CN211254384U - 溅镀下料装置及设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种溅镀下料装置及设备，装置包括吸盘机构和移动机构，所述吸盘机构设置于所述移动机构上，所述吸盘机构包括多个吸盘、真空止回阀和真空发生器，每个所述吸盘均借助一个所述真空止回阀与所述真空发生器连接，所述多个吸盘等距均匀排布于同一平面上。本实用新型通过设置多个吸盘，将多个吸盘等距均匀排布与同一平面上，并将每个吸盘均与一个真空止回阀连接，使得每个吸盘形成单独的吸力，因而不会因为部分吸盘漏气导致整个装置无法吸取，且能够适用于不同尺寸的产品，适用范围广。

Description

溅镀下料装置及设备

技术领域

本实用新型涉及下料技术，尤其涉及一种溅镀下料装置及设备。

背景技术

在电脑外壳的生产过程中，在溅镀完毕后下料时，需要将电脑外壳转移到输送带上，为了吸取和固定电脑外壳，不同尺寸的电脑外壳往往需要配备不同数量大小的吸盘，形成与产品尺寸相适应的吸盘阵列。

现有技术中，吸盘一般互相共通且直接与抽气泵连接，这样的结构导致当产品尺寸较小或者位置偏离导致部分吸盘漏气时，所有吸盘都无法形成吸力，因而适配性较低，无法用于不同尺寸的电脑壳体。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种能够适用于不同尺寸电脑外壳的溅镀下料装置及设备。

以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构想到的方面的详尽综览，并且既非旨在指认出所有方面的关键性或决定性要素亦非试图界定任何或所有方面的范围。其唯一的目的是要以简化形式给出一个或多个方面的一些概念以为稍后给出的更加详细的描述之序。

根据本实用新型的一方面，提供了一种溅镀下料装置，包括吸盘机构和移动机构，所述吸盘机构设置于所述移动机构上，所述吸盘机构包括多个吸盘、真空止回阀和真空发生器，每个所述吸盘均借助一个所述真空止回阀与所述真空发生器连接，所述多个吸盘等距均匀排布于同一平面上。

在一实施例中，该溅镀下料装置的所述吸盘机构包括固定框，所述固定框的下端面上固定设置有套管，所述吸盘与导管连接，所述导管可活动地穿过所述套管，所述导管的上端借助柔性气管与所述真空止回阀连通。

在一实施例中，该溅镀下料装置的所述移动机构包括升降组件、x向移动组件和y向移动组件，所述吸盘机构与所述升降组件连接，所述升降组件与所述x向移动组件连接，所述x向移动组件与所述y向移动组件连接。

在一实施例中，该溅镀下料装置的还包括旋转机构，所述吸盘机构与所述旋转机构连接，所述旋转机构与所述升降组件连接，所述旋转机构包括旋转电机、同步带、同步带轮和轴承，所述吸盘机构与所述轴承连接，所述轴承与所述同步带轮同轴连接，所述同步带轮借助所述同步带与所述旋转电机传动连接。

在一实施例中，该溅镀下料装置的所述升降组件包括升降电机、升降滑块、升降滑轨、第一丝杆、第一丝杆支撑座和第一丝杆固定座，所述升降滑块活动套接于所述升降滑轨上，所述旋转机构与所述升降滑块固定连接，所述第一丝杆一端与所述第一丝杆支撑座连接，所述第一丝杆的另一端穿过所述第一丝杆固定座并与所述升降电机连接。

在一实施例中，该溅镀下料装置的所述x向移动组件包括第一滑轨、第二滑轨、第一滑块、第二滑块、皮带连接件、x向电机和皮带，所述第一滑轨和第二滑轨平行设置，所述第一滑块活动套接于所述第一滑轨上，所述第二滑块活动套接于所述第二滑轨上，所述第一滑块、第二滑块和皮带连接件固定连接，所述皮带与所述x向电机传动连接，所述皮带穿过所述皮带连接件并与所述皮带连接件固定连接。

在一实施例中，该溅镀下料装置的所述升降组件与所述第一滑块和第二滑块固定连接。

在一实施例中，该溅镀下料装置的所述y向移动组件包括y向电机、第三滑轨、第三滑块、第四滑轨、第四滑块、第二丝杆和第二丝杆支撑座，所述x向移动组件与所述第三滑块和第四滑块固定连接，所述第三滑块活动套接于所述第三滑轨上，所述第四滑块活动套接于所述第四滑轨上，所述第二丝杆的一端与所述第二丝杆支撑座连接，所述第二丝杆的另一端与所述y向电机传动连接，所述x向移动组件与所述第二丝杆传动连接。

根据本实用新型的另一方面，还提供了一种溅镀下料设备，包括机架、输送带和上述任一实施例所述的溅镀下料装置，所述溅镀下料装置与所述机架固定连接，所述溅镀下料装置设置于所述输送带上方。

本实用新型实施例的有益效果是：通过设置多个吸盘，将多个吸盘等距均匀排布与同一平面上，并将每个吸盘均与一个真空止回阀连接，使得每个吸盘形成单独的吸力，因而不会因为部分吸盘漏气导致整个装置无法吸取，且能够适用于不同尺寸的产品，适用范围广。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

在结合以下附图阅读本公开的实施例的详细描述之后，能够更好地理解本实用新型的上述特征和优点。在附图中，各组件不一定是按比例绘制，并且具有类似的相关特性或特征的组件可能具有相同或相近的附图标记。

图1是本实用新型溅镀下料装置主视图；

图2是本实用新型溅镀下料装置的立体结构示意图；

图3是本实用新型溅镀下料设备的立体结构示意图。

其中：1-吸盘；2-真空止回阀；3-真空发生器；4-套管；5-固定框；6-旋转机构；61-旋转电机；7-升降组件；71-升降电机；8-x向移动组件；9-y向移动组件；10-机架；11-输送带。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型作详细描述。注意，以下结合附图和具体实施例描述的诸方面仅是示例性的，而不应被理解为对本实用新型的保护范围进行任何限制。

在本实用新型实施例的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

如图1和图2所示，一种溅镀下料装置，包括吸盘机构和移动机构，吸盘机构设置于移动机构上，吸盘机构包括多个吸盘1、真空止回阀2和真空发生器3，每个吸盘1均借助一个真空止回阀2与真空发生器3连接，吸盘1、真空止回阀2和真空发生器3之间均通过软管(图中未示出)连接。多个吸盘1等距均匀排布于同一平面上以形成一个吸取平面。通过设置多个吸盘1，将多个吸盘1等距均匀排布与同一平面上，并将每个吸盘1均与一个真空止回阀2连接，使得每个吸盘1形成单独的吸力，因而不会因为部分吸盘1漏气导致整个装置无法吸取，且能够适用于不同尺寸的产品，当产品尺寸较小时也能只利用部分吸盘完成吸取。

具体而言，该溅镀下料装置的吸盘机构包括固定框5，固定框5的下端面上固定设置有套管4，吸盘1与导管连接，导管可活动地穿过套管4，导管的上端借助柔性气管(图中未示出)与真空止回阀2连通。这样的结构使吸盘能够上下活动，在吸取产品时有缓冲，不容易压坏产品。

在本实施例中，移动机构包括升降组件7、x向移动组件8和y向移动组件9，其中x向为产品的输送方向，y向为与x向垂直的方向。吸盘机构与升降组件7连接，升降组件7与x向移动组件8连接，x向移动组件8与y向移动组件9连接。本领域技术人员容易理解地，升降组件7、x向移动组件8和y向移动组件9可以参照现有的三轴平台结构。通过这样的三轴设计，能够让吸盘自由的调整位置，实现下料过程中的竖直方向升降、x向位置调整和y向搬运等动作。

升降组件7包括升降电机71、升降滑块、升降滑轨、第一丝杆、第一丝杆支撑座和第一丝杆固定座，升降滑块活动套接于升降滑轨上，旋转机构与升降滑块固定连接，第一丝杆一端与第一丝杆支撑座连接，第一丝杆的另一端穿过第一丝杆固定座并与升降电机71连接。

x向移动组件8包括第一滑轨、第二滑轨、第一滑块、第二滑块、皮带连接件、x向电机和皮带，第一滑轨和第二滑轨平行设置，第一滑块活动套接于第一滑轨上，第二滑块活动套接于第二滑轨上，第一滑块、第二滑块和皮带连接件固定连接，皮带与x向电机传动连接，皮带穿过皮带连接件并与皮带连接件固定连接。升降组件与第一滑块和第二滑块固定连接。

y向移动组件9包括y向电机、第三滑轨、第三滑块、第四滑轨、第四滑块、第二丝杆和第二丝杆支撑座，x向移动组件8与第三滑块和第四滑块固定连接，第三滑块活动套接于第三滑轨上，第四滑块活动套接于第四滑轨上，第二丝杆的一端与第二丝杆支撑座连接，第二丝杆的另一端与y向电机传动连接，x向移动组件8与第二丝杆传动连接。

为了实现对产品的方向调整，还可以吸盘机构和升降组件7之间设置旋转机构6，吸盘机构与旋转机构6连接，旋转机构6与升降组件7连接，旋转机构6包括旋转电机61、同步带、同步带轮和轴承，吸盘机构与轴承连接，轴承与同步带轮同轴连接，同步带轮借助同步带与旋转电机61传动连接。在吸取产品的过程中通过旋转机构6的旋转，可以将产品的方向统一，便于下一步的测量。

如图3所示，本实用新型还公开了一种溅镀下料设备，包括机架、输送带和上述任一实施例的溅镀下料装置，溅镀下料装置与机架固定连接，在本实施例中，y向移动组件9沿输送带11的输送方向设置于机架10上，溅镀下料装置设置于输送带上方。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

尽管为使解释简单化将上述方法图示并描述为一系列动作，但是应理解并领会，这些方法不受动作的次序所限，因为根据一个或多个实施例，一些动作可按不同次序发生和/或与来自本文中图示和描述或本文中未图示和描述但本领域技术人员可以理解的其他动作并发地发生。

提供对本公开的先前描述是为使得本领域任何技术人员皆能够制作或使用本公开。对本公开的各种修改对本领域技术人员来说都将是显而易见的，且本文中所定义的普适原理可被应用到其他变体而不会脱离本公开的精神或范围。由此，本公开并非旨在被限定于本文中所描述的示例和设计，而是应被授予与本文中所公开的原理和新颖性特征相一致的最广范围。

以上所述仅为本申请的较佳实例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。

Claims (9)

1.一种溅镀下料装置，其特征在于：包括吸盘机构和移动机构，所述吸盘机构设置于所述移动机构上，所述吸盘机构包括多个吸盘、真空止回阀和真空发生器，每个所述吸盘均借助一个所述真空止回阀与所述真空发生器连接，所述多个吸盘等距均匀排布于同一平面上。

2.根据权利要求1所述的溅镀下料装置，其特征在于：所述吸盘机构包括固定框，所述固定框的下端面上固定设置有套管，所述吸盘与导管连接，所述导管可活动地穿过所述套管，所述导管的上端借助柔性气管与所述真空止回阀连通。

3.根据权利要求1所述的溅镀下料装置，其特征在于：所述移动机构包括升降组件、x向移动组件和y向移动组件，所述吸盘机构与所述升降组件连接，所述升降组件与所述x向移动组件连接，所述x向移动组件与所述y向移动组件连接。

4.根据权利要求3所述的溅镀下料装置，其特征在于：还包括旋转机构，所述吸盘机构与所述旋转机构连接，所述旋转机构与所述升降组件连接，所述旋转机构包括旋转电机、同步带、同步带轮和轴承，所述吸盘机构与所述轴承连接，所述轴承与所述同步带轮同轴连接，所述同步带轮借助所述同步带与所述旋转电机传动连接。

5.根据权利要求4所述的溅镀下料装置，其特征在于：所述升降组件包括升降电机、升降滑块、升降滑轨、第一丝杆、第一丝杆支撑座和第一丝杆固定座，所述升降滑块活动套接于所述升降滑轨上，所述旋转机构与所述升降滑块固定连接，所述第一丝杆一端与所述第一丝杆支撑座连接，所述第一丝杆的另一端穿过所述第一丝杆固定座并与所述升降电机连接。

6.根据权利要求3或4所述的溅镀下料装置，其特征在于：所述x向移动组件包括第一滑轨、第二滑轨、第一滑块、第二滑块、皮带连接件、x向电机和皮带，所述第一滑轨和第二滑轨平行设置，所述第一滑块活动套接于所述第一滑轨上，所述第二滑块活动套接于所述第二滑轨上，所述第一滑块、第二滑块和皮带连接件固定连接，所述皮带与所述x向电机传动连接，所述皮带穿过所述皮带连接件并与所述皮带连接件固定连接。

7.根据权利要求6所述的溅镀下料装置，其特征在于：所述升降组件与所述第一滑块和第二滑块固定连接。

8.根据权利要求3或4所述的溅镀下料装置，其特征在于：所述y向移动组件包括y向电机、第三滑轨、第三滑块、第四滑轨、第四滑块、第二丝杆和第二丝杆支撑座，所述x向移动组件与所述第三滑块和第四滑块固定连接，所述第三滑块活动套接于所述第三滑轨上，所述第四滑块活动套接于所述第四滑轨上，所述第二丝杆的一端与所述第二丝杆支撑座连接，所述第二丝杆的另一端与所述y向电机传动连接，所述x向移动组件与所述第二丝杆传动连接。

9.一种溅镀下料设备，其特征在于：包括机架、输送带和权利要求1～8中任一所述的溅镀下料装置，所述溅镀下料装置与所述机架固定连接，所述溅镀下料装置设置于所述输送带上方。

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