CN211891336U - 一种新型无滴釉喷釉柜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种新型无滴釉喷釉柜,涉及陶瓷喷釉领域,包括柜体、喷头和挡釉板;喷头设于柜体的顶部,挡釉板分别设于柜体内的下部的两侧。本实用新型根据上述内容提出一种新型无滴釉喷釉柜,解决了釉料从侧壁反弹的问题,本实用新型用于陶瓷喷釉生产工序。
Description
技术领域
本实用新型涉及陶瓷喷釉领域,尤其涉及一种新型无滴釉喷釉柜。
背景技术
无机非金属主要是由氧化物、碳化物、氮化物、卤素化合物、硼化物以及硅酸盐、铝酸盐、磷酸盐、硼酸盐等物质组成的材料,常见的有陶瓷与玻璃,其中,陶瓷在生产过程中,甩釉工艺是一种新兴的施釉方法,比传统施釉方法有许多优点,因此,也被大家广泛的使用。
喷釉是现代陶瓷施釉技法之一,用喷枪或喷雾器使釉浆雾化喷到坯体表面。在日常的陶瓷喷釉过程中,喷出的釉料在碰到侧壁时会反弹到砖面,从而严重影响产品的质量。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出一种新型无滴釉喷釉柜,解决了釉料从侧壁反弹的问题。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种新型无滴釉喷釉柜,包括柜体、喷头和挡釉板;所述喷头设于所述柜体的顶部,所述挡釉板分别设于所述柜体内的下部的两侧。
进一步,所述柜体包括左顶板和右顶板,所述左顶板和右顶板分别位于所述柜体的上部,所述左顶板和所述右顶板均为平面板,所述左顶板和右顶板均向内倾斜。
进一步,所述左顶板的顶边和右顶板的顶边的高度差为15mm,所述柜体的顶部设有开口,所述喷头设于所述开口。
进一步,所述柜体还包括回收槽,所述回收槽为锥形的,所述回收槽位于所述柜体的底部。
进一步,还包括排釉口,所述排釉口设于所述回收槽的底部。
进一步,所述喷头位于两所述排釉口之间的上方。
进一步,还包括排釉管,所述排釉管位于所述排釉口的下方。
进一步,所述挡釉板包括挡釉网和网架,所述挡釉网固定于所述网架。
进一步,所述挡釉网和所述网架均采用不锈钢制作。
进一步,所述挡釉网的网格为10-15目。
本实用新型的有益效果为:
1、采用挡釉板,能将滴落后飞溅的釉滴挡住,避免飞溅到陶瓷表面从而影响产品的质量,达到提高产品质量的效果;
2、采用左顶板与右顶板的高度差为15mm,实现观察釉柜内部的喷釉情况,达到提高喷釉质量的效果;
3、采用平面板设计,实现提高釉料的流动性;
4、通过排釉孔和排釉管,有利于釉柜的清洗,达到釉料可回收利用的效果。
附图说明
图1是本实用新型其中一个实施例的结构示意图;
图2是本实用新型其中一个实施例的喷釉的结构示意图;
图3是本实用新型其中一个实施例的挡釉板的结构示意图;
图4是本实用新型其中一个实施例的俯视结构示意图;
其中:柜体1、左顶板11、右顶板12、开口13、回收槽14、内侧壁15、喷头2、挡釉板3、挡釉网31、网架32、排釉口41、排釉管42、上部a、下部b、底部c。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“内侧”、“外侧”、“内端”、“外端”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
如图1-4所示,本实施例的一种新型无滴釉喷釉柜,包括柜体1、喷头2和挡釉板3;
所述喷头2设于所述柜体1的顶部,所述挡釉板3分别设于所述柜体1内的下部的两侧。
在本实施例中,所述喷头2的数量为四,所述挡釉板3的数量为二,且两所述挡釉板3为竖向设置;所述一种新型无滴釉喷釉柜开始工作时,所述柜体1顶部的喷头2开始喷洒釉料,所述釉料覆盖在陶瓷表面,少部分釉料会飞溅在所述柜体1上部的内壁形成釉滴,然后釉滴沿着所述柜体1上部的内壁,从所述柜体1上部的内壁流至所述柜体1的两侧,所述挡釉板3能将滴落后飞溅的釉滴挡住,避免飞溅到陶瓷表面从而影响产品的质量,达到提高产品质量的效果。
如图1-2所示,所述柜体1包括左顶板11和右顶板12,所述左顶板11和右顶板12分别位于所述柜体1的上部,所述左顶板11和所述右顶板12均为平面板,所述左顶板11和右顶板12均向内倾斜。
在本实施例中,所述左顶板11和所述右顶板12均为平面板,与传统的弧形顶板相比,弧形的顶板有一个缺陷是釉滴容易积在壁上,当釉滴不断增大时就会从喷釉柜上滴下来,滴到工件表面,造成釉面缺陷,釉柜上部结构改成平面板形后,不易积釉,釉只会沿着壁面流到釉柜底部,不会有釉滴到砖面,达到提高产品质量的效果。
如图1-2所示,所述左顶板11的顶边和右顶板12的顶边的高度差为15mm,所述柜体1的顶部设有开口13,所述喷头2设于所述开口13。
在本实施例中,所述喷头2的数量为四,所述喷头2穿过所述开口13设于所述左顶板11和所述右顶板12之间;便于利用空气对流,将釉料喷洒到陶瓷工件上。
在本实施例中,所述右顶板12比左顶板11高15mm,所述左顶板11与右顶板12之间的空隙为开口13,设置所述开口13有利于观察釉柜内部的喷釉情况,以便出现不良状况时可以马上知晓,达到提高喷釉质量的效果。
经试验,所述开口13设为15mm时最合适,因为如果高度相差太大,釉柜有效空间利用率降低,釉柜内的釉料容易飘出来,造成釉料浪费;如果高度相差太小,起不到观察的作用,不便于人员观察釉柜内的喷釉情况。
如图2和图4所示,所述柜体1还包括回收槽14,所述回收槽14为锥形的,所述回收槽14位于所述柜体1的底部。
在本实施例中,所述回收槽14的数量为二;因为所述收集槽14为锥形的,釉料从所述柜体1的内侧壁15流向所述柜体1的底部时,便于釉料流到所述排釉口41,有利于釉料的流动与回收,以免积釉严重,达到提高釉料流动性的效果。
如图4所示,还包括排釉口41,所述排釉口41设于所述回收槽14的底部。
在本实施例中,所述排釉口41的数量为二;所述釉料的产生除了从所述内侧壁15流到所述柜体1的底部外,还有从所述喷头2喷洒下来的釉料,釉料通过所述排釉孔41可将釉料回收利用,降低生产成本;而且釉柜需要进行定期清洗,以免釉料凝固沾在所述柜体1的内壁,所述排釉口41和排釉管42有利于方便清洗所述釉柜时清洁水的排出。
如图4所示,所述喷头2位于两所述排釉口41之间的上方。
在本实施例中,所述喷头2位于两所述排釉口41之间的上方,以免所述喷头2喷出的釉料有很大一部份会在气流对流的作用下飘出喷釉柜外,造成釉料浪费,达到降低生产成本的效果。
如图2和图4所示,还包括排釉管42,所述排釉管42位于所述排釉口41的下方。
所述釉料从所述柜体1底部的排釉口41流到所述排釉管42,因为在本实施例中,所述排釉口41的数量为二,需要利用所述排釉管42将两所述排釉口41流出的釉料收集,然后统一回收。
如图3所示,所述挡釉板3包括挡釉网31和网架32,所述挡釉网31固定于所述网架32。
在本实施例中,所述挡釉网31的数量为二,所述网架32的数量为二,每个所述网加32内对应设有一个所述所述挡釉网31,所述挡釉网31用焊接或者插接的方式固定于所述网架32内,所述挡釉网31采用过滤网的设计,无需滤纸和滤布,从而大大降低过滤的成本。
如图3所示,所述挡釉网31和所述网架32均采用不锈钢制作。
在本实施例中,所述釉料会长期附着在所述挡釉网31和所述网架32上,运用不锈钢材质制作,有利于所述所述挡釉网31和所述网架32耐腐蚀性和耐磨损性,有利于提高所述挡釉网31和所述网架32的使用寿命。
如图3所示,所述挡釉网31的网格为10-15目。
在本实施例中,经试验,所述挡釉网31的网格为10-15目时最合适,如果所述挡釉网31的网孔太疏起不到挡釉的作用,所述内侧壁15反弹的釉滴还是会弹到工件上;如果所述挡釉网31的网孔太密会造成本身会反弹釉滴到砖面。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,本领域的普通技术人员可以理解:在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。
Claims (10)
1.一种新型无滴釉喷釉柜,包括柜体、喷头和挡釉板;其特征在于:所述喷头设于所述柜体的顶部,所述挡釉板分别设于所述柜体内的下部的两侧。
2.根据权利要求1所述的一种新型无滴釉喷釉柜,其特征在于:所述柜体包括左顶板和右顶板,所述左顶板和右顶板分别位于所述柜体的上部,所述左顶板和所述右顶板均为平面板,所述左顶板和右顶板均向内倾斜。
3.根据权利要求2所述的一种新型无滴釉喷釉柜,其特征在于:所述左顶板的顶边和右顶板的顶边的高度差为15mm,所述柜体的顶部设有开口,所述喷头设于所述开口。
4.根据权利要求1所述的一种新型无滴釉喷釉柜,其特征在于:所述柜体还包括回收槽,所述回收槽为锥形的,所述回收槽位于所述柜体的底部。
5.根据权利要求4所述的一种新型无滴釉喷釉柜,其特征在于:还包括排釉口,所述排釉口设于所述回收槽的底部。
6.根据权利要求5所述的一种新型无滴釉喷釉柜,其特征在于:所述喷头位于两所述排釉口之间的上方。
7.根据权利要求5所述的一种新型无滴釉喷釉柜,其特征在于:还包括排釉管,所述排釉管位于所述排釉口的下方。
8.根据权利要求1所述的一种新型无滴釉喷釉柜,其特征在于:所述挡釉板包括挡釉网和网架,所述挡釉网固定于所述网架。
9.根据权利要求8所述的一种新型无滴釉喷釉柜,其特征在于:所述挡釉网和所述网架均采用不锈钢制作。
10.根据权利要求8所述的一种新型无滴釉喷釉柜,其特征在于:所述挡釉网的网格为10-15目。
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- 2020-08-11 CN CN202021648366.7U patent/CN211891336U/zh active Active
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