CN212955408U - 一种新的电极加工设备 - Google Patents

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王江辉
刘天伦
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Su'an Beijing Technology Co ltd
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Xi'an Yisu'an Intelligent Technology Co ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种新的电极加工设备,包括电解池和电源,所述电解池的外侧安装有电源,且电源的外侧连接有控制柜,所述电解池的顶部右侧连接有进水口,所述电解池的底部左侧连接有排液口,所述电解池的内部安装有第一结构件,且第一结构件的外侧设置有同样安装在电解池的内部的第二结构件,所述第一结构件的内部开设有凹槽,所述固定板的内部开设有固定孔,所述第一结构件的边侧内部开设有连接槽。该新的电极加工设备,通过对电极片进行电化学反应来提高电极片相关的综合性能,增强电极的电催化反应能力。在新的电极处理设备的电解池中可根据电极片的实际数量来调整处理单元组件的数量,以此调控电极片的处理能力和生产周期。

Description

一种新的电极加工设备
技术领域
本实用新型涉及电极加工技术领域,具体为一种新的电极加工设备。
背景技术
随着工业技术的发展,目前对于电极涂层的生产方式越是衍生出了不同的方式进行生产使用,其中在进行电极生产完成后,为了进一步改善电极的综合性能,一般对其进行电解作业;
现有技术背景下的所使用的电解设备,不便于调控电极片的处理能力和生产周期,不能够保证对电极片进行综合性能的提高,因此,我们提出一种新的电极加工设备,以便于解决上述中提出的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种新的电极加工设备,以解决上述背景技术提出的目前的电解设备,不便于调控电极片的处理能力和生产周期,不能够保证对电极片进行综合性能的提高的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种新的电极加工设备,包括电解池和电源,所述电解池的外侧安装有电源,且电源的外侧连接有控制柜,所述电解池的顶部右侧连接有进水口,且电解池的右侧底部连接有排水口,所述电解池的底部左侧连接有排液口,所述电解池的内部安装有第一结构件,且第一结构件的外侧设置有同样安装在电解池的内部的第二结构件,所述第一结构件的内部开设有凹槽,且凹槽的端部固定安装有固定板,所述固定板的内部开设有固定孔,所述第一结构件的边侧内部开设有连接槽。
优选的,所述第一结构件和第二结构件在电解池的内部呈相间设置,且第一结构件和第二结构件间距控制在140-150mm之间。
优选的,所述第一结构件一个单体和第二结构件一个单体之间组成一组处理单元,且每组处理单元间距不低于10cm,并且单组处理单元共分3层。
优选的,所述处理单元每层摆放第一结构件和第二结构件的总数量为60 片,且处理单元中每层的层间距为20cm。
优选的,所述凹槽在第一结构件和第二结构件的内部均有开设,且凹槽的内部对称固定有呈螺纹结构的插杆。
优选的,所述连接槽在第一结构件和第二结构件的内部均呈通孔设置,且连接槽呈对称分布。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该新的电极加工设备,通过对电极片进行电化学反应来提高电极片相关的综合性能,增强电极的电催化反应能力。在新的电极处理设备的电解池中可根据电极片的实际数量来调整处理单元组件的数量,以此调控电极片的处理能力和生产周期。
附图说明
图1为本实用新型俯面结构示意图;
图2为本实用新型正面剖切结构示意图;
图3为本实用新型第一结构件的整体结构示意图;
图4为本实用新型设备组成结构示意图。
图中:1、电解池;2、电源;3、控制柜;4、进水口;5、排水口;6、排液口;7、第一结构件;8、第二结构件;9、凹槽;10、固定板;11、固定孔;12、连接槽;13、插杆。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-4,本实用新型提供一种技术方案:一种新的电极加工设备,包括电解池1、电源2、控制柜3、进水口4、排水口5、排液口6、第一结构件7、第二结构件8、凹槽9、固定板10、固定孔11、连接槽12和插杆13,电解池1的外侧安装有电源2,且电源2的外侧连接有控制柜3,电解池1的顶部右侧连接有进水口4,且电解池1的右侧底部连接有排水口5,电解池1的底部左侧连接有排液口6,电解池1的内部安装有第一结构件7,且第一结构件7的外侧设置有同样安装在电解池1的内部的第二结构件8,第一结构件 7的内部开设有凹槽9,且凹槽9的端部固定安装有固定板10,固定板10的内部开设有固定孔11,第一结构件7的边侧内部开设有连接槽12。
本实用新型进一步的,第一结构件7和第二结构件8在电解池1的内部呈相间设置,且第一结构件7和第二结构件8间距控制在140-150mm之间。
本实用新型进一步的,第一结构件7一个单体和第二结构件8一个单体之间组成一组处理单元,且每组处理单元间距不低于10cm,并且单组处理单元共分3层。
本实用新型进一步的,处理单元每层摆放第一结构件7和第二结构件8 的总数量为60片,且处理单元中每层的层间距为20cm。
本实用新型进一步的,凹槽9在第一结构件7和第二结构件8的内部均有开设,且凹槽9的内部对称固定有呈螺纹结构的插杆13。
本实用新型进一步的,连接槽12在第一结构件7和第二结构件8的内部均呈通孔设置,且连接槽12呈对称分布。
工作原理:在使用该新的电极加工设备时,如图1和图3中将第一结构件7和第二结构件8分别通过固定板10和固定孔11对应安装到电解池1的内部,使得第一结构件7和第二结构件8之间相间设置,同时将第一结构件7 和第二结构件8通过连接槽12分别与电源2之间进行电性连接,使得第一结构件7和第二结构件8分别充当阴极和阳极使用,同时第一结构件7材料选择钛合金(TC4),第二结构件8材质则为纯钛,材质等级不低于TA3级别;
将烧结后的电极,放置在定制托盘内,而后将定制托盘分别凹槽9之间对应贴合,同时通过插杆13与定制托盘之间卡合,通过螺母与插杆13的连接对定制托盘固定限位,而后在电解池1的内部调节混合电解液,通过控制柜3控制电源2输出电压在350-380V左右,输出功率为5-7KW之间,电解时间1.5-2小时。经过电化学处理后的钛电极即为最终品,将钛电极从电解池1 内依次取出,流动水冲洗20-30s左右后放置在干燥通风处晾干。则完成处理作业,这就是该新的电极加工设备的整个工作过程,本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。
本实用新型使用到的标准零件均可以从市场上购买,异形件根据说明书的和附图的记载均可以进行订制,各个零件的具体连接方式均采用现有技术中成熟的螺栓、铆钉、焊接等常规手段,机械、零件和设备均采用现有技术中,常规的型号,加上电路连接采用现有技术中常规的连接方式,在此不再详述。
尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种新的电极加工设备,包括电解池(1)和电源(2),其特征在于:所述电解池(1)的外侧安装有电源(2),且电源(2)的外侧连接有控制柜(3),所述电解池(1)的顶部右侧连接有进水口(4),且电解池(1)的右侧底部连接有排水口(5),所述电解池(1)的底部左侧连接有排液口(6),所述电解池(1)的内部安装有第一结构件(7),且第一结构件(7)的外侧设置有同样安装在电解池(1)的内部的第二结构件(8),所述第一结构件(7)的内部开设有凹槽(9),且凹槽(9)的端部固定安装有固定板(10),所述固定板(10)的内部开设有固定孔(11),所述第一结构件(7)的边侧内部开设有连接槽(12)。
2.根据权利要求1所述的一种新的电极加工设备,其特征在于:所述第一结构件(7)和第二结构件(8)在电解池(1)的内部呈相间设置,且第一结构件(7)和第二结构件(8)间距控制在140-150mm之间。
3.根据权利要求1所述的一种新的电极加工设备,其特征在于:所述第一结构件(7)一个单体和第二结构件(8)一个单体之间组成一组处理单元,且每组处理单元间距不低于10cm,并且单组处理单元共分3层。
4.根据权利要求3所述的一种新的电极加工设备,其特征在于:所述处理单元每层摆放第一结构件(7)和第二结构件(8)的总数量为60片,且处理单元中每层的层间距为20cm。
5.根据权利要求1所述的一种新的电极加工设备,其特征在于:所述凹槽(9)在第一结构件(7)和第二结构件(8)的内部均有开设,且凹槽(9)的内部对称固定有呈螺纹结构的插杆(13)。
6.根据权利要求1所述的一种新的电极加工设备,其特征在于:所述连接槽(12)在第一结构件(7)和第二结构件(8)的内部均呈通孔设置,且连接槽(12)呈对称分布。
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