CN211297995U - 一种脱毒植株扩繁培养设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种脱毒植株扩繁培养设备，由设备体、上内室、下内室、消毒装置、光照装置、温度控制装置、门体、控制面板、抽屉、容器组成，所述设备体包括上内室和下内室，所述上内室和下内室都包括有消毒装置、光照装置、温度控制装置，以便对上内室和下内室的各个参数进行设置，所述控制面板安装在门体之上，方便操作人员进行设备参数设置，所述温度控制装置用于控制内室的温度，控制面板用于控制各个参数的具体数值，容器用于放置进行扩繁培养的脱毒植株。该设备可对进行双脱毒苗培育的过程中的脱毒植株扩繁培养，简化了作业过程，减少对人工使用，提高了作业可靠性。
Description
技术领域
本实用新型涉及苗木脱毒技术领域，特别涉及一种脱毒植株扩繁培养设备。
背景技术
在双脱毒苗木的栽培过程中，需要将脱毒植株转接至分化培养基中进行扩繁培养，培养的过程需要提供恒定的温度、植株生长需要光照强度和光照的时间，人工操作无法达到要求，因此，需要有一种结构简单、便于操作的脱毒植株扩繁培养设备。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供一种脱毒植株扩繁培养设备，可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：
一种脱毒植株扩繁培养设备，由设备体、上内室、下内室、消毒装置、光照装置、温度控制装置、门体、控制面板、抽屉、容器组成，所述设备体包括上内室和下内室，所述上内室和下内室都包括有消毒装置、光照装置、温度控制装置，以便对上内室和下内室的各个参数进行设置，所述控制面板安装在门体之上，方便操作人员进行设备参数设置。
优选的，所述消毒装置可以对内室进行消毒除菌，为植株培养提供无菌环境。
优选的，所述光照装置能够提供6000LX的光照强度。
优选的，所述温度控制装置用于控制内室的温度。
优选的，所述控制面板用于控制各个参数的具体数值。
优选的，所述容器用于放置进行扩繁培养的脱毒植株。
与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：该脱毒植株扩繁培养设备，首先将脱毒植株转接至分化培养基中进行扩繁培养，放置于设备的抽屉中，将抽屉放到设备中，将温度设置为25℃，光照强度设置为6000LX,光照时长设置为12小时，20～30天后即可完成对脱毒植株扩繁培养。该设备可对进行双脱毒苗培育的过程中的脱毒植株扩繁培养，简化了作业过程，减少对人工使用，提高了作业可靠性。
附图说明
图1为本实用新型一种脱毒植株扩繁培养设备的结构示意图。
图2为本实用新型一种脱毒植株扩繁培养设备的抽屉主视结构图。
图3为本实用新型一种脱毒植株扩繁培养设备的抽屉俯视结构图。
图中：1、设备体，2、上内室，3、下内室，4、消毒装置，5、光照装置，6、温度控制装置，7、门体，8、控制面板，9、抽屉，10、容器。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。
如图1～3所示，一种脱毒植株扩繁培养设备，由设备体1、上内室2、下内室3、消毒装置4、光照装置5、温度控制装置6、门体7、控制面板8、抽屉9、容器10组成，所述设备体1包括上内室2和下内室3，所述上内室2和下内室3都包括有消毒装置4、光照装置5、温度控制装置6，以便对上内室2和下内室3的各个参数进行设置，所述控制面板8安装在门体7之上，方便操作人员进行设备参数设置，消毒装置4可以对内室进行消毒除菌，为植株培养提供无菌环境，光照装置5能够提供6000LX的光照强度，为组培苗补光，提供能源，所述温度控制装置6用于控制内室的温度，控制面板8用于控制各个参数的具体数值，容器10用于放置进行扩繁培养的脱毒植株。该设备可对进行双脱毒苗培育的过程中的脱毒植株扩繁培养，简化了作业过程，减少对人工使用，提高了作业可靠性。
需要说明的是，本实用新型为一种脱毒植株扩繁培养设备，在使用该设备时，首先将脱毒植株转接至分化培养基中进行扩繁培养，放置于设备的抽屉9中，将抽屉9放到设备中，将温度设置为25℃，光照强度设置为6000LX,光照时长设置为12小时，20～30天后即可完成对脱毒植株扩繁培养。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (6)
1.一种脱毒植株扩繁培养设备，包括设备体(1)、上内室(2)、下内室(3)、消毒装置(4)、光照装置(5)、温度控制装置(6)、门体(7)、控制面板(8)、抽屉(9)、容器(10)，其特征在于：所述的设备体(1)包括上内室(2)和下内室(3)，所述的上内室(2)和下内室(3)都包括有消毒装置(4)、光照装置(5)、温度控制装置(6)，所述的控制面板(8)安装在门体(7)之上。
2.根据权利要求1所述的一种脱毒植株扩繁培养设备，其特征在于：所述的消毒装置(4)可以对内室进行消毒除菌，为植株培养提供无菌环境。
3.根据权利要求1所述的一种脱毒植株扩繁培养设备，其特征在于：所述的光照装置(5)能够提供6000LX的光照强度。
4.根据权利要求1所述的一种脱毒植株扩繁培养设备，其特征在于：所述的温度控制装置(6)用于控制内室的温度。
5.根据权利要求1所述的一种脱毒植株扩繁培养设备，其特征在于：所述的控制面板(8)用于控制各个参数的具体数值。
6.根据权利要求1所述的一种脱毒植株扩繁培养设备，其特征在于：所述的容器(10)用于放置进行扩繁培养的脱毒植株。
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