CN212681947U - 清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种清洗装置，包括：转运组件，包括用于承载反应器并可转动的转盘，所述转盘沿其周向间隔设置有多个用于承载反应器的贯穿孔，所述贯穿孔贯穿所述转盘的上表面和下表面，所述反应器的底部暴露于所述贯穿孔之外；清洗分离机构，包括用于向反应器中注入清洗液的注液件及用于对已注入清洗液的反应器抽取废液的吸液件；及捕捉组件，包括与所述反应器的底部相对设置的磁性件，所述磁性件用于将反应器中的磁粒结合物收集在反应器内侧壁上。使得反应器的底部消除了其它构件的遮挡，故磁性件产生的磁场能避免其它构件的干扰，从而提高对磁粒结合物的吸附力，使得磁粒结合物紧贴反应器内侧壁。

Description

清洗装置

技术领域

本实用新型涉及体外诊断技术领域，特别是涉及一种清洗装置。

背景技术

发光免疫分析通过以抗原抗体相互结合的免疫学反应为基础，使用酶、发光剂等物质标记抗原抗体，经过发光反应，将光信号与分析物浓度等相联系，分析样本中分析物含量。

在清洗分离(本文有时简称清洗)过程中，首先以磁粒(通常为磁粒试剂组分的主要成分)为固相载体将样本中的目标分析物捕获并结合，然后再通过磁力将直接或间接结合有目标分析物的磁粒收集在反应杯的内侧壁上，经过多次注入清洗液和抽取废液后，最终去除未结合在磁粒上的游离标记物和其它干扰杂质，以便对连接在磁粒上的抗原抗体结合物(即磁粒结合物)进行信号测量。对于传统的清洗方法，要么清洗效率低、要么清洗效果差，同时也使得执行该清洗方法的装置结构复杂且体积庞大。

实用新型内容

本实用新型解决的一个技术问题是如何使得清洗分离机构的结构简单。

一种清洗装置，包括：

转运组件，包括用于承载反应器并可转动的转盘，所述转盘沿其周向间隔设置有多个用于承载反应器的贯穿孔，所述贯穿孔贯穿所述转盘的上表面和下表面，所述反应器的底部暴露于所述贯穿孔之外；

清洗分离机构，包括用于向反应器中注入清洗液的注液件及用于对已注入清洗液的反应器抽取废液的吸液件；及

捕捉组件，包括与所述反应器的底部相对设置的磁性件，所述磁性件用于将反应器中的磁粒结合物收集在反应器内侧壁上。

在其中一个实施例中，还包括混匀组件，所述混匀组件包括承载筒，所述承载筒能够靠近或远离所述转盘运动，以使所述承载筒收容或脱离所述反应器的底部。

在其中一个实施例中，所述捕捉组件还包括与所述转盘间隔设置的安装架，所述安装架的侧周面上开设有收容孔，所述磁性件容置在所述收容孔中。

在其中一个实施例中，所述磁性件与所述收容孔的形状相适配，所述磁性件的外表面与所述安装架的侧周面平齐。

在其中一个实施例中，所述安装架的侧周面还凹陷形成有沉槽，所述沉槽的上端贯穿所述安装架的上表面，所述沉槽的下端贯穿所述安装架的下表面，所述沉槽为所述混匀组件的运动提供避位空间。

在其中一个实施例中，所述混匀组件还包括连接板、驱动电机和驱动轴，所述驱动轴穿设在所述连接板中并与所述驱动电机的输出轴连接，所述承载筒固定在所述驱动轴上，所述驱动电机与所述连接板固定连接，所述驱动电机跟随所述连接板靠近或远离所述转盘运动。

在其中一个实施例中，所述承载筒上开设有能够与所述反应器配合的混匀孔，所述混匀孔的中心轴线与所述驱动轴的中心轴线相互平行。

在其中一个实施例中，所述清洗分离机构还包括底板、支架和第一驱动器，所述吸液件安装在所述支架上，所述第一驱动器设置在所述底板上并与所述支架连接，所述第一驱动器用于驱动所述支架运动、以使所述吸液件伸入或退出所述反应器，所述底板能够承载所述混匀组件，所述支架能够带动所述混匀组件靠近或远离所述转盘运动。

在其中一个实施例中，所述支架包括用于带动所述混匀组件运动的搭接板，所述搭接板表面的一部分凹陷形成弯折连接的第一限位面和第二限位面，所述混匀组件能够同时跟所述第一限位面和所述第二限位面相抵接。

在其中一个实施例中，多个所述贯穿孔沿所述转盘的周向间隔排列，所述贯穿孔数量至少为五个。

本实用新型的一个实施例的一个技术效果是：由于反应器的底部暴露于贯穿孔之外，而磁性件与该暴露于贯穿孔之外的反应器的底部相对设置，使得反应器的底部消除了其它构件的遮挡，故磁性件产生的磁场能避免其它构件的干扰，从而提高对磁粒结合物的吸附力，使得磁粒结合物紧贴反应器内侧壁。

附图说明

图1为一实施例提供的清洗装置的整体装配结构示意图；

图2为图1在另一视角下的结构示意图；

图3为图1中支架带动吸液件上升后的结构示意图；

图4为图1中去除注液组件和信号件后的局部结构示意图；

图5为图4中去除部分吸液组件后的局部结构示意图；

图6为图1中混匀组件的局部结构示意图；

图7为一实施例提供的清洗方法的流程框图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“内”、“外”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

本实用新型将进入清洗分离前的反应器内的混匀物简称为反应物，反应物通常为待测样本和试剂的混合反应物或者样本和试剂反应后的结合物等；将在清洗分离过程中向反应器中注入的清洗缓冲液(Wash buffer)简称为清洗液，向反应器中注入清洗缓冲液简称为注液；将注入清洗液后的反应器内的混合物简称为废液，废液可以由反应物和清洗液的混合物、反应后的免疫复合物和清洗液的混合物以及未清洗干净的未结合成分等物质组成。本技术领域人员可以理解，为了使清洗分离更彻底，最大限度得减少清洗分离后反应物中未结合成分的残留，清洗分离通常包含多次注清洗液和抽取注入清洗液后的反应器内的废液，将第一次注入清洗液、收集磁粒结合物和抽取注入清洗液清洗后的废液定义为第一阶清洗，将第二次注入清洗液、收集磁粒结合物和吸取废液定义为第二阶清洗…将第N次注入清洗液、收集磁粒结合物和吸取废液定义为第N阶清洗。每次清洗分离通常包括2-6阶清洗。在有些免疫分析仪中，对于即将进行清洗分离的反应器中的反应物，在进行第一次注入清洗液前，还有一个预先收集磁粒结合物和预先抽取反应器中的未结合反应物的工序，本实用新型为了叙述方便，将该次抽取反应器中未注入清洗液的未结合反应物的工序定义为清洗的预吸液，预吸液不计算在清洗的N阶清洗范围内，本实用新型的吸液或者吸取废液，除非特别说明，特指对注入清洗液后的反应器内的废液的吸取。每个测试项目根据反应方法的不同，如一步法、两步法、三步法，在整个反应过程中可对应进行1-3次清洗分离，每次清洗包括2-6阶清洗。

同时参阅图1至图5，本实用新型一实施例提供的免疫分析仪包括清洗装置 10，该清洗装置10用于清洗反应器30内部的磁粒结合物，该清洗装置10包括转运组件100、注液组件200、吸液组件300、捕捉组件400、混匀组件500和信号件600，其中的注液组件200和吸液组件300两者可以形成一个清洗分离机构20。

在一些实施例中，转运组件100包括用于承载反应器30并可转动的转盘 110。此外，转运组件100还包括转轴120、轴套140、轴承和第二驱动器130，第二驱动器130固定在吸液组件300的底板320的下表面上，第二驱动器130 可以为步进电机等。转轴120的下端与第二驱动器130的输出轴连接，转轴120 的上端穿过底板320并向上相对底板320的上表面延伸。转盘110为圆盘状结构，固定在转轴120的上端，当第二驱动器130驱动转轴120旋转时，转轴120 将带动转盘110做间隙性转动。轴套140固定在底板320与转盘110之间，当第二驱动器130工作时，轴套140保持静止不动状态。轴承套设在轴套140中，转轴120与轴承配合，通过设置轴承，可以减少转轴120旋转过程中的摩擦力，并提高转轴120和转盘110两者的旋转精度。

转盘110沿其周向间隔设置多个承载位，用于承载反应器30。承载位可以是任何适合承载反应器30的结构，例如孔、槽、支架等。在一个实施例中，承载位为贯穿孔111，贯穿孔111贯穿转盘110的上表面和下表面。多个贯穿孔 111沿转盘110的周向间隔排列，贯穿孔111数量至少为5个。具体地，可以为 8个、10个、12个等。贯穿孔111可以为圆形的台阶孔，台阶孔由同轴设置的大孔和小孔构成，大孔的直径大于小孔的直径，大孔的底壁形成整个台阶孔的台阶面。反应器30大致呈圆柱形，反应器30的侧周面上设置有凸环31，该凸环31沿反应器30的径向相对侧周面延伸设定的长度，当反应器30穿设在该贯穿孔111中时，反应器30上的凸环31将与台阶孔上的台阶面相抵接，防止反应器30从贯穿孔111中掉落，故贯穿孔111起到对反应器30的承载作用，每一个贯穿孔111即可形成转盘110上用于承载反应器30的承载位111a。当转盘 110驱动转盘110运动时，贯穿孔111中的反应器30将跟随转盘110绕转轴120 转动。

在一些实施例中，吸液组件300包括吸液件310、底板320、支架340和第一驱动器330。吸液件310安装在支架340上，第一驱动器330设置在底板320 上并与支架340连接，第一驱动器330用于驱动支架340上下运动，以使吸液件310伸出或退出反应器30中。

吸液件310用于对已注入清洗液的反应器30抽取废液。如前文所述，此处吸液件310特指对已注入清洗液的反应器30抽取废液，不包括对反应器30中的反应物预先抽吸的预吸液件。吸液件310可以为细长的吸液针，还可以为吸液管等其他适合抽吸液体的结构等。吸液件310与转盘110上的承载位111a对应，例如，吸液件310在转盘110上的正投影可以落在承载位111a上，吸液件 310所处的绝对位置即为从反应器30中抽取废液的吸液工位。显而易见，吸液件310与吸液工位一一对应，两者数量相同。支架340包括搭接板341、顶推板342和支撑板343，支撑板343水平设置并位于转盘110的上方，在转轴120的轴向上，支撑板343与转盘110两者之间间隔而保持合理的间距。吸液件310 可以固定在支撑板343上。吸液件310的数量N(N＝2,3,4,5,6,7)与反应器30 的清洗阶数N相等。例如，反应器30每次清洗需要进行3阶清洗，则吸液件310 的数量为3个，三个吸液件310分别记为第一吸液件(或第一阶吸液件)、第二吸液件(或第二阶吸液件)和第三吸液件(或第三阶吸液件)；反应器30每次清洗需要进行4阶清洗，则吸液件310的数量为4个，四个吸液件310分别记为第一吸液件(或第一阶吸液件)、第二吸液件(或第二阶吸液件)、第三吸液件(或第三阶吸液件)和第四吸液件(或第四阶吸液件)。吸液件310和其对应的吸液位的数量可以为两个或大于四个等。顶推板342竖直设置，搭接板341 靠近底板320横向设置，顶推板342的上端与支撑板343连接，顶推板342的下端与搭接板341连接。

第一驱动器330包括丝杆电机331和第一导杆332，第一导杆332竖直设置且其下端固定在底板320上，第一导杆332的上端为自由端，第一导杆332穿设在搭接板341中，从而实现搭接板341与第一导杆332两者之间的滑动连接。顶推板342上开设有避位槽342a，该避位槽342a沿转轴120的轴向延伸，简而言之，即该避位槽342a沿竖直方向延伸，丝杆电机331的丝杆轴331a与搭接板341转动连接，同时，丝杆轴331a位于避位槽342a中并能够相对避位槽342a 运动，故避位槽342a为丝杆轴331a的运动提供了很好的避位空间。例如，当丝杆电机331的丝杆轴331a顺时针转动时，丝杆轴331a的旋转运动转化为搭接板341相对第一导杆332向上的滑动，同时，搭接板341带动顶推板342和支撑板343向上运动，进而使得吸液件310跟随支撑板343向上运动以退出反应器30中。当丝杆电机331的丝杆轴331a逆时针转动时，丝杆轴331a的旋转运动转化为搭接板341相对第一导杆332向下的滑动，同时，搭接板341带动顶推板342和支撑板343向下运动，进而使得吸液件310跟随支撑板343向下运动以伸入反应器30中抽取废液。

注液组件，用于向反应器中注入清洗液。在一些实施例中，注液组件200 包括注液件210和承载板220，承载板220水平设置并位于转盘110的上方，在转轴120的轴向上，承载板220与转盘110两者之间间隔而保持合理的间距。承载板220相对转盘110的位置可以固定不动，当然，承载板220也可以与吸液组件300的支架340连接，通过支架340的上下运动以带动承载板220上下运动。注液件210固定在承载板220上，可以为细长的注液针，还可以采用注液管或注液喷孔等能够注入液体的部件替代。注液件210与转盘110上的承载位111a对应，例如，注液件210的注液部分在转盘110上的正投影可以落在承载位111a上，注液件210所处的绝对位置即为向反应器30中注入清洗液的注液工位。注液件210的数量可以为一个，两个，当然，注液件210的数量还可以大于两个。需要特别说明的是，对应于同一个注液工位，不论在该注液工位对应的注液件有多少个注液出口，也不论该注液件包括几个针、管等，本实用新型都规定注液件数量为一个，即每个注液工位对应一个注液件。多个注液件对应多个工位，例如两个注液工位对应两个注液件。当注液件210在注液工位向反应器30中注入清洗液后，清洗液将对反应器30中的磁粒结合物进行清洗，以去除未结合在磁粒上的游离标记物和其它干扰杂质。

捕捉组件400，用于在每阶吸液前将所述反应器中的磁粒结合物收集至所述反应器的内侧壁上。在一些实施例中，捕捉组件400包括磁性件420和安装架 410，安装架410可以大致呈圆盘状，安装架410固定在转运组件100的轴套140 上，安装架410上设置有收容孔411，收容孔411开设在安装架410的侧周面上，收容孔411外侧周面的一部分沿安装架410的径向凹陷设定深度形成。收容孔 411的数量为多个，多个收容孔411沿安装架410的轴线可以均匀间隔排列。磁性件420可以为天然永磁体或电磁铁等，磁性件420与收容孔411的形状相适配并容置在该收容孔411中，磁性件420的外表面可以与安装架410的侧周面平齐。收容孔411、磁性件420所处的位置为收集工位，用于在每阶吸液前将所述反应器30中的磁粒结合物收集至所述反应器30的内侧壁上。当转盘110带动反应器30位于收集工位时，反应器30将位于磁性件420的磁力范围之内，在磁性件420所产生的磁吸力作用下，将反应器30中的磁粒结合物收集至反应器30的内侧壁上。

收集工位包括吸液工位。为了避免磁粒损失，每阶吸液件抽取废液时反应器内的磁粒结合物需要在磁力吸附下进行，因而每阶吸液工位需要安装磁性件 420，因而吸液工位同时也是收集工位，即收集工位包括吸液工位。收集工位的数量不少于吸液工位的数量。具体地，每阶清洗的收集工位可以与吸液工位一一对应，也可以多个收集工位对应一个吸液工位。当每阶清洗的收集工位与吸液工位一一对应时，在同一个工位完成反应器30内磁粒结合物的收集和反应器内废液的抽取；当每阶清洗的多个收集工位对应一个吸液工位时，反应器30内磁粒结合物在多个收集工位逐渐完成收集，在吸液工位(同时也是该阶清洗的最后一个收集工位)继续收集并完成废液抽取。

安装架410的侧周面还凹陷形成有沉槽412，沉槽412沿竖直方向延伸，沉槽412的上端贯穿安装架410的上表面，沉槽412的下端贯穿安装架410的下表面，沉槽412与注液件210所处的位置(即注液工位)相对应。

在一些实施例中，混匀组件500包括连接板510、驱动电机520、驱动轴530、和承载筒540。连接板510横向设置，吸液组件300的底板320上还设置有第二导杆550，第二导杆550竖直设置且其一端固定在底板320上并穿设在连接板 510中，第二导杆550的另一段穿过连接板510而形成自由端，使得第二导杆 550与连接板510滑动连接，连接板510能沿第二导杆550上下滑动。驱动电机 520放置在底板320上并与连接板510固定连接，驱动电机520与底板320两者并未形成固定连接关系，使得驱动电机520能承载在底板320上、或者驱动电机520远离底板320向上运动。在丝杆电机331带动搭接板341沿第一导杆332 上升的过程中，搭接板341将与连接板510相抵接，当搭接板341继续上升时，搭接板341将承载连接板510和驱动电机520一起沿第二导杆550上升。在丝杆电机331带动搭接板341沿第一导杆332下降的过程中，搭接板341将与连接板510相抵接以对连接板510形成支撑作用，连接板510和驱动电机520在重力的作用下沿第二导杆550向下运动，当驱动电机520与底板320相接触时，在底板320的限位作用下，连接板510和驱动电机520停止向下运动，此时，丝杆电机331还可以带动搭接板341沿第一导杆332继续下降直至搭接板341 与底板320相接触。搭接板341表面的一部分凹陷形成弯折连接的第一限位面 341a和第二限位面341b，例如第一限位面341a和第二限位面341b可以相互垂直，当搭接板341承载连接板510时，连接板510跟第一限位面341a和第二限位面341b相抵接，第一限位面341a和第二限位面341b对连接板510起到限位作用，防止整个混匀组件500在上下运动过程中产生振动，提高混匀组件500 运行的平稳性。

驱动轴530的下端与驱动电机520的输出轴连接，承载筒540固定在驱动轴530的上端，驱动轴530可以与承载筒540同轴设置，驱动电机520用于带动驱动轴530转动，进而使得承载筒540跟随驱动轴530转动。参阅图6，承载筒540上开设有混匀孔541，反应器30能与该混匀孔541配合，混匀孔541的中心轴线与驱动轴530的中心轴线相互平行，即混匀孔541与驱动轴530之间保持间距而存在一定的偏心度，在反应器30与混匀孔541配合后，当驱动轴530 带动承载筒540转动时，在偏心力的作用下，反应器30中包含磁粒结合物的悬浮液将产生偏心震荡，使得整个悬浮液处于很好的混匀状态。

需要混匀时，在丝杆电机331的作用下，可以带动搭接板341顶推连接板 510上升，进而使驱动电机520和承载筒540上升，同时，安装架410上开设的沉槽412能够为承载筒540的运动提供避位空间，防止安装架410对承载筒540 的运动构成干涉，当承载筒540上升到一定高度并与反应器30配合时，丝杆电机331停止工作。此时，驱动电机520通过驱动轴530带动承载筒540产生偏心振荡，使得反应器30中的清洗液形成紊流，在紊流的作用下，清洗液将对磁粒结合物产生有效清洗，从而尽可能的去除未结合在磁粒上的游离标记物和其它干扰杂质；再者，能够使得磁粒结合物均匀地分散在清洗液中。当反应器30 中的悬浮液混匀完毕后，丝杆电机331带动搭接板341向下运动，继而使整个混匀组件500向下运动，最终使得反应器30的底部完全脱离承载筒540上的混匀孔541，即反应器30从混匀孔541中完全退出；当转盘110需要带动反应器 30从该注液工位转移至吸液工位时，已脱离反应器30的承载筒540将不会对反应器30的转动产生干涉，从而实现反应器30从注液工位至吸液工位的顺利转移。

注液件210的数量少于吸液件310的数量。例如，吸液件310的数量为三个，注液件210的数量为一个，对应的，吸液工位的数量为三个，注液工位的数量为一个；吸液件310的数量为四个，注液件210的数量为两个，当然，吸液工位的数量为四个，注液工位的数量为两个。与传统吸液件310与注液件210 数量相等的设计相比较，上述实施例中注液件210的数量少于吸液件310的数量，使得注液件210的总数量相对减少，从而减少与每个注液件210连接的传输管和电磁阀等流体器件的数量，从而有利于缩减清洗装置10和免疫分析仪的整体结构，并降低两者的体积和制造成本，有利于清洗装置10和免疫分析仪的小型化设计；并且，注液件210的减少，也使得转盘110上与注液件210所对应的承载位111a相应减少，进而减少转盘110的体积，同样有助于清洗装置10 和免疫分析仪的小型化设计。同时，多个吸液件310能同时从多个反应器30中抽取废液，这样减少了磁粒结合物的总清洗时间，从而提高清洗装置10和免疫分析仪的清洗效率。

信号件600，用于向完成清洗的反应器30中注入信号试剂。在一些实施例中，信号件600设在注液组件200的承载板220上，信号件600可以为细长的针状结构。信号件600、注液件210和吸液件310三者均分别对应转盘110上不同的承载位111a，信号件600所在的绝对位置为信号注入工位，信号件600在信号注入工位向完成清洗的反应器30中注入信号试剂，以便后续对磁粒结合物进行光信号的测量。

为了将需要清洗的反应器30移入和清洗完成后的反应器30移出转运组件 100，转运组件100上还设置转移位，转运组件100可将反应器30在转移位、注液工位和吸液位工位之间转运。

由于清洗分离过程中注清洗液和抽取注入清洗液后的反应器内的废液的一一对应关系，吸液件310与注液件210数量相等是本领域的通用技术实现方式。本实用新型注液件210的数量少于吸液件310的数量，需要特别的流程和方法配合来实现。

同时参阅图1和图7，通过上述清洗装置10和免疫分析仪，可以形成如下清洗方法，即上述清洗装置10和免疫分析仪可以实施该清洗方法。以反应器完成其中一阶清洗为例，该清洗方法主要包括如下步骤：

S710，在注液工位和收集工位之间转运反应器30；

S720，于注液工位向反应器30中注入清洗液；

S730，于收集工位将反应器30中的悬浮的磁粒结合物收集至反应器30的内侧壁上，并于吸液工位从已注入清洗液的反应器30中抽取废液；

其中，注液工位的数量小于吸液工位的数量，在同一注液工位依次先后向至少两个反应器30中注入清洗液，在全部吸液工位分别同时从多个反应器30 中抽取废液。

在一些实施例中，将注液工位和吸液工位沿转盘110上的同一圆周的周向间隔排列，使转盘110带动反应器30在注液工位和吸液工位之间做圆周运动。吸液工位的数量等于反应器30清洗一次清洗的清洗阶数。注液工位的数量可以为一个，吸液工位的数量为三个，三个吸液工位分别记为第一吸液工位、第二吸液工位和第三吸液工位，第一吸液件310位于第一吸液工位，第二吸液件310 位于第二吸液工位，第三吸液件310位于第三吸液工位；注液工位的数量可以为两个，注液工位分别记为第一注液工位、第二注液工位，吸液工位的数量为四个，四个吸液工位分别记为第一吸液工位、第二吸液工位、第三吸液工位和第四吸液工位，第一吸液件310位于第一吸液工位，第二吸液件310位于第二吸液工位，第三吸液件310位于第三吸液工位，第四吸液件310位于第四吸液工位。

对于单个的同一反应器30，为确保具有良好的清洗效果，一个完整的清洗过程包括至少三阶清洗，即三次注入清洗液和抽取废液，下面以进行三阶清洗的情形对单个反应器30的清洗进行说明：

第一步，将反应器30移入至转盘110，可以对反应器30进行预收集和预吸液，即先将反应器30中的未结合反应物抽吸，使得反应器30中只剩下磁粒结合物和未清洗干净的残留物，然后转盘110仅盛放有磁粒结合物的反应器30转动至注液工位。当然，也可以不对反应器30进行预收集和预吸液，而将含有反应物的反应器30直接转运至注液工位。当反应器30抵达至注液工位时，通过注液件210向反应器30中注入清洗液以便对磁粒结合物进行清洗，以去除未结合在磁粒上的游离标记物和其它干扰杂质。向反应器30中进行第一阶注液时或注液后，可以对反应器30中含有磁粒结合物的悬浮液混匀，也可以不混匀。混匀时，使混匀组件500向上运动，以使反应器30与承载筒540上的混匀孔541 配合，驱动电机520通过驱动轴530带动承载筒540转动，反应器30中的悬浮液产生偏心振荡而混匀，磁粒结合物均匀悬浮在清洗液中，在偏心振动的过程中，清洗液对磁粒结合物形成很好的清洗效果。混匀完毕后，混匀组件500向下运动，反应器30完全脱离承载筒540上的混匀孔541，以便转盘110带动反应器30离开该注液工位。至此，反应器30已完成第一次注入清洗液，即完成第一阶注入清洗液。

第二步，转盘110将注入清洗液的反应器30从注液工位转移至收集工位或第一吸液工位，当反应器30位于收集工位时，磁粒结合物被磁性件420逐渐收集至反应器30的内侧壁上。当反应器30内的磁粒结合物收集完成时，反应器 30位于第一吸液工位。收集工位与第一吸液工位相等即重合时，转盘110不转动，收集工位多于吸液工位时，转盘转动将反应器30转运至第一吸液工位。丝杆电机331驱动支架340带动支撑板343向下运动，使得吸液件310跟随支撑板343向下运动以伸入至反应器30中，吸液件310抽取反应器30中因磁粒结合物清洗而形成的全部废液，使得反应器30中仅剩下磁粒结合物和未清洗干净的残留物。反应器30抽取废液完毕后，丝杆电机331驱动支架340带动支撑板 343向上运动，吸液件310跟随支撑板343向上运动以从反应器30中退出，以便转盘110带动反应器30离开该吸液工位。至此，反应器30已完成第一次抽取废液，即完成第一阶抽取废液。

第三步，转盘110带动反应器30从吸液工位转运至注液工位，当反应器30 抵达至注液工位时，重复上述第一步中的相关操作。至此，反应器30已完成第二次注入清洗液，即完成第二阶注入清洗液。反应器30进行第二阶注入清洗液时或后通常进行混匀。

第四步，转盘110带动反应器30从注液工位转移至收集工位或第二吸液工位，当反应器30抵达至吸液工位时，重复上述第二步中的相关操作。至此，反应器30已完成第二次抽取废液，即完成第二阶次抽取废液。

第五步，转盘110带动反应器30从吸液工位转移至注液工位，当反应器30 抵达至注液工位时，再重复上述第一步中的相关操作。至此，反应器30已完成第三次注入清洗液，即完成第三阶注入清洗液。反应器30进行第三阶注入清洗液时或后通常进行混匀。

第六步，转盘110带动反应器30从注液工位转移至收集工位或第三吸液工位，当反应器30抵达至吸液工位时，再重复上述第二步中的相关操作。至此，反应器30已完成第三次抽取废液，即完成第三阶抽取废液。

对于单个的同一反应器30，当完成一次完整的清洗过程后，即同一反应器 30完成全部阶次的注入清洗液、收集磁粒结合物和抽取废液后，向所述反应器 30中加入信号试剂，以便后续对磁粒结合物进行光信号的测量。在一个实施例中，转盘110带动反应器30从吸液工位转移至信号注入工位，当反应器30抵达至信号注入工位时，向所述反应器30中加入信号试剂。最后将加入信号试剂的反应器30移出转盘110。当然，也可将完成清洗仅盛放有磁粒结合物的反应器30直接移出转盘110，在转盘110外完成信号试剂的加注。

当需要进行三阶以上的清洗时，仍可以按照上述操作方式对单个的同一反应器30进行三阶以上的清洗。

对于单个的同一反应器30，该同一反应器30的至少两次注入清洗液在相同的注液工位完成。当注液工位为两个时，例如，在注入清洗液的总次数为三次的情况下，其中两个阶次的注入清洗液在其中一个注液工位完成，另外一个阶次注入清洗液在另外一个注液工位完成。当注液工位仅为一个，即注液件210 仅为一个时，同一反应器30所有阶次的注液清洗液均于该注液工位完成，例如，在注入清洗液的总次数为三次的情况下，第一阶次注入清洗液、第二阶次注入清洗液和第三阶次注入清洗液均于该注液工位完成。

对于单个的同一反应器30，分别于不同的吸液工位完成不同阶次的吸液。例如，抽取废液的总次数为三次时，吸液工位的总数量同样为三个，在第一吸液工位通过第一吸液件完成第一阶次抽取废液，在第二吸液工位通过第二吸液件完成第二阶次抽取废液，在第三吸液工位通过第三吸液件完成第三阶次抽取废液。

在一些实施例中，可以对转盘110上的多个反应器30同时进行清洗，下面以一个注液工位、多个反应器30进行三阶清洗的情形进行说明：

第一步，转盘110第一转运，将第一个反应器转运至注液工位，注液件210 向该反应器中注入清洗液。

第二步，转盘110第二转运，将第二个反应器转运至注液工位，注液件210 向该第二个反应器中注入清洗液。

第三步，转盘110第三转运，将第三个反应器转运至注液工位，注液件210 向该第三个反应器中注入清洗液。

第四步，转盘110第四转运，将第一个反应器、第二个反应器和第三个反应器转运至不同的收集工位或吸液工位，三个吸液件310同时于不同的吸液工位分别对三个反应器30进行抽取废液。例如，第一吸液件对第一个反应器抽取废液，第二吸液件对第二个反应器抽取废液，第三吸液件对第三个反应器抽取废液，并且第一吸液件、第二吸液件和第三吸液件同时抽取废液。

第五步，不断将反应器30转移至注液工位，重复上述第一步到第四步的操作，将已完成全部阶次清洗的反应器30陆续移出转盘110。

在一些实施例中，多个反应器30同时在全部吸液工位进行抽取废液的阶次不同。例如吸液工位为三个时，分别记为第一吸液工位、第二吸液工位和第三吸液工位，位于第一吸液工位处的反应器30刚好处于第一阶次抽取废液，位于第二吸液工位处的反应器30刚好处于第二阶次抽取废液，位于第三吸液工位处的反应器30刚好处于第三阶次抽取废液。由于多个吸液工位处的吸液件310能同时进行抽取废液，能节省各反应器30之间的等待时间，从而提高清洗效率。

在一些实施例中，每阶清洗时，至少两次转运，将至少两个反应器30先后转运至相同的注液工位进行不同阶次的注液。至少两个反应器30在相同的注液工位依次先后完成不同阶次的注入清洗液。例如，第一个反应器在注液工位完成第一阶次注入清洗液后，接着第二个反应器在该注液工位完成第二阶次注入清洗液，再接着第三个反应器在该注液工位完成第三阶次注入清洗液。

本实用新型的清洗方法，需要N阶清洗的N个反应器在N个吸液工位并行完成不同阶次的吸液，其中至少两个反应器在相同的注液工位依次先后完成不同阶次的注入清洗液，不仅提升了清洗的吸液效率，也有效降低了注液实现的结构体积和成本，减少了注液工位和注液件的数量以及缩减了转运盘的尺寸，另一方面也减少了不同阶注液量准确度的差异，从而有利于结构紧凑、测试效率高、性能好的清洗装置和免疫分析仪的实现。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (12)

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

转运组件，包括用于承载反应器并可转动的转盘，所述转盘沿其周向间隔设置有多个用于承载反应器的贯穿孔，所述贯穿孔贯穿所述转盘的上表面和下表面，所述反应器的底部暴露于所述贯穿孔之外；

清洗分离机构，包括用于向反应器中注入清洗液的注液件及用于对已注入清洗液的反应器抽取废液的吸液件；及

捕捉组件，包括与所述反应器的底部相对设置的磁性件，所述磁性件用于将反应器中的磁粒结合物收集在反应器内侧壁上。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括混匀组件，所述混匀组件包括承载筒，所述承载筒能够靠近或远离所述转盘运动，以使所述承载筒收容或脱离所述反应器的底部。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述捕捉组件还包括与所述转盘间隔设置的安装架，所述安装架的侧周面上开设有收容孔，所述磁性件容置在所述收容孔中。

4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述磁性件与所述收容孔的形状相适配，所述磁性件的外表面与所述安装架的侧周面平齐。

5.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述安装架的侧周面还凹陷形成有沉槽，所述沉槽的上端贯穿所述安装架的上表面，所述沉槽的下端贯穿所述安装架的下表面，所述沉槽为所述混匀组件的运动提供避位空间。

6.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述混匀组件还包括连接板、驱动电机和驱动轴，所述驱动轴穿设在所述连接板中并与所述驱动电机的输出轴连接，所述承载筒固定在所述驱动轴上，所述驱动电机与所述连接板固定连接，所述驱动电机跟随所述连接板靠近或远离所述转盘运动。

7.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，所述承载筒上开设有能够与所述反应器配合的混匀孔，所述混匀孔的中心轴线与所述驱动轴的中心轴线相互平行。

8.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗分离机构还包括底板、支架和第一驱动器，所述吸液件安装在所述支架上，所述第一驱动器设置在所述底板上并与所述支架连接，所述第一驱动器用于驱动所述支架运动、以使所述吸液件伸入或退出所述反应器，所述底板能够承载所述混匀组件，所述支架能够带动所述混匀组件靠近或远离所述转盘运动。

9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述支架包括用于带动所述混匀组件运动的搭接板，所述搭接板表面的一部分凹陷形成弯折连接的第一限位面和第二限位面，所述混匀组件能够同时跟所述第一限位面和所述第二限位面相抵接。

10.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，多个所述贯穿孔沿所述转盘的周向间隔排列，所述贯穿孔数量至少为五个。

11.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述贯穿孔的横截面为圆形。

12.根据权利要求11所述的清洗装置，其特征在于，所述贯穿孔为台阶孔孔，所述台阶孔包括同轴设置的大孔和小孔，所述大孔的直径大于所述小孔的直径，所述大孔的底壁形成整个所述台阶孔的台阶面，所述台阶面用于与所述反应器上的凸环相抵接。

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