CN212894936U - 一种用于物理气相沉积反应室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及气相沉积技术领域,具体地说,涉及一种用于物理气相沉积反应室,包括反应箱体,反应箱体的顶壁靠近左侧处设有泄压装置,泄压装置包括压力箱,压力箱的内部设有压板,压板的内部靠近四个拐角处均开设有导向孔,且导向孔的内部滑动插接有导向柱,导向柱的外部位于压板的上方位置处套接有弹簧;反应箱体的顶壁靠近左侧处设有温度监测装置,温度监测装置包括底座,底座的内部为中空腔体,底座的底部内壁上通过螺栓固定安装有温度传感器,底座的上方设有温度显示屏,该用于物理气相沉积反应室,当反应室内部的气压过高时可自动进行泄压,避免反应室内部的气压过高损坏反应室。
Description
技术领域
本实用新型涉及气相沉积技术领域,具体地说,涉及一种用于物理气相沉积反应室。
背景技术
物理气相沉积是指在真空条件下,采用物理方法,将材料源固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。但是,现有的物理气相沉积反应室不具有自动泄压功能,容易使反应室内部的气压过高损坏反应室,并且不能有效的对反应室内部的温度进行监测,不利于反应工作的进行。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于物理气相沉积反应室,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种用于物理气相沉积反应室,包括反应箱体,所述反应箱体的顶壁靠近左侧处设有泄压装置,所述泄压装置包括压力箱,所述压力箱的内部设有压板,所述压板的内部靠近四个拐角处均开设有导向孔,且导向孔的内部滑动插接有导向柱,所述导向柱的外部位于所述压板的上方位置处套接有弹簧;所述反应箱体的顶壁靠近左侧处设有温度监测装置,所述温度监测装置包括底座,所述底座的内部为中空腔体,所述底座的底部内壁上通过螺栓固定安装有温度传感器,所述底座的上方设有温度显示屏,所述温度显示屏的底壁靠近两侧处均通过螺栓固定有支撑杆,所述支撑杆的底端通过螺栓固定在所述底座的顶壁上。
优选的,所述底座通过螺栓固定在所述反应箱体的顶壁上,所述温度传感器的底端检测探头穿过所述底座且延伸至所述反应箱体的内部。
优选的,所述压力箱通过螺栓固定在所述反应箱体的顶壁上,所述导向柱的顶端和底端分别焊接在所述压力箱的顶部内壁和底部内壁上,所述弹簧的顶端和底端分别焊接在所述压力箱的顶部内壁和所述压板的顶壁上。
优选的,所述压力箱的底壁焊接有多个进气管,所述进气管的底端延伸至所述反应箱体的内部,所述压力箱的左侧壁焊接有多个泄气管。
优选的,所述压板的底壁粘接有密封垫。
优选的,所述反应箱体的前侧开口处铰接有箱门,所述反应箱体的右侧壁连接有抽真空管,且所述抽真空管上安装有阀门。
优选的,所述反应箱体的底壁靠近四个拐角处均通过螺栓固定安装有万向脚轮。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1.该用于物理气相沉积反应室,通过泄压装置的设置,当反应箱体内部的气压过高时可自动进行泄压,避免反应箱体内部的气压过高损坏反应箱体。
2.该用于物理气相沉积反应室,通过温度监测装置的设置,可对反应箱体内部的温度进行有效的监测,便于反应工作的进行。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图;
图2为本实用新型中底座的剖视结构示意图;
图3为本实用新型中压力箱的剖视结构示意图;
图4为本实用新型中压板的部分结构示意图。
图中各标号的意义为:1、反应箱体;10、箱门;11、万向脚轮;12、抽真空管;2、温度监测装置;20、底座;21、温度传感器;22、支撑杆;23、温度显示屏;3、泄压装置;30、压力箱;300、进气管;301、泄气管;31、压板;32、密封垫;33、导向柱;34、弹簧。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
请参阅图1-图4,本实用新型提供一种技术方案:
一种用于物理气相沉积反应室,包括反应箱体1,反应箱体1的顶壁靠近左侧处设有泄压装置3,泄压装置3包括压力箱30,压力箱30的内部设有压板31,压板31的内部靠近四个拐角处均开设有导向孔,且导向孔的内部滑动插接有导向柱33,导向柱33的外部位于压板31的上方位置处套接有弹簧34;反应箱体1的顶壁靠近左侧处设有温度监测装置2,温度监测装置2包括底座20,底座20的内部为中空腔体,底座20的底部内壁上通过螺栓固定安装有温度传感器21,底座20的上方设有温度显示屏23,温度显示屏23的底壁靠近两侧处均通过螺栓固定有支撑杆22,支撑杆22的底端通过螺栓固定在底座20的顶壁上。
本实施例中,底座20通过螺栓固定在反应箱体1的顶壁上,将底座20稳定地固定在反应箱体1上,温度传感器21的底端检测探头穿过底座20且延伸至反应箱体1的内部,可对反应箱体1内的温度进行很好的检测。
需要补充的是,温度传感器21通过导线与温度显示屏23之间电性连接,通过温度显示屏23可将温度传感器21检测出的温度显示出来,便于工作人员观察。
本实施例中,温度传感器21和温度显示屏23均为现有的常规技术,在此不作赘述。
本实施例中,压力箱30通过螺栓固定在反应箱体1的顶壁上,导向柱33的顶端和底端分别焊接在压力箱30的顶部内壁和底部内壁上,弹簧34的顶端和底端分别焊接在压力箱30的顶部内壁和压板31的顶壁上。
进一步的,压力箱30的底壁焊接有多个进气管300,进气管300的底端延伸至反应箱体1的内部,压力箱30的左侧壁焊接有多个泄气管301,当反应箱体1压力过大时,气压经过进气管300进入到压力箱30内将压板31顶起压缩弹簧34,当压板31上升高过泄气管301高度时,气压会通过泄气管301排出进行泄气,避免反应箱体1压力过大,当反应箱体1压力压力恢复正常值时,弹簧34会推动压板31下移使其贴合压在进气管300上。
本实施例中,压板31的底壁粘接有密封垫32,密封垫32采用硅胶材料制成,密封性能好耐高温,便于更好的对进气管300进行密封,避免气压漏出。
本实施例中,反应箱体1的前侧开口处铰接有箱门10,反应箱体1的右侧壁连接有抽真空管12,且抽真空管12上安装有阀门,在物理气相沉积反应前,先打开阀门通过抽真空管12可抽除反应箱体1的空气,方便反应工作的进行。
本实施例中,反应箱体1的底壁靠近四个拐角处均通过螺栓固定安装有万向脚轮11,便于对反应箱体1进行移动。
本实施例的用于物理气相沉积反应室在使用时,先打开箱门10将需要气相沉积反应的工件放入到反应箱体1内,关闭箱门10,然后打开阀门通过抽真空管12抽除反应箱体1的空气,接着将反应箱体1、温度传感器21和温度显示屏23依次接通外界电源并使其工作,反应箱体1内的加热器可对工件进行加热,温度传感器21可对反应箱体1内的温度进行很好的检测,通过温度显示屏23可将温度传感器21检测出的温度显示出来,便于工作人员观察。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例,并不用来限制本实用新型,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (7)
1.一种用于物理气相沉积反应室,包括反应箱体(1),其特征在于:所述反应箱体(1)的顶壁靠近左侧处设有泄压装置(3),所述泄压装置(3)包括压力箱(30),所述压力箱(30)的内部设有压板(31),所述压板(31)的内部靠近四个拐角处均开设有导向孔,且导向孔的内部滑动插接有导向柱(33),所述导向柱(33)的外部位于所述压板(31)的上方位置处套接有弹簧(34);所述反应箱体(1)的顶壁靠近左侧处设有温度监测装置(2),所述温度监测装置(2)包括底座(20),所述底座(20)的内部为中空腔体,所述底座(20)的底部内壁上通过螺栓固定安装有温度传感器(21),所述底座(20)的上方设有温度显示屏(23),所述温度显示屏(23)的底壁靠近两侧处均通过螺栓固定有支撑杆(22),所述支撑杆(22)的底端通过螺栓固定在所述底座(20)的顶壁上。
2.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积反应室,其特征在于:所述底座(20)通过螺栓固定在所述反应箱体(1)的顶壁上,所述温度传感器(21)的底端检测探头穿过所述底座(20)且延伸至所述反应箱体(1)的内部。
3.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积反应室,其特征在于:所述压力箱(30)通过螺栓固定在所述反应箱体(1)的顶壁上,所述导向柱(33)的顶端和底端分别焊接在所述压力箱(30)的顶部内壁和底部内壁上,所述弹簧(34)的顶端和底端分别焊接在所述压力箱(30)的顶部内壁和所述压板(31)的顶壁上。
4.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积反应室,其特征在于:所述压力箱(30)的底壁焊接有多个进气管(300),所述进气管(300)的底端延伸至所述反应箱体(1)的内部,所述压力箱(30)的左侧壁焊接有多个泄气管(301)。
5.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积反应室,其特征在于:所述压板(31)的底壁粘接有密封垫(32)。
6.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积反应室,其特征在于:所述反应箱体(1)的前侧开口处铰接有箱门(10),所述反应箱体(1)的右侧壁连接有抽真空管(12),且所述抽真空管(12)上安装有阀门。
7.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积反应室,其特征在于:所述反应箱体(1)的底壁靠近四个拐角处均通过螺栓固定安装有万向脚轮(11)。
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CN202021243353.1U CN212894936U (zh) | 2020-06-30 | 2020-06-30 | 一种用于物理气相沉积反应室 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114481096A (zh) * | 2022-02-23 | 2022-05-13 | 楚赟精工科技(上海)有限公司 | 一种气相沉积系统及泄压控制方法 |
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CN114481096A (zh) * | 2022-02-23 | 2022-05-13 | 楚赟精工科技(上海)有限公司 | 一种气相沉积系统及泄压控制方法 |
CN114481096B (zh) * | 2022-02-23 | 2024-03-29 | 楚赟精工科技(上海)有限公司 | 一种气相沉积系统及泄压控制方法 |
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