CN211591601U - 一种纹理玻璃盖板 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种纹理玻璃盖板，一种纹理玻璃盖板，包括玻璃盖板，所述玻璃盖板上依次设有第一UV转印纹理层、第一电镀增亮膜层、膜片。本实用新型的结构设计合理，通过一层设计纹理压印在玻璃盖板的非客户面上，再将具有另一种纹理的装饰膜片贴合在所述玻璃盖板上，双层纹理产生不同干涉效果；通过将纹理直接压印在玻璃盖板上，没有OCA和PET的透过衰减，纹理直接透过玻璃盖板呈现，更通透，立体感更强；通过采用在玻璃盖板压印小于20微米的纹理，使装饰玻璃盖板轻薄化，且具有特殊装饰效果。

Description

一种纹理玻璃盖板

技术领域

本实用新型涉及玻璃盖板表面处理技术领域，尤其涉及一种纹理玻璃盖板。

背景技术

目前，随着5G时代来临，玻璃材料具有高透光性、高硬度、高耐磨性，良好的热稳定性及化学稳定性，低的电磁波传输衰减性能等优势，将成为智能终端行业的主要趋势，玻璃机身逐渐成为主流设计，消费者更加追求手机的外观和使用感受。

现有的玻璃盖板纹理装饰工艺可以采用蚀刻纹理、膜片装饰等方式实现，但传统的玻璃纹理蚀刻需黄光、HF溶液蚀刻等工艺实现，对环境不友好，且蚀刻纹理图案线条一般为微米级别，图形不连续，蚀刻速率较难控制等局限性，针对手机盖板精细纹理，目前多采用膜片装饰工艺，采用膜片装饰具有美观，在光线配合下光影流动等优势，并具有防爆膜功能。现有的膜片纹理通过转印实现，但纹理单一，可以是微米级纹理、纳米级纹理等，膜片外观光影效果单一有限，由于玻璃盖板的膜片装饰工艺局限，膜片上的纹理只有一层，可以是微米级纹理，也可以是纳米级纹理，因此现有的玻璃盖板的纹理单一有限。因此设计一种具有多样化纹理的玻璃盖板已经成为迫在眉睫的问题，但这对于相关设计人员来说是一大挑战。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种纹理玻璃盖板，以解决现有玻璃盖板纹理单一有限的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案是提供一种纹理玻璃盖板，包括玻璃盖板，所述玻璃盖板上依次设有第一UV转印纹理层、第一电镀增亮膜层、膜片。

进一步地，所述第一UV转印纹理层的厚度小于20微米。

进一步地，所述第一电镀增亮膜层包括SiO₂层。

进一步地，所述第一电镀增亮膜层的厚度为0.1微米～1微米。

进一步地，所述膜片包括基材膜层，所述基材膜层上依次设有第二UV转印纹理层、第二电镀增亮膜层、油墨层，所述基材膜层下设有OCA胶层。

进一步地，所述基材膜层包括PET膜层。

进一步地，所述第二UV转印纹理层的厚度小于20微米。

进一步地，所述第二电镀增亮膜层包括SiO₂层。

进一步地，所述第二电镀增亮膜层的厚度为0.1微米～1微米。

进一步地，所述油墨层的厚度为10微米～50微米。

综上所述，运用本实用新型的技术方案，具有如下的有益效果：本实用新型的结构设计合理，通过一层设计纹理压印在玻璃盖板的非客户面上，再将具有另一种纹理的装饰膜片贴合在所述玻璃盖板上，双层纹理产生不同干涉效果；通过将纹理直接压印在玻璃盖板上，没有OCA和PET的透过衰减，纹理直接透过玻璃盖板呈现，更通透，立体感更强；通过采用在玻璃盖板压印小于20微米的纹理，使装饰玻璃盖板轻薄化，且具有特殊装饰效果。

附图说明

图1是本实用新型提供一种纹理玻璃盖板的结构示意图；

附图标记说明：1、玻璃盖板，2、第一UV转印纹理层，3、第一电镀增亮膜层，4、OCA胶层，5、基材膜层，6、第二UV转印纹理层，7、第二电镀增亮膜层，8、油墨层。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，但并不构成对本实用新型保护范围的限制。

参见图1，本实施例提供一种纹理玻璃盖板，包括玻璃盖板1，玻璃盖板1上依次设有第一UV转印纹理层2、第一电镀增亮膜层3、膜片。第一UV转印纹理层2的厚度小于20微米，第一电镀增亮膜层3包括SiO₂层，第一电镀增亮膜层3的厚度为0.1微米～1微米。当然，第一电镀增亮膜层3也可以用TiO_X层等具有同等功能的膜层来替换SiO₂层，这也能实现相同的功能。

具体地，膜片包括基材膜层5，基材膜层5上依次设有第二UV转印纹理层6、第二电镀增亮膜层7、油墨层8，基材膜层5下设有OCA胶层4。基材膜层5包括PET膜层，当然，基材膜层5也可以用PC等具有同等功能的膜层来替换PET，这也能实现相同的功能。第二UV转印纹理层6的厚度小于20微米，第二电镀增亮膜层7包括SiO₂层，第二电镀增亮膜层7的厚度为0.1微米～1微米，当然，第二电镀增亮膜层7也可以用TiO_X层等具有同等功能的膜层来替换SiO₂层，这也能实现相同的功能。油墨层8的厚度为10微米～50微米。

实际操作时：步骤一：采用UV压印工艺将模具纹理转印在玻璃盖板1上，纹理高度小于20微米，纹理可以是纳米级纹理，也可以是微米级纹理；步骤二：将步骤一中的玻璃盖板1进行PVD镀膜，主要电镀增亮膜，通过真空喷镀金属氧化物而形成，金属氧化物可以SiO2、TiOx等，厚度在0.1微米～1微米，使其纹理更加炫彩，景深感更好；步骤三：采用UV压印工艺将模具纹理转印在透明膜片上，纹理高度小于20微米，纹理可以是纳米级纹理，也可以是微米级纹理；步骤四：将步骤三中的透明膜片进行PVD镀膜，通过真空喷镀金属或金属氧化物而形成，所喷涂金属可以是铝、钛、锆、铬等金属，金属氧化物可以是氧化物、碳化物等，厚度在0.1微米～1微米；步骤五：将步骤四中膜片进行盖底，盖底油墨颜色可以是黑色、白色、金色等，油墨厚度为10微米～50微米；步骤六：将步骤五中的膜片镭切成玻璃盖板1外形大小；步骤七：将步骤六中的膜片与步骤二中的玻璃盖板1贴合。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

Claims (9)

1.一种纹理玻璃盖板，包括玻璃盖板（1），其特征在于：所述玻璃盖板（1）上依次设有第一UV转印纹理层（2）、第一电镀增亮膜层（3）、膜片；所述第一电镀增亮膜层（3）的厚度为0.1微米～1微米。

2.根据权利要求1所述一种纹理玻璃盖板，其特征在于：所述第一UV转印纹理层（2）的厚度小于20微米。

3.根据权利要求1或2所述一种纹理玻璃盖板，其特征在于：所述第一电镀增亮膜层（3）包括SiO2层。

4.根据权利要求1所述一种纹理玻璃盖板，其特征在于：所述膜片包括基材膜层（5），所述基材膜层（5）上依次设有第二UV转印纹理层（6）、第二电镀增亮膜层（7）、油墨层（8），所述基材膜层（5）下设有OCA胶层（4）。

5.根据权利要求4所述一种纹理玻璃盖板，其特征在于：所述基材膜层（5）包括PET膜层。

6.根据权利要求5所述一种纹理玻璃盖板，其特征在于：所述第二UV转印纹理层（6）的厚度小于20微米。

7.根据权利要求5或6所述一种纹理玻璃盖板，其特征在于：所述第二电镀增亮膜层（7）包括SiO2层。

8.根据权利要求7所述一种纹理玻璃盖板，其特征在于：所述第二电镀增亮膜层（7）的厚度为0.1微米～1微米。

9.根据权利要求8所述一种纹理玻璃盖板，其特征在于：所述油墨层（8）的厚度为10微米～50微米。

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