - 一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，包括轨道系统，所述轨道系统上设置有左右运动的基片载台，所述基片载台上面设置有待涂布基片，所述基片载台在宽度和/或长度方向尺寸小于所述待涂布基片的宽度和/或长度，所述基片载台上方设置有涂布模头，所述涂布模头连有供料系统，所述基片载台的左侧和右侧分别设置有用于放置所述待涂布基片的第一传动装置和取走所述待涂布基片的第二传动装置，所述涂布模头上或者所述基片载台与所述轨道系统之间设置有升降结构。本实用新型提供的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，能够保证整面涂布的同时避免待涂布基片外的原材料回流至基片上方从而造成厚度不均。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，属于太阳能电池制造技术领域。
背景技术
狭缝涂布是一种高精度的涂布方式，涂布原材料经由供料系统提供给涂布模头进而涂布在基材上。这种涂布方式因其涂布速度快，成膜均匀性好，原料利用率高，涂膜窗口宽等优点，在薄膜太阳能电池领域上已经有了很多应用。但狭缝涂布在晶硅太阳能电池上的应用仍然较少，目前在晶硅太阳能电池上进行湿膜涂布的方式仍以旋涂、丝印、刮涂等为主。
目前的狭缝涂布设备应用在晶硅太阳能电池上需要进行一定的改进。一是为了对晶硅太阳能电池进行整面湿膜涂布，甚至对其边缘进行保护，模头的出料面积一般会大于晶硅太阳能电池的面积，而为了防止涂布边缘的原材料回流，涂布边缘距离晶硅太阳能电池边缘需要大于特定的距离，这会造成原材料浪费。另外，一些狭缝涂布固有的问题，如原材料中的气泡或各种颗粒在涂布后易产生点状缺陷以及由于涂布后边缘与内侧溶剂挥发速度不一致而导致的边缘效应等需要等到解决。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是，克服现有技术中人工上下料的缺陷，提供一种能够保证整面涂布的同时避免待涂布基片外的原材料回流至基片上方从而造成厚度不均的用于晶硅太阳能电池上的涂布设备。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：
一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，包括轨道系统，所述轨道系统上设置有运动的基片载台，所述基片载台上面设置有待涂布基片，所述基片载台在宽度和/或长度方向尺寸小于所述待涂布基片的宽度和/或长度，所述基片载台上方设置有涂布模头，所述涂布模头连有供料系统，所述基片载台的右侧和左侧分别设置有用于放置所述待涂布基片的第一传动装置和取走所述待涂布基片的第二传动装置，所述涂布模头上或者所述基片载台与所述轨道系统之间设置有升降结构。
所述升降结构上包括刻度读取装置，所述刻度读取装置用于显示出所述涂布模头与所述基片载台间在高度方向上的距离。
所述待涂布基片包括晶硅太阳能电池片。
所述供料系统包括输料管、输料泵与储料室，所述输料泵将所述储料室内的涂布液通过所述输料管传输到所述涂布模头。
所述输料管上设置有过滤装置。
所述储料室连通有负压去泡装置。
所述第一传动装置和第二传动装置均包括机械手臂或者传送带。
所述基片载台为平台结构，所述平台结构上设置有真空孔或者所述基片载台为真空吸爪。
所述基片载台下面设置有控温装置，所述控温装置位于所述待涂布基片中间的加热温度高于位于所述待涂布基片边缘的加热温度。
所述涂布模头下方设置有废液槽，所述废液槽的下端通过回收管与回收槽连通。
所述涂布模头宽度大于两个所述待涂布基片的宽度。
所述轨道系统为循环轨道系统，所述基片载台的个数为若干个，所述循环轨道系统带动若干个所述基片载台朝一个方向进行循环运动，若干个所述基片载台沿着所述循环轨道系统的周圈分布。
本实用新型的有益效果：本实用新型提供的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，使用的基片载台尺寸小于待涂布基片的尺寸，可以在保证整面涂布的同时避免待涂布基片外的原材料回流至基片上方从而造成厚度不均，同时，涂布边缘距离基片边缘的距离也可以缩小，大大减少了原材料的浪费；使用废液槽和回收槽，进一步增加原材料利用率；涂布模头宽度大于两个待涂布基片的宽度，可以使用一个涂布模头同时对多个基片进行涂布，充分发挥狭缝涂布的涂布窗口宽的优势；在供料系统中使用过滤装置和/或去泡装置，可以减少涂布后的点状缺陷，提高成膜质量；在基片载台上设置有控温装置，使待涂基片的中间温度稍高于边缘温度，使得中间与边缘溶剂挥发速度保持一致，减少边缘效应，提高成膜均匀性。
附图说明
图1为实施例1中本实用新型一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备的结构示意图；
图2为实施例2中本实用新型一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步描述，以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
具体实施例1
本实用新型公开一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，包括轨道系统122，轨道系统122上设置有左右运动的基片载台121，基片载台121上面设置有待涂布基片180，基片载台121在宽度和/或长度方向尺寸小于待涂布基片180的宽度和/或长度，基片载台121上方设置有涂布模头110，涂布模头110连有供料系统，基片载台121的右侧和左侧分别设置有用于放置待涂布基片180的第一传动装置130和取走待涂布基片的第二传动装置140，基片载台121与轨道系统122之间设置有升降结构150，可以使得涂布模110在与基片载台121相对的高度方向上移动。
升降结构150上包括刻度读取装置，刻度读取装置用于显示出涂布模头110与基片载台121间在高度方向上的距离。
待涂布基片180包括晶硅太阳能电池片。
供料系统包括输料管161、输料泵162与储料室163，输料泵162将储料室163内的涂布液通过输料管161传输到涂布模头110。输料管161上设置有过滤装置164，优选的采用不锈钢材料，目数为50-200目，用来过滤原材料中的各种颗粒，减少涂布后的点状缺陷。
第一传动装置130和第二传动装置140均包括机械手臂或者传送带，本实施例中优选为传送带。在涂布前，由空基片载台从第一传动装置处取走一片待涂布基片。
基片载台121为平台结构，平台结构上设置有真空孔或者基片载台121为真空吸爪。基片载台121下面设置有控温装置，控温装置位于待涂布基片中间的加热温度高于位于待涂布基片边缘的加热温度。使得中间与边缘溶剂挥发速度保持一致，减少边缘效应，提高成膜均匀性。
涂布模头110下方设置有废液槽171，用以收集涂布过程中残余的胶体或溶液胶体或溶液原材料。废液槽171的下端通过回收管172与回收槽173连通，使得涂布过程中的残余胶体或溶液原料可以回收或循环使用。
涂布模头110宽度大于两个待涂布基片180的宽度，设备工作时，由一个载有多个待涂布基片180的基片载台或多个载有一个待涂布基片180的基片载台121在涂布模头110下方同时进行涂布。
本实用新型的工作方式为：第一传动装置130将待涂布基片180传送至涂布模头110的一侧，由空基片载台121移动至待涂布基片180下方将待涂布基片180顶起并取走。基片载台121在取走待涂布基片180后移动至涂布模头110下方，通过升降机构150调整涂布模头110和基片载台121的相对高度至设定数值后开始涂布。涂布过程中，由供料系统负责胶体或溶液原材料的供给，在经过涂布模头110后涂布在待涂布基片180上，由基片载台121带动待涂布基片180在涂布方向上进行移动，从而形成湿膜。成膜厚度可以通过供料系统控制胶体或溶液的流量、基片载台121的移动速度、基片载台121和涂布模头110的相对高度等来决定。涂布完成后，基片载台121移动至涂布模头110的另一侧，并将基片180置入第二传动装置140上，使涂布后的基片180被移出，基片载台121移回涂布前位置准备下一片涂布。
具体实施例2
本实用新型公开一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，包括轨道系统222，轨道系统222上设置有左右运动的基片载台221，基片载台221上面设置有待涂布基片280，基片载台221在宽度和/或长度方向尺寸小于待涂布基片280的宽度和/或长度，基片载台221上方设置有涂布模头210，涂布模头210连有供料系统，基片载台221的右侧和左侧分别设置有用于放置待涂布基片280的第一传动装置230和取走待涂布基片的第二传动装置240，涂布模头110上设置有升降结构250，可以使得涂布模头110在与基片载台121相对的高度方向上移动。
升降结构250上包括刻度读取装置，刻度读取装置用于显示出涂布模头210与基片载台221间在高度方向上的距离。
待涂布基片280包括晶硅太阳能电池片。
供料系统包括输料管261、输料泵262与储料室263，输料泵262将储料室263内的涂布液通过输料管261传输到涂布模头210。储料室263连通有负压去泡装置265，通过导气管与储料室263相连接通过负压排除原材料中的气泡，减少涂布后的点状缺陷。
第一传动装置230和第二传动装置240均包括机械手臂或者传送带，本实施例中优选为机械手臂。在涂布前，由空基片载台从第一传动装置处取走一片待涂布基片。
基片载台221为平台结构，平台结构上设置有真空孔或者基片载台221为真空吸爪。基片载台221下面设置有控温装置，控温装置位于待涂布基片中间的加热温度高于位于待涂布基片边缘的加热温度。使得中间与边缘溶剂挥发速度保持一致，减少边缘效应，提高成膜均匀性。
涂布模头210宽度大于两个待涂布基片280的宽度，设备工作时，由一个载有多个待涂布基片280的基片载台或多个载有一个待涂布基片280的基片载台221在涂布模头210下方同时进行涂布。
本实用新型的工作方式为：第一传动装置230将待涂布基片280传送至涂布模头210的一侧，并将其置入位于该侧的空基片载台221上。基片载台221在取走待涂布基片280后移动至涂布模头210下方，通过升降机构250调整涂布模头210和基片载台221的相对高度至设定数值后开始涂布。涂布过程中，由供料系统负责胶体或溶液原材料的供给，在经过涂布模头210后涂布在待涂布基片280上，由基片载台221带动待涂布基片280在涂布方向上进行移动，从而形成湿膜。成膜厚度可以通过供料系统控制胶体或溶液的流量、基片载台221的移动速度、基片载台221和涂布模头210的相对高度等来决定。涂布完成后，基片载台221移动至涂布模头210的另一侧，并通过第二传动装置240将涂布后基片180取出，基片载台121移回涂布前位置准备下一片涂布。
在一些实施例中，有多个基片载台221设置在轨道系统222上，轨道系统222为一个循环轨道系统，其带动所有基片载台221朝一个方向运动。在涂布前位置由第一传动装置230将待涂布基片280置入空的基片载台221上，在涂布后位置由第二传动装置240将涂布后基片180从基片载台221上取走，之后，此空载基片载台221经由循环轨道系统222循环至涂布前位置。如此，多个基片载台221可连续经过涂布模头210下方进行连续涂布，而不需要进行往复运动。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：包括轨道系统，所述轨道系统上设置有运动的基片载台，所述基片载台上面设置有待涂布基片，所述基片载台在宽度和/或长度方向尺寸小于所述待涂布基片的宽度和/或长度，所述基片载台上方设置有涂布模头，所述涂布模头连有供料系统，所述基片载台的右侧和左侧分别设置有用于放置所述待涂布基片的第一传动装置和取走所述待涂布基片的第二传动装置，所述涂布模头上或者所述基片载台与所述轨道系统之间设置有升降结构。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：所述待涂布基片包括晶硅太阳能电池片。
3.根据权利要求1所述的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：所述供料系统包括输料管、输料泵与储料室，所述输料泵将所述储料室内的涂布液通过所述输料管传输到所述涂布模头。
4.根据权利要求3所述的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：所述输料管上设置有过滤装置。
5.根据权利要求3所述的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：所述储料室连通有负压去泡装置。
6.根据权利要求1所述的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：所述基片载台为平台结构，所述平台结构上设置有真空孔或者所述基片载台为真空吸爪。
7.根据权利要求1所述的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：所述基片载台下面设置有控温装置，所述控温装置位于所述待涂布基片中间的加热温度高于位于所述待涂布基片边缘的加热温度。
8.根据权利要求1所述的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：所述涂布模头下方设置有废液槽，所述废液槽的下端通过回收管与回收槽连通。
9.根据权利要求1所述的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：所述涂布模头宽度大于两个所述待涂布基片的宽度。
10.根据权利要求1所述的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，其特征在于：所述轨道系统为循环轨道系统，所述基片载台的个数为若干个，若干个所述基片载台沿着所述循环轨道系统的周圈分布，所述循环轨道系统带动若干个所述基片载台朝一个方向进行循环运动。
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| CN202021390084.1U CN213377533U (zh) | 2020-07-15 | 2020-07-15 | 一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备 |
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