CN213314928U - 一种便于清洗的保温反应釜 - Google Patents

Abstract

一种便于清洗的保温反应釜，涉及反应釜清洗技术领域，包括搅拌装置、供水装置、反应釜、真空泵装置、集成控制器，反应釜包括壳体以及底板，壳体为内部中空结构，搅拌装置包括固定环，壳体外部一表面设有第一安装槽，固定环与第一安装槽连接，供水装置包括进水管，壳体外部一表面设有旋转孔，进水管与旋转孔旋转配合，真空泵装置包括真空管以及支撑架，壳体外部周侧面设有通孔，真空管与通孔滑动配合，底板一表面设有第二安装槽，支撑架与第二安装槽连接，底板一表面设有第一连接槽，集成控制器与第一连接槽连接，本实用新型中，供水清洗装置在高压喷头的作用下清洗整个壳体内壁，真空泵装置持续保持壳体无氧状态，防止残留的杂质腐蚀壳体内壁。

Description

一种便于清洗的保温反应釜

技术领域

本实用新型涉及反应釜清洗技术领域，特别涉及一种便于清洗的保温反应釜。

背景技术

反应釜，即用于物理或化学反应的容器，在现代化工生产中，反应釜是必不可少的反应容器，使用者将需要反应的原料按照事先设计好的顺序加入反应釜中，然后利用整个装置的作用来进行催化、氧化等反应，等到想要的对应产物，而长期进行化学反应的反应釜中难免留有一些杂质，特别是壳体内部附着的杂质，非常难清洗，因此需要设计一种新型的不必拆卸壳体就能完成清洗过程的方式。

而现行已投入使用的反应釜清洗装置往往带有无法完全清洗，拆卸过程复杂等问题，为此，我们提出一种便于清洗的保温反应釜。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种便于清洗的保温反应釜，通过在壳体内部增加一个高压供水清洗装置，在结束化学反应之后，在高压喷头的作用下清洗整个壳体内壁，可以达到一个比较好的清洗效果；真空泵装置的加入不仅能为反应时刻提供真空无氧的环境，而且在闲置的时候，还可以持续保持无氧状态，防止残留的杂质腐蚀壳体内壁。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：一种便于清洗的保温反应釜，包括搅拌装置、供水装置、反应釜、真空泵装置、集成控制器，所述反应釜包括壳体以及底板，所述壳体为内部中空结构，所述搅拌装置包括固定环，所述壳体外部一表面设有第一安装槽，所述固定环与第一安装槽连接，所述供水装置包括进水管，所述壳体外部一表面设有旋转孔，所述进水管与旋转孔旋转配合，所述真空泵装置包括真空管以及支撑架，所述壳体外部周侧面设有通孔，所述真空管与通孔滑动配合，所述底板一表面设有第二安装槽，所述支撑架与第二安装槽连接，所述底板一表面设有第一连接槽，所述集成控制器与第一连接槽连接。

优选地，所述搅拌装置还包括电机、搅拌轴以及扇叶，所述搅拌轴一端与电机旋转配合，所述搅拌轴与固定环滑动配合，所述搅拌轴周侧面阵列有若干卡槽，若干所述扇叶均与卡槽连接，电机带动搅拌轴转动，从而驱动整个搅拌过程。

优选地，所述供水装置还包括水泵、第一电磁阀、分流管、高压喷头以及液箱，所述进水管一端与液箱一表面连接，所述第一电磁阀安装于进水管周侧面，所述液箱一表面设有连接孔，所述分流管与连接孔连接，所述分流管一表面阵列有若干第二连接槽，若干所述高压喷头均与第二连接槽连接，供水装置不仅可以提供反应时所需的水，也可以进行后期壳体的清洗工作。

优选地，所述反应釜还包括进料管、第二电磁阀、出料管、第三电磁阀、支撑柱以及温度传感器，所述进料管安装于壳体外部一表面，所述第二电磁阀安装于进料管周侧面，所述壳体外部一表面设有第三连接槽，所述出料管与第三连接槽连接，所述第三电磁阀安装于出料管周侧面，所述底板一表面阵列有若干第一固定槽，若干所述支撑柱一端均与第一固定槽连接，若干所述支撑柱另一端均与壳体外部一表面连接，所述温度传感器安装于壳体外部一表面，温度传感器可以实时监控壳体内部的反应温度。

优选地，所述真空泵装置还包括真空泵以及气箱，所述真空管一端安装于气箱一表面，所述真空泵一端与气箱一表面连接，在真空泵装置的作用下可以使壳体内部处于一个真空无氧的环境中。

优选地，所述电机、水泵、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀以及真空泵均与集成控制器电性连接，集成控制器分别控制电机、水泵、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀以及真空泵，实现协同工作。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

1.本实用新型中，通过在壳体内部增加一个高压供水清洗装置，在结束化学反应之后，在高压喷头的作用下清洗整个壳体内壁，可以达到一个比较好的清洗效果，同时也可以提供反应时需要的水；

2.本实用新型中，真空泵装置的加入不仅能为装置反应时刻提供真空无氧的环境，而且在闲置的时候，还可以持续保持壳体内部处于无氧状态，防止残留的杂质腐蚀壳体内壁。

附图说明

图1为本实用新型一种便于清洗的保温反应釜的整体结构示意图；

图2为本实用新型一种便于清洗的保温反应釜的正视结构示意图；

图3为本实用新型一种便于清洗的保温反应釜的俯视结构示意图；

图4为本实用新型图3中A-A处的剖面结构示意图。

图中：100、搅拌装置；110、电机；120、搅拌轴；130、固定环；140、扇叶；200、供水装置；210、水泵；220、进水管；230、第一电磁阀；240、分流管；250、高压喷头；260、液箱；300、反应釜；310、壳体；320、进料管；330、第二电磁阀；340、出料管；350、第三电磁阀；360、底板；370、支撑柱；380、温度传感器；400、真空泵装置；410、真空泵；420、气箱； 430、真空管；440、支撑架；500、集成控制器。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

实施例一：

请参照图1—4所示，一种便于清洗的保温反应釜，包括搅拌装置100、供水装置200、反应釜300、真空泵装置400、集成控制器500，反应釜300 包括壳体310以及底板360，壳体310为内部中空结构，搅拌装置100包括固定环130，壳体310外部一表面设有第一安装槽，固定环130与第一安装槽连接，供水装置200包括进水管220，壳体310外部一表面设有旋转孔，进水管220与旋转孔旋转配合，真空泵装置400包括真空管430以及支撑架 440，壳体310外部周侧面设有通孔，真空管430与通孔滑动配合，底板360 一表面设有第二安装槽，支撑架440与第二安装槽连接，底板360一表面设有第一连接槽，集成控制器500与第一连接槽连接。

进一步地，搅拌装置100还包括电机110、搅拌轴120以及扇叶140，搅拌轴120一端与电机110旋转配合，搅拌轴120与固定环130滑动配合，搅拌轴120周侧面阵列有若干卡槽，若干扇叶140均与卡槽连接，电机110带动搅拌轴120转动，从而驱动整个搅拌过程。

进一步地，供水装置200还包括水泵210、第一电磁阀230、分流管240、高压喷头250以及液箱260，进水管220一端与液箱260一表面连接，第一电磁阀230安装于进水管220周侧面，液箱260一表面设有连接孔，分流管 240与连接孔连接，分流管240一表面阵列有若干第二连接槽，若干高压喷头250均与第二连接槽连接，供水装置200不仅可以提供反应时所需的水，也可以进行后期壳体310的清洗工作。

进一步地，反应釜300还包括进料管320、第二电磁阀330、出料管340、第三电磁阀350、支撑柱370以及温度传感器380，进料管320安装于壳体 310外部一表面，第二电磁阀330安装于进料管320周侧面，壳体310外部一表面设有第三连接槽，出料管340与第三连接槽连接，第三电磁阀350安装于出料管340周侧面，底板360一表面阵列有若干第一固定槽，若干支撑柱370一端均与第一固定槽连接，若干支撑柱370另一端均与壳体310外部一表面连接，温度传感器380安装于壳体310外部一表面，温度传感器380 可以实时监控壳体310内部的反应温度。

进一步地，真空泵装置400还包括真空泵410以及气箱420，真空管430 一端安装于气箱420一表面，真空泵410一端与气箱420一表面连接，在真空泵装置400的作用下可以使壳体310内部处于一个真空无氧的环境中。

进一步地，电机110、水泵210、第一电磁阀230、第二电磁阀330、第三电磁阀350以及真空泵410均与集成控制器500电性连接，集成控制器500 分别控制电机110、水泵210、第一电磁阀230、第二电磁阀330、第三电磁阀350以及真空泵410，实现协同工作。

实施例二：

请参照图1—4所示，本实用新型为一种便于清洗的保温反应釜，电机 110型号为42BYGH4818，水泵210型号为IHW,第一电磁阀230、第二电磁阀 330以及第三电磁阀350型号为CF8-E，真空泵410型号为AS26,其工作原理为：电机110控制搅拌轴120工作，从而带动整个搅拌装置100稳定工作，真空泵410可以随时保持壳体310内部处于一个真空无氧的环境之下，确保反应需要以及防止杂质腐蚀壳体310。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (6)

1.一种便于清洗的保温反应釜，包括搅拌装置(100)、供水装置(200)、反应釜(300)、真空泵装置(400)、集成控制器(500)，其特征在于：所述反应釜(300)包括壳体(310)以及底板(360)，所述壳体(310)为内部中空结构，所述搅拌装置(100)包括固定环(130)，所述壳体(310)外部一表面设有第一安装槽，所述固定环(130)与第一安装槽连接，所述供水装置(200)包括进水管(220)，所述壳体(310)外部一表面设有旋转孔，所述进水管(220)与旋转孔旋转配合，所述真空泵装置(400)包括真空管(430)以及支撑架(440)，所述壳体(310)外部周侧面设有通孔，所述真空管(430)与通孔滑动配合，所述底板(360)一表面设有第二安装槽，所述支撑架(440)与第二安装槽连接，所述底板(360)一表面设有第一连接槽，所述集成控制器(500)与第一连接槽连接。

2.根据权利要求1所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述搅拌装置(100)还包括电机(110)、搅拌轴(120)以及扇叶(140)，所述搅拌轴(120)一端与电机(110)旋转配合，所述搅拌轴(120)与固定环(130)滑动配合，所述搅拌轴(120)周侧面阵列有若干卡槽，若干所述扇叶(140)均与卡槽连接。

3.根据权利要求1所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述供水装置(200)还包括水泵(210)、第一电磁阀(230)、分流管(240)、高压喷头(250)以及液箱(260)，所述进水管(220)一端与液箱(260)一表面连接，所述第一电磁阀(230)安装于进水管(220)周侧面，所述液箱(260)一表面设有连接孔，所述分流管(240)与连接孔连接，所述分流管(240)一表面阵列有若干第二连接槽，若干所述高压喷头(250) 均与第二连接槽连接。

4.根据权利要求1所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述反应釜(300)还包括进料管(320)、第二电磁阀(330)、出料管(340)、第三电磁阀(350)、支撑柱(370)以及温度传感器(380)，所述进料管(320)安装于壳体(310)外部一表面，所述第二电磁阀(330)安装于进料管(320)周侧面，所述壳体(310)外部一表面设有第三连接槽，所述出料管(340)与第三连接槽连接，所述第三电磁阀(350)安装于出料管(340)周侧面，所述底板(360)一表面阵列有若干第一固定槽，若干所述支撑柱(370)一端均与第一固定槽连接，若干所述支撑柱(370)另一端均与壳体(310)外部一表面连接，所述温度传感器(380)安装于壳体(310)外部一表面。

5.根据权利要求1所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述真空泵装置(400)还包括真空泵(410)以及气箱(420)，所述真空管(430)一端安装于气箱(420)一表面，所述真空泵(410)一端与气箱(420)一表面连接。

6.根据权利要求2所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述电机(110)、水泵(210)、第一电磁阀(230)、第二电磁阀(330)、第三电磁阀(350)以及真空泵(410)均与集成控制器(500)电性连接。

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