CN213287827U - 一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,本实用新型采用了无人化作业模式利用入料机1自动入料进行读码判读取相关资讯,当入料后全程进入高洁净环境密闭腔体流线,经过一次性洁净纯水净化,经可变式喷水系统依照产品洁净程度正、反面双面清洗方式并调整出不同方向及不同出水角度及不同水压大小,后经变频式温控风流机智能烘干,可以依照产品大小进行温度及风流控制,匹配出最好效果烘干出不变形的Tray盘,确保在洁净流程中万无一失的洁净保证,为提供高升产能,采用双通道双工位清洗方式,保证产能输出。

Description

一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备
技术领域
本实用新型涉及Tray盘清洗设备技术领域,具体是一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备。
背景技术
目前光电及半导体厂需要复杂的将各式各样相关产品与承漏盘(Tray)不同程度的接触,期间如有不同程度的招受到微尘粒子的污染,将对产品造成危害,例如:微尘粒子过高产品无法正常使用,性能上会有电气不正常,品质上会有外观瑕疵等不可逆的危害和报废,其经济损失更是难以估计。
现有采用的方式为人工取放方式,在开放裸露微尘粒子环境进行,人力工序杂乱,环境中微尘粒子污染交替产生。人工清洁,效率低下,品质无法把控,微尘粒子二次污染无法管控,容易造成制程品质事故且无法配合大批量需求,Tray盘经人工清洗后变形及破损率加大。因此,本实用新型提供了一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,包括入料机、清洗喷淋段、清洗机烘干段、出料机,所述入料机与出料机的结构相同,入料机包括升降部分、中转平台部分、下料部分、矫正部分、机械手部分和NG位,通过物料小车上料(可自动对接STK、OHT 上料),所述小车可承载一定数量的Tray模组承载,转移到相应位置后,由机械手部分搬运到清洗喷淋段内的水洗线腔内,所述入料机内安装有扫码枪,入料机内安装有NG位,机械手从上段吸附Tray盘后,扫码并上传到CIM系统,扫码失败会放到相应的NG位,人工可以操作从机架外部取出;
机械手部分将盘运输到清洗喷淋段,清洗喷淋段和清洗机烘干段均安装在清洗腔体内,清洗腔体的侧壁安装有腔体玻璃门,腔体的外侧设有外框,外框的外侧设有外架玻璃门,方便观看清洗过程,所述清洗喷淋段包括依次设置的CDA风帘、高压喷淋、中压喷淋和DI水喷淋,所述清洗机烘干段包括烘干段、冷却段和除静电位,清洗喷淋段和清洗机烘干段的端部均设有接驳段,由电机带动流水线作业,全线采用滚轮制作,内部包含若干个清洗出水机构,在上料处、清洗喷淋段和清洗机烘干段内部都设有倾斜输送Tray盘的导向轮,导向轮的两侧安装有正面喷管和背面喷管,正面喷管和背面喷管连接有存水箱,正面喷管和背面喷管可依照程序调整出不同水压及不同出水角度及不同水压大小,Tray盘在运行过程中由高压形成的水枪冲击,清洁产品表面,各水洗零部件都与各路水管连接,最后连接到存水箱体内;
所述清洗机烘干段内部主要运输线由胶辊组成,在若干个运输胶辊之间安装水管,并组装若干个风切喷嘴在水管上,多路水管与互相连接至箱体下方变频式温控风流机,机箱内部安装若干变频式温控风流机,并吹送到各个喷嘴,形成风刀,靠近导向轮对Tray盘正反面吹风,直至产品吹干,清洗后的Tray盘通过出料机进行出料,出料机将良品会放到下料模组上,每放一次会下降一格,当模组感应器判定产品满腔后,机器发出警报,届时由人工将清洗完毕的小车推走。
作为本实用新型进一步的方案,所述机械手部分由电机加模组3轴直线运动和两个电机旋转搭建成5轴模组,机械手部分的尾端设有冶具板,冶具板上装有若干吸盘,吸盘布局尺寸可调,以适应不同大小的产品。
作为本实用新型再进一步的方案,所述清洗腔体采用双层开盖结构,能降低清洁过程噪音,使设备噪音控制在分贝以内,能隔绝高温风吹段温度传递到车间,保证设备外部温度在要求范围内。
作为本实用新型再进一步的方案,所述导向轮由两部分倾斜交叉形成夹角组成,前后对称设置,使产品在运送过程中不至侧翻。
作为本实用新型再进一步的方案,所述Tray盘与水平面形成75°夹角,即出入料角度为75°。
作为本实用新型再进一步的方案,所述存水箱分为一号清洁回水水箱,用于高压喷淋,二号高压喷淋回水缸体以及三号中压喷淋水箱,中压喷淋回水通过溢流口进入污水箱,再经过污水泵排到污水管内,所有回水都经过过滤装置,所述存水箱内设有四根大热功率发热管用于调整水温,存水箱安装在承漏盘上,所述承漏盘的总容量为1.2倍的存水箱的总容量,保证存水箱在异常情况下漏水而不会溢流至生产车间。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1.本实用新型采用高洁净设备环境与机械结构,采无人化工作车或天车方式进行产品投放作业。
2.本实用新型采用专用可变式喷水系统依照产品洁净程度正、反面双面清洗方式调整出水压方向,出水角度,水压大小,为洁净度增强。
3.本实用新型采用双通道工位同时清洗方式,提升产能。
4.本实用新型采用读码器进行二维吗或条形码读取,数据上传系统分享。
5、本实用新型采用了无人化作业模式利用入料机1自动入料进行读码判读取相关资讯,当入料后全程进入高洁净环境密闭腔体流线,经过一次性洁净纯水净化,经可变式喷水系统依照产品洁净程度正、反面双面清洗方式并调整出不同方向及不同出水角度及不同水压大小,后经变频式温控风流机智能烘干,可以依照产品大小进行温度及风流控制,匹配出最好效果烘干出不变形的Tray盘,确保在洁净流程中万无一失的洁净保证,为提供高升产能,采用双通道双工位清洗方式,保证产能输出。
附图说明
图1为一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备的结构示意图。
图2为一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备中入料机的结构示意图。
图3为一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备中机械手部分的结构示意图。
图4为一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备中清洗出水机构的结构示意图。
图5为一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备中腔体的部分结构示意图。
图6为一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备中烘干段的结构示意图。
图7为一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备中出料机4的结构示意图。
图中:1、入料机;2、清洗喷淋段;3、清洗机烘干段;4、出料机;5、升降部分;6、中转平台部分;7、下料部分;8、矫正部分;9、机械手部分;10、冶具板;11、扫码枪; 12、清洗出水机构;13、承漏盘;14、水箱;15、腔体玻璃门;16、外架玻璃门;17、正面喷管;18、喷嘴;19、背面喷管;20、导向轮;21、CDA风帘;22、烘干段;23、冷却段;24、除静电位;25、NG位。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1~7,本实用新型实施例中,一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,包括入料机1、清洗喷淋段2、清洗机烘干段3、出料机4,所述入料机1与出料机 4的结构相同,入料机1包括升降部分5、中转平台部分6、下料部分7、矫正部分8、机械手部分9和NG位25,通过物料小车上料(可自动对接STK、OHT上料),所述小车可承载一定数量的Tray模组承载,转移到相应位置后,由机械手部分9搬运到清洗喷淋段2 内的水洗线腔内,所述机械手部分9由电机加模组3轴直线运动和两个电机旋转搭建成5 轴模组,机械手部分9的尾端设有冶具板10,冶具板10上装有若干吸盘,吸盘布局尺寸可调,以适应不同大小的产品,所述入料机1内安装有扫码枪11,机械手从上段吸附Tray 盘后,扫码并上传到CIM系统,扫码失败会放到相应的NG位25,人工可以操作从机架外部取出;
机械手部分9将盘运输到清洗喷淋段2,清洗喷淋段2和清洗机烘干段3均安装在清洗腔体内,清洗腔体的侧壁安装有腔体玻璃门15,腔体的外侧设有外框,外框的外侧设有外架玻璃门16,方便观看清洗过程,清洗腔体采用双层开盖结构,能降低清洁过程噪音,使设备噪音控制在70分贝以内,能隔绝高温风吹段温度传递到车间,保证设备外部温度在要求范围内,所述清洗喷淋段2包括依次设置的CDA风帘21、高压喷淋、中压喷淋和 DI水喷淋,所述清洗机烘干段3包括烘干段22、冷却段23和除静电位24,清洗喷淋段2 和清洗机烘干段3的端部均设有接驳段,由电机带动流水线作业,全线采用滚轮制作,Tray 盘与水平面形成75°夹角,内部包含若干个清洗出水机构12,在上料处、清洗喷淋段2 和清洗机烘干段3内部都设有倾斜输送Tray盘的导向轮20,导向轮20由两部分倾斜交叉形成夹角组成,前后对称设置,使产品在运送过程中不至侧翻,导向轮20的两侧安装有正面喷管17和背面喷管19,正面喷管17和背面喷管19连接有存水箱14,正面喷管17 和背面喷管19可依照程序调整出不同水压及不同出水角度及不同水压大小,Tray盘在运行过程中由高压形成的水枪冲击,清洁产品表面,各水洗零部件都与各路水管连接,最后连接到存水箱14体内,存水箱14分为一号清洁回水水箱,用于高压喷淋,二号高压喷淋回水缸体以及三号中压喷淋水箱,中压喷淋回水通过溢流口进入污水箱,再经过污水泵排到污水管内,所有回水都经过过滤装置,所述存水箱14内设有四根大热功率发热管用于调整水温,存水箱14安装在承漏盘13上,所述承漏盘13的总容量为1.2倍的存水箱14 的总容量,保证存水箱14在异常情况下漏水而不会溢流至生产车间;
所述清洗机烘干段3内部主要运输线由胶辊组成,在若干个运输胶辊之间安装水管,并组装若干个风切喷嘴18在水管上,多路水管与互相连接至箱体下方变频式温控风流机,机箱内部安装若干变频式温控风流机,并吹送到各个喷嘴18,形成风刀,所述风刀吹干组件内部靠近导向轮20对Tray盘正反面吹风,直至产品吹干,清洗后的Tray盘通过出料机4进行出料,出料机4将良品会放到下料模组上,每放一次会下降一格,当模组感应器判定产品满腔后,机器发出警报,届时由人工将清洗完毕的小车推走。
本实用新型的工作原理是:使用时,通过入料机1入料,通过机械手部分9运输到驳接端,机械手从上段吸附Tray盘后,扫码并上传到CIM系统,扫码失败会放到相应的NG 位25,人工可以操作从机架外部取出,Tray盘依次通过高、中压喷淋清洗,DI喷淋、CDA 风帘21、烘干段22、冷却段23和除静电位24,进行清洗和烘干,最后通过出料机4进行出料。
出入料角度为75°的原因为:
1、托盘在传输过程的力分解为两个方向,即正面垂直风压水压和产品自重向下的力 (如图5)。因此倾斜传输稳定性会比垂直传输要好,风压按照正面压力大于背面压力原则设置,反面可以完全支撑,正面只需要少量压紧即可保证产品在接受正面高压水力及风力不会跳动和反弹。
2、背面凹槽清洗风切,需要在与水平夹角0~80°才能保证污渍随重力向下顺利排出,正面被高压水流清洗时要保证污渍能随水流排出并能够稳定的承受风压水压,结合一般薄壳类吸塑产品的拔模斜度1~3°来分析,与垂直面的夹角不能小于10°,否则污渍会在凹坑角落无法随高压水流冲出。所以选择75°作为合理的倾斜角度。
3、75°倾斜可以让入出料机械手方便抓取。如果产品垂直进出必定要在产品两侧加以扶持固定且间隙不能过大,这时机械手自动上料就需要将产品直插进设备,位置精度要求太高会影响设备运行的稳定性和提高设备成本。
本实用新型采用了无人化作业模式利用入料机1自动入料进行读码判读取相关资讯,当入料后全程进入高洁净环境密闭腔体流线,经过一次性洁净纯水净化,经可变式喷水系统依照产品洁净程度正、反面双面清洗方式并调整出不同方向及不同出水角度及不同水压大小,后经变频式温控风流机智能烘干,可以依照产品大小进行温度及风流控制,匹配出最好效果烘干出不变形的Tray盘,确保在洁净流程中万无一失的洁净保证,为提供高升产能,采用双通道双工位清洗方式,保证产能输出。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,包括入料机(1)、清洗喷淋段(2)、清洗机烘干段(3)和出料机(4),其特征在于,所述入料机(1)与出料机(4)的结构相同,入料机(1)包括升降部分(5)、中转平台部分(6)、下料部分(7)、矫正部分(8)、机械手部分(9)和NG位(25),所述入料机(1)内安装有扫码枪(11),入料机(1)内安装有NG位(25);
机械手部分(9)将盘运输到清洗喷淋段(2),清洗喷淋段(2)和清洗机烘干段(3)均安装在清洗腔体内,清洗腔体的侧壁安装有腔体玻璃门(15),腔体的外侧设有外框,外框的外侧设有外架玻璃门(16),所述清洗喷淋段(2)包括依次设置的CDA风帘(21)、高压喷淋、中压喷淋和DI水喷淋,所述清洗机烘干段(3)包括烘干段(22)、冷却段(23)和除静电位(24),清洗喷淋段(2)和清洗机烘干段(3)的端部均设有接驳段,由电机带动流水线作业,全线采用滚轮制作,内部包含若干个清洗出水机构(12),在上料处、清洗喷淋段(2)和清洗机烘干段(3)内部都设有倾斜输送Tray盘的导向轮(20),导向轮(20)的两侧安装有正面喷管(17)和背面喷管(19),正面喷管(17)和背面喷管(19)连接有存水箱(14);
所述清洗机烘干段(3)内部主要运输线由胶辊组成,在若干个运输胶辊之间安装水管,并组装若干个风切喷嘴(18)在水管上,多路水管与互相连接至箱体下方变频式温控风流机,机箱内部安装若干变频式温控风流机,并吹送到各个喷嘴(18)。
2.根据权利要求1所述的一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,其特征在于,所述机械手部分(9)由电机加模组3轴直线运动和两个电机旋转搭建成5轴模组,机械手部分(9)的尾端设有冶具板(10),冶具板(10)上装有若干吸盘。
3.根据权利要求1所述的一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,其特征在于,所述清洗腔体采用双层开盖结构。
4.根据权利要求1所述的一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,其特征在于,所述导向轮(20)由两部分倾斜交叉形成夹角组成,前后对称设置。
5.根据权利要求1所述的一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,其特征在于,所述Tray盘与水平面形成75°夹角,即出入料角度为75°。
6.根据权利要求1所述的一种光电半导体高洁净Tray盘微尘粒子清洗设备,其特征在于,所述存水箱(14)分为一号清洁回水水箱,二号高压喷淋回水缸体以及三号中压喷淋水箱,所述存水箱(14)内设有四根大热功率发热管用于调整水温,存水箱(14)安装在承漏盘(13)上,所述承漏盘(13)的总容量为1.2倍的存水箱(14)的总容量。
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