CN211310863U - 一种多晶硅还原炉及其视镜输氢孔结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种视镜输氢孔结构，包括缓冲腔，所述缓冲腔为半圆结构，且该半圆结构的开口朝向底盘，所述缓冲腔的腔壁上设置有用于连通炉筒内部和所述缓冲腔的输氢孔，所述缓冲腔上还设置有用于连通氢气源的进气口。本实用新型中的缓冲腔为上半圆结构，因此缓冲腔的底部并不存在凹槽结构，那么在对炉筒进行清洗的过程中，缓冲腔的底部就不会出现积水，那么也就避免了污染硅芯，确保了产品质量。另外，还可以将输氢孔设置为朝向视镜的中心轴线的倾斜孔，相较于垂直孔，倾斜布置的输氢孔能够避免在视镜的中心轴线处形成负压，从而避免了硅粉被吸附到视镜上。本实用新型还公开了一种多晶硅还原炉。

Description

一种多晶硅还原炉及其视镜输氢孔结构

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产领域，更具体地说，涉及一种多晶硅还原炉及其视镜输氢孔结构。

背景技术

多晶硅还原炉中的视镜设置在炉筒上，便于作业人员通过视镜观察炉筒内部的反应情况。通常情况下，围绕视镜设置有一圈输氢孔，通过输氢孔向炉筒内部吹氢气，以防止炉筒内的硅粉附着在镜片上。所述一圈输氢孔设置在缓冲腔的腔壁上，输氢孔用于连通缓冲腔和炉筒内部。缓冲腔上还设置有用于连通氢气源的进气口。缓冲腔为竖立的圆环状。视镜贯穿缓冲腔。

但是，由于缓冲腔的底部为凹槽状，在清洗炉筒的过程中，缓冲腔的底部容易出现积水，如果在生产的过程中积水通过输氢孔进入到炉筒内，那么积水会污染硅芯，从而影响产品质量。

因此，如何避免缓冲腔的底部积水，从而避免污染硅芯，确保产品质量，是本领域技术人员亟待解决的关键性问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种视镜输氢孔结构，该视镜输氢孔结构能够避免缓冲腔的底部积水，从而避免污染硅芯，确保产品质量。为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种视镜输氢孔结构，包括缓冲腔，所述缓冲腔为半圆结构，且该半圆结构的开口朝向底盘，所述缓冲腔的腔壁上设置有用于连通炉筒内部和所述缓冲腔的输氢孔，所述缓冲腔上还设置有用于连通氢气源的进气口。

优选地，所述输氢孔为沿着所述缓冲腔的半圆结构均匀分布的多个。

优选地，视镜贯穿所述缓冲腔，多个所述输氢孔围绕所述视镜分布。

优选地，所述视镜的上半部贯穿所述缓冲腔。

优选地，所述输氢孔为倾斜孔，且朝向所述视镜的中心轴线处倾斜。

优选地，所述缓冲腔和所述输氢孔与炉筒一体化铸造成型。

本实用新型还公开了一种多晶硅还原炉，包括视镜输氢孔结构，所述视镜输氢孔结构为上述任意一种视镜输氢孔结构。

从上述技术方案可以看出，本实用新型中的缓冲腔为上半圆结构，因此缓冲腔的底部并不存在凹槽结构，那么在对炉筒进行清洗的过程中，缓冲腔的底部就不会出现积水，那么也就避免了污染硅芯，确保了产品质量。另外，还可以将输氢孔设置为朝向视镜的中心轴线的倾斜孔，相较于垂直孔，倾斜布置的输氢孔能够避免在视镜的中心轴线处形成负压，从而避免了硅粉被吸附到视镜上。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的方案，下面将对实施例中描述所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一具体实施例提供的视镜输氢孔结构的主视图；

图2为本实用新型一具体实施例提供的视镜输氢孔结构的侧视图；

图3为本实用新型一具体实施例提供的输氢孔的结构示意图。

其中，1为缓冲腔、2为输氢孔、3为视镜。

具体实施方式

本实用新型公开了一种视镜输氢孔结构，该视镜输氢孔结构能够避免缓冲腔的底部积水，从而避免污染硅芯，确保产品质量。

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参考附图1和附图2，附图1为本实用新型一具体实施例提供的视镜输氢孔结构的主视图；附图2为本实用新型一具体实施例提供的视镜输氢孔结构的侧视图。视镜输氢孔结构包括缓冲腔1和输氢孔2。特别地，缓冲腔1为半圆结构，且为上半圆结构。此处的“上”是指多晶硅还原炉处于正常作业状态时的“上”。还可以理解为缓冲腔1的半圆结构的开口朝向底盘。

输氢孔2设置在缓冲腔1的腔壁上。输氢孔2用于连通缓冲腔1和炉筒内部。缓冲腔1上还设置有进气口，该进气口用于连通氢气源。氢气源中的氢气首先进入到缓冲腔1中，之后再通过输氢孔2进入到炉筒内部。

本实用新型中的缓冲腔1为上半圆结构，因此缓冲腔1的底部并不存在凹槽结构，那么在对炉筒进行清洗的过程中，缓冲腔1的底部就不会出现积水，那么也就避免了积水进入到炉筒中污染硅芯，从而确保了产品质量。

进一步地，输氢孔2为多个，多个输氢孔2沿着缓冲腔1的半圆结构均匀分布。为了确保氢气的进气量，可以适当地将输氢孔2的直径设置的大一些。

进一步地，视镜3贯穿缓冲腔1，多个输氢孔2围绕视镜3分布。更进一步地，为了便于输氢孔2的设置，限定视镜3的上半部贯穿缓冲腔1，视镜3的下半部直接贯穿炉筒的筒壁。在此，对视镜3的上半部和下半部作出如下解释：如附图3所示，视镜3为水平布置，过视镜3直径的水平面将视镜3分为上下两部分，上部分即为视镜3的上半部，下部分即为视镜3的下半部。

在现有技术中输氢孔2为成水平布置的水平孔，那么氢气通过输氢孔2垂直吹入到炉筒内，而输氢孔2为围绕视镜3布置的多个，那么在视镜3的中心轴处会形成负压，从而会使硅粉吸附在视镜3上。而本申请将输氢孔2设置为倾斜孔，且该倾斜孔朝向视镜3的中心轴线处倾斜。如此，便避免了负压的形成，那么也就避免了硅粉被吸附在视镜3上。

进一步地，本申请中的缓冲腔1和输氢孔2随炉筒一体化铸造成型。采用铸造的方式加工方便，且适合批量生产。

本实用新型还公开了一种多晶硅还原炉，包括视镜输氢孔结构。特别地，该视镜输氢孔结构为上述任意一种视镜输氢孔结构。上述视镜输氢孔结构具有上述优点，具有上述视镜输氢孔结构的多晶硅还原炉同样具有上述优点，故本文不再赘述。

最后，还需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (7)

1.一种视镜输氢孔结构，其特征在于，包括缓冲腔，所述缓冲腔为半圆结构，且该半圆结构的开口朝向底盘，所述缓冲腔的腔壁上设置有用于连通炉筒内部和所述缓冲腔的输氢孔，所述缓冲腔上还设置有用于连通氢气源的进气口。

2.根据权利要求1所述的视镜输氢孔结构，其特征在于，所述输氢孔为沿着所述缓冲腔的半圆结构均匀分布的多个。

3.根据权利要求2所述的视镜输氢孔结构，其特征在于，视镜贯穿所述缓冲腔，多个所述输氢孔围绕所述视镜分布。

4.根据权利要求3所述的视镜输氢孔结构，其特征在于，所述视镜的上半部贯穿所述缓冲腔。

5.根据权利要求4所述的视镜输氢孔结构，其特征在于，所述输氢孔为倾斜孔，且朝向所述视镜的中心轴线处倾斜。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的视镜输氢孔结构，其特征在于，所述缓冲腔和所述输氢孔与炉筒一体化铸造成型。

7.一种多晶硅还原炉，包括视镜输氢孔结构，其特征在于，所述视镜输氢孔结构为如权利要求1-6任意一项所述的视镜输氢孔结构。

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