CN211220297U - 一种硅片背伤处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种硅片背伤处理装置，包括喷砂腔体、往复运动机构、输送皮带线和砂浆液体回路，喷砂腔体为封闭的腔室，往复运动机构设置在喷砂腔体上部，输送皮带线设置在喷砂腔体下方；砂浆液体回路包括砂浆槽，供给泵和砂浆喷头，砂浆槽与砂浆喷头通过供给泵连接，砂浆槽设置在输送皮带线下方，砂浆喷头设置在往复运动机构末端。本实用新型的有益效果是：通过本装置能够实现自动背伤处理，并保证背伤处理效果相同，保持硅片的一致性；另外砂浆自循环，避免浪费砂浆并保持操作环境的干净整洁。

Description

一种硅片背伤处理装置

技术领域

本实用新型属于硅片制造设备领域，尤其是涉及一种硅片背伤处理装置。

背景技术

喷砂背伤处理设备是应用于抛光片加工中酸腐蚀后的加工工艺，主要作用是在硅片的背面进行机械损伤使其形成金属吸杂中心。当硅片达到一定温度时，如Fe,Ni,Cr,Zn等会降低载流子寿命的金属原子就会在硅体内运动。当这些原子在硅片背面遇到损伤点，它们就会被诱陷并本能地从内部移动到损伤点。从而达到减少抛光面(正面)重金属杂质和晶格缺陷的作用。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种硅片背伤处理装置。

本实用新型采用的技术方案是：一种硅片背伤处理装置，包括喷砂腔体、往复运动机构、输送皮带线和砂浆液体回路，喷砂腔体为封闭的腔室，往复运动机构设置在喷砂腔体上部，输送皮带线设置在喷砂腔体下方；

砂浆液体回路包括砂浆槽，供给泵和砂浆喷头，砂浆槽与砂浆喷头通过供给泵连接，砂浆槽设置在输送皮带线下方，砂浆喷头设置在往复运动机构末端。

优选地，往复运动机构包括第一底板、往复运动电机、曲柄导轨滑块和移动杆；

曲柄导轨滑块包括光轴、滑块板和曲柄连杆结构，光轴固定设置在第一底板上，滑块板可移动设置在光轴上，曲柄连杆结构连接滑块板和往复运动电机；滑块板连接移动杆，移动杆末端设有砂浆喷头。

优选地，砂浆喷头包括一个或多个喷枪，每一个喷枪同时连通有供给泵和高压空气泵。

优选地，输送皮带线包括传输履带、气吹和清洗管，输送皮带固定设置在喷砂腔体上，砂浆喷头对应输送皮带中部，输送皮带前端和后端伸出喷砂腔体外侧，气吹和清洗管设置在传输履带上。

优选地，气吹包括前气吹和后气吹，分别设置在传输履带的两端。

优选地，清洗管包括上清洗管和下清洗管，上清洗管对应传输履带后端的上方，下清洗管对应传输履带后端的下方。

优选地，砂浆槽连接有循环泵。

优选地，喷砂腔体设有操作门，操作门对应砂浆喷头。

本实用新型具有的优点和积极效果是：通过本装置能够实现自动背伤处理，并保证背伤处理效果相同，保持硅片的一致性；另外砂浆自循环，避免浪费砂浆并保持操作环境的干净整洁。

附图说明

图1是本实用新型一个实施例结构示意图；

图2是本实用新型一个实施例内部结构示意图；

图3是本实用新型一个实施例内部结构背侧结构示意图；

图4是本实用新型一个实施例往复运动机构结构示意图；

图5是本实用新型一个实施例输送皮带线结构示意图。

图中：

1、喷砂腔体 11、操作门 2、往复运动机构

21、第一底板 211、光轴 212、滑块板

22、往复运动电机 23、曲柄导轨滑块 24、移动杆

25、砂浆喷头 3、输送皮带线 31、传输履带

321、前气吹 322、后气吹 33、清洗管

34、调速电机 41、砂浆槽 42、供给泵

43、循环泵

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的一个实施例做出说明。

如图1-3所示，本实用新型涉及一种硅片背伤处理装置，在硅片的背面进行机械损伤使其形成金属吸杂中心，包括喷砂腔体1、往复运动机构2、输送皮带线3和砂浆液体回路。喷砂腔体1为封闭的腔室，由方钢焊接而成，起到承重定位作用，腔室由不锈钢板焊接而成，用于密闭喷砂用；往复运动机构2设置在喷砂腔体1上部，末端设有喷砂用的喷枪，用于向传输皮带线上经过的硅片喷砂，往复运动机构2能够前后移动，保证喷砂过程均匀；输送皮带线3设置在喷砂腔体1下方，用于传输硅片；砂浆液体回路用于传输砂浆，使得处理装置砂浆自循环。

其中，如图4所示，往复运动机构2包括第一底板21、往复运动电机22、曲柄导轨滑块23和移动杆24；第一底板21固定在喷砂腔体1上，曲柄导轨滑块23包括光轴211、滑块板212和曲柄连杆结构，光轴211固定设置在第一底板21上，包括两根，第一底板21上设有移动孔，移动孔在两根光轴211中间，滑块板212可移动设置在光轴211上，光轴211两端固定，滑块板212能够在光轴211上往复移动，移动杆24上端连接在滑块板212上，穿过移动孔，滑块板212在光轴211上移动式带动移动杆24一起移动，移动杆24底端连接有砂浆喷头25，带动砂浆喷头25移动喷砂；滑块板212通过曲柄连杆连接往复电机，往复电机通过第二底板固定在喷砂腔体1上，曲柄连杆包括传动轴、环板和连接杆，环板固定在传动轴一端，传动轴另一端通过同步皮带与往复电机连接，连接杆两端分别铰接在滑块板212和环板边缘。使用时，往复运动电机22转动带动传动轴和环板转动，铰接的连接杆随着环板的转动拉动滑块在移动孔范围内前后移动。

如图5所示，输送皮带线3设置在往复运动机构2的下方，输送皮带线3包括传输履带31、气吹和清洗管33，传输履带31通过横梁固定在喷砂腔体1上，砂浆喷头25对应输送皮带中部，输送皮带前端和后端伸出喷砂腔体1外侧，气吹和清洗管33均固定在传输履带31支撑框上；气吹包括前气吹321和后气吹322，分别设置在传输履带31的两端，前气吹321用于清理待喷砂的硅片，将硅片表面浮尘，后气吹322用于将残留的砂浆去除，为了提高去除效率，可设两道后气吹322；气吹结构可以为前端扁平的气嘴，连接有气泵；清洗管33包括上清洗管33和下清洗管33，上清洗管33对应传输履带31后端的上方，下清洗管33对应传输履带31后端的下方，上清洗管33用于清洗硅片表面的砂浆，设置在两道后气吹322之间，下清洗管33水流冲击方向向上，用于清洗沾有砂浆的传输履带31，清洗管33可以为设有冲水孔的管道，连接有水泵；传输履带31的主动轴连接有调速电机34，调速电机34能够固定安装在喷砂腔体1上。

如图2-3所示砂浆液体回路包括砂浆槽41、供给泵42和砂浆喷头25，砂浆槽41与砂浆喷头25通过供给泵42连接，砂浆槽41中的砂浆在供给泵42的作用下进入砂浆喷头25，砂浆槽41设置在输送皮带线3下方，为上宽下窄的槽状，开口能够完全覆盖传输履带31，低落在传输履带31上的砂浆和冲洗用水能够落入砂浆槽41中再利用；砂浆槽41上覆盖有网状的滤板，滤板两端高于中间的凹状，方便收集砂浆；砂浆槽41连接有循环泵43，通过循环泵43对砂浆液进行外部循环，保持腔室内砂浆液不沉淀；循环泵43和供给泵42通过管路连通砂浆槽41，供给泵42通过软质管连接砂浆喷头25，方便配合砂浆喷头25的移动。

砂浆喷头25包括一个或多个喷枪，每一个喷枪同时连通有供给泵42和高压空气泵，高压空气泵与喷枪也通过软质管连接，多个喷枪依次排列，与传输履带31传输方向一致，喷枪进行往复运动，同时硅片向前传送，从而在硅片表面形成均匀的背伤轨迹；喷枪是造成硅片背伤的主要工具，是由砂浆液体通过喷枪的同时通以高压空气，产生实锥状喷雾，对硅片进行背伤。喷砂腔体1设有操作门11，操作门11对应砂浆喷头25，方便查看和检修。

实施例：

一种硅片背伤处理装置，包括喷砂腔体1、往复运动机构2、输送皮带线3和砂浆液体回路，喷砂腔体1为封闭的腔室，往复运动机构2设置在喷砂腔体1上部，输送皮带线3设置在喷砂腔体1下方；砂浆液体回路包括砂浆槽41，供给泵42和砂浆喷头25，砂浆槽41与砂浆喷头25通过供给泵42连接，砂浆槽41设置在输送皮带线3下方，砂浆槽41连接有循环泵43，砂浆喷头25设置在往复运动机构2末端。

往复运动机构2包括第一底板21、往复运动电机22、曲柄导轨滑块23和移动杆24；曲柄导轨滑块23包括光轴211、滑块板212和曲柄连杆结构，光轴211固定设置在第一底板21上，滑块板212可移动设置在光轴211上，曲柄连杆结构连接滑块板212和往复运动电机22；滑块板212连接移动杆24，移动杆24末端设有砂浆喷头25，砂浆喷头25包括8个喷枪，每一个喷枪同时连通有供给泵42和高压空气泵，喷砂腔体1设有操作门11，操作门11对应砂浆喷头25。

输送皮带线3包括传输履带31、气吹和清洗管33，输送皮带固定设置在喷砂腔体1上，砂浆喷头25对应输送皮带中部，输送皮带前端和后端伸出喷砂腔体1外侧，气吹和清洗管33设置在传输履带31上，气吹包括前气吹321和后气吹322，分别设置在传输履带31的两端，清洗管33包括上清洗管33和下清洗管33，上清洗管33对应传输履带31后端的上方，下清洗管33对应传输履带31后端的下方。

硅片背伤处理装置操作方法：

硅片由自动上料机平放至传输履带31前端，在传输履带31的带动下进入喷砂腔体1，硅片在前气吹321的作用下去除表面浮尘后，进行喷砂，砂浆喷头25将高压空气和砂浆的混合物均匀喷在硅片表面，砂浆喷头25在往复运动机构2的带动下横向均匀的喷砂浆，对硅片进行背伤；硅片在传输履带31的带动下向前移动，通过上清洗管33和两道后气吹322的作用清理干净表面的砂浆，传输到下一工序，清洗流出的清水和硅片上的砂浆在传输带的带动下落入下方的砂浆槽41中，下清洗管33冲水清洗背侧的传输履带31，冲洗水同样落入砂浆槽41，连通砂浆槽41的循环泵43保证砂浆液不沉淀，连接的供给泵42将砂浆抽取输送到砂浆喷头25，循环使用。

以上对本实用新型的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。

Claims (9)

1.一种硅片背伤处理装置，其特征在于：包括喷砂腔体、往复运动机构、输送皮带线和砂浆液体回路，所述喷砂腔体为封闭的腔室，所述往复运动机构设置在所述喷砂腔体上部，所述输送皮带线设置在所述喷砂腔体下方；

所述砂浆液体回路包括砂浆槽，供给泵和砂浆喷头，所述砂浆槽与所述砂浆喷头通过供给泵连接，所述砂浆槽设置在所述输送皮带线下方，所述砂浆喷头设置在所述往复运动机构末端。

2.根据权利要求1所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述往复运动机构包括第一底板、往复运动电机、曲柄导轨滑块和移动杆；

所述曲柄导轨滑块包括光轴、滑块板和曲柄连杆结构，所述光轴固定设置在所述第一底板上，所述滑块板可移动设置在所述光轴上，所述曲柄连杆结构连接所述滑块板和所述往复运动电机；所述滑块板连接所述移动杆，所述移动杆末端设有所述砂浆喷头。

3.根据权利要求2所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述砂浆喷头包括一个或多个喷枪，每一个喷枪同时连通有所述供给泵和高压空气泵。

4.根据权利要求1-3中任一所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述输送皮带线包括传输履带、气吹和清洗管，所述输送皮带固定设置在所述喷砂腔体上，所述砂浆喷头对应所述输送皮带中部，所述输送皮带前端和后端伸出所述喷砂腔体外侧，所述气吹和所述清洗管设置在所述传输履带上。

5.根据权利要求4所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述气吹包括前气吹和后气吹，分别设置在所述传输履带的两端。

6.根据权利要求4所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述清洗管包括上清洗管和下清洗管，所述上清洗管对应所述传输履带后端的上方，所述下清洗管对应所述传输履带后端的下方。

7.根据权利要求1-3、5、6中任一所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述砂浆槽连接有循环泵。

8.根据权利要求4所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述砂浆槽连接有循环泵。

9.根据权利要求7所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述喷砂腔体设有操作门，所述操作门对应所述砂浆喷头。

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