CN211220165U - 一种单晶硅边皮料打磨除胶装置 - Google Patents

一种单晶硅边皮料打磨除胶装置 Download PDF

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Abstract

一种单晶硅边皮料打磨除胶装置,该装置包括机架,机架上转动安装有用于对单晶硅边皮料进行输送的输送装置,在输送装置的一侧安装有若干用于对单晶硅边皮料的带胶端面进行打磨除胶的打磨组件,打磨组件的打磨头处于单晶硅边皮料的带胶端面的侧部;若干打磨组件的打磨头设置在不同高度;所述输送装置上还安装有用于防止单晶硅边皮料在打磨时移动的下压组件,下压组件包括横向转动安装在输送装置上的支撑杆,支撑杆上转动安装有若干用于从上方对单晶硅边皮料进行滚压的辊棒。该装置能够对单晶硅边皮料进行连续、高效打磨除胶,并且砂轮与单晶硅边皮料的带胶端面的接触压力可调节,安全可靠,打磨效果好。

Description

一种单晶硅边皮料打磨除胶装置
技术领域
本实用新型涉及晶体硅太阳能电池生产技术领域,特别是一种单晶硅边皮料打磨除胶装置。
背景技术
单晶硅棒拉制完成后需要开方、切片然后才可制作电池片,由于性价比要求不断提高,大直径硅棒成为市场热点。大直径硅棒在开方过程中需要经过拼接,才能有效提高开方效率,但是,硅棒拼接需要使用强度极高的粘合剂,目前使用的粘合剂在开方之后仍然残余在单晶边皮的拼接端面,热水煮泡、烘烤、酸洗等常规方法均无法有效将其去除,残余单晶边皮端面上的胶体势必影响单晶硅边皮料的循环使用。
现有技术中一般采用人工手持角磨机的方法对单晶边皮端面残余胶体进行打磨处理,操作难度大,危险系数高、打磨效率低、过程粉尘大环境不友好。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足,提供一种自动、高效、连续式的单晶硅边皮料打磨除胶装置。
本实用新型所要解决的技术问题是通过以下的技术方案来实现的。本实用新型是一种单晶硅边皮料打磨除胶装置,该装置包括机架、安装在机架上的可侧倾的输送装置、安装在输送装置侧部的若干个随动贴合打磨组件、安装在输送装置上部的单晶边皮料随动下压组件;单晶边皮料由输送装置依次运送经过若干个打磨组件,打磨组件的砂轮对单晶边皮料带胶端面进行贴合式打磨。
本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,打磨组件包括马达、安装在马达上的砂轮及马达的支撑结构,其中支撑结构可通过支撑臂摆动或平动,使得砂轮可随着单晶边皮料的运动自如地贴合在被打磨工件端面,砂轮贴合被打磨工件端面的力量由配重调节装置提供。
本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,所述配重调节装置为配重砝码装置、弹力装置、电磁力装置、气动装置、液压装置中的一种或几种。
本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,输送装置既可水平放置,也可根据实际要求横向翻转一定角度,达到更佳的配合打磨的效果。
本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,所述输送装置横向翻转的角度为-90°至90°。
本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,若干打磨组件各自可设定单晶边皮带胶端面的打磨高度,若干打磨组件对单晶边皮带胶端面的打磨高度部分重叠和/或全部重叠。
本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,所述下压组件由若干根可上下自由升降的辊棒组成,靠自身、支撑结构及配重的重力对被单晶边皮料提供向下压力。
本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,该装置配有喷淋除尘装置。
与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:
(1)本发明采用输送带装置连续喂料,实现连续打磨功能,可避免人工打磨效率低、明手持角磨机潜在操作危险等问题;
(2)本发采用若干组砂轮组合工作,实现对单晶边皮带胶端面的完整打磨;
(3)本发明采用重力砝码自身重力作为打磨砂轮与单晶边皮带胶端面接触压力的来源,成本低,性能稳定;
(4)打磨过程可对砂轮进行喷淋水冷同时降低打磨过程产生的灰尘量,配备抽接口可进一步实现残余灰尘的去除。
附图说明
图1为本实用新型的一种结构示意图;
图2为本实用新型单晶硅边皮料的打磨状态示意图;
图3为本实用新型打磨组件的一种结构示意图;
图4为本实用新型下压组件的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
实施例1,参照图1-4,一种单晶硅边皮料打磨除胶装置,该装置包括机架1,机架1上转动安装有用于对单晶硅边皮料9 进行输送的输送装置,在输送装置的一侧安装有若干用于对单晶硅边皮料9的带胶端面进行打磨除胶的打磨组件,打磨组件的打磨头处于单晶硅边皮料9的带胶端面的侧部。一般情况下,打磨组件至少设置 2个,优选的,打磨组件设置6个,以保证对单晶硅边皮料9的打磨除胶效果。输送装置包括输送架和安装在输送架上的输送带,输送带包括安装在输送架上的输送辊2和套装在输送辊2上的输送皮带3,输送架上还安装有用于驱动输送辊2带动输送皮带3转动的输送电机 4;打磨组件安装在输送皮带3侧部的输送架上,便于在单晶硅边皮料9随着输送皮带3移动的同时对单晶硅边皮料9的带胶端面进行打磨,自动、连续,打磨效果好;输送架的一端通过旋转轴11转动安装在机架1上,输送架另一端的机架1上铰接有用于驱动输送架转动的动力机构,动力机构的输出端与输送架铰接,动力机构为气缸或液压缸,输送装置的转动角度为-90°至90°,从而输送装置既可水平放置,也可根据实际要求横向翻转一定角度,使得单晶硅边皮料9达到更佳的配合打磨的效果。
实施例2,实施例1中所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,若干打磨组件的打磨头设置在不同高度。水平方向上,若干打磨组件沿输送装置的输送方向依次设置;竖直方向上,若干打磨组件高低间隔设置,或者沿输送装置的输送方向高度依次升高或依次降低,便于分别对相应高度的单晶硅边皮料9的带胶端面进行打磨,同时,打磨区域可以有重叠,甚至有重复,从而保证打磨的完整性。
实施例3,实施例1中所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,所述打磨组件包括砂轮6和用于驱动砂轮6转动的马达5,马达 5通过转轴11转动安装在输送装置的输送架上,砂轮6固定安装在马达5的输出轴上,优选的,砂轮6横向安装在马达5上。转轴11 通过轴承和轴承座竖向安装在输送装置的输送架上,马达5通过电机座竖向安装在转轴11上,便于通过转轴11与输送装置的输送架进行相对转动,从而使得砂轮6靠近或远离单晶硅边皮料9的带胶端面,控制打磨强度;马达5为电动、气动、油压马达等其中的一种。
实施例4,实施例1中所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,所述打磨组件包括砂轮6和用于驱动砂轮6转动的马达5,输送装置的输送架上安装有便于马达5移动的滑轨,滑轨上滑动安装有滑块,马达5安装在滑块上,砂轮6固定安装在马达5的输出轴上,砂轮6横向安装在马达5上。滑轨垂直于输送装置安装在输送装置的输送架上,便于马达5随着滑块沿着滑轨移动,使得砂轮6靠近或远离单晶硅边皮料9的带胶端面,控制打磨强度;滑轨和滑块均呈长方体状,滑块上设置有矩形状滑动孔,便于套装到滑轨上,并可沿着滑轨移动;马达5为电动、气动、油压马达等其中的一种。
实施例5,实施例1中所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,打磨组件对侧的输送装置上还安装有用于对砂轮6与单晶硅边皮料9带胶端面的接触压力进行调节的自适应负载。自适应负载用于调整砂轮6的位置,使得砂轮6靠斤或远离单晶硅边皮料9带胶端面,从而可以调整砂轮6对单晶硅边皮料9带胶端面的打磨强度。自适应负载可以是配重砝码装置、弹力装置、电磁力装置、气动装置、液压装置等装置中的一种或几种提供。
实施例6,实施例5中所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,优选的,自适应负载包括固定安装在输送装置上的定滑轮和绕装在定滑轮上的牵引绳索7,牵引绳索7的一端与马达5固定连接,牵引绳索7的另一端固定连接有调节盘,调节盘上放置有若干砝码。牵引绳索7对马达5的牵引力是由调节盘和砝码的重力提供的,通过调节砝码的数量来调整对马达5的牵引力,进而调整砂轮6与单晶硅边皮料9带胶端面的接触压力,实现打磨强度的调控,以保证打磨效果。
实施例7,实施例1中所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,在输送装置上还安装有用于防止单晶硅边皮料9在打磨时移动的下压组件8。下压组件8用于在单晶硅边皮料9上进行滚压,为单晶硅边皮料9提供下压力,避免单晶硅边皮料9在打磨时发生移动,影响打磨效果。
实施例8,实施例7中所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,所述下压组件8包括横向转动安装在输送装置上的支撑杆12,支撑杆12上转动安装有若干用于从上方对单晶硅边皮料9进行滚压定位的辊棒13。辊棒13一般设置有1-5个,辊棒13的两端通过连接支架14与支撑杆12连接,辊棒13的两端固定安装有旋转轴11,旋转轴11通过轴承和轴承座安装在连接支架14上,连接支架14上设置有便于套装到支撑杆12上的安装孔,安装孔的内径略大于支撑杆12的直径,便于连接支架14与支撑杆12进行相对转动,从而可以使得辊棒13能够上下自由抬升,对单晶硅边皮料9提供下压力,确保单晶硅边皮料9不会在输送皮带3上发生横向滑移远离砂轮6;辊棒13的重量根据实际情况设定,确保单晶硅边皮料9不会偏移即可;若辊棒13重量不够,可以通过在辊棒13上安装辅助配重物来增加重量。
实施例9,实施例1中所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,在输送装置输入端还竖向安装有若干用于单晶硅边皮料9带胶端面对齐的定位滚轮10。定位滚轮10一般设置有8-10个,一个作用是便于单晶硅边皮料9的整齐放置,一个作用是在单晶硅边皮料9移动的过程中,使得单晶硅边皮料9的端面对齐,方便后面打磨。
实施例10,实施例1中所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,该装置还包括冷却水喷淋装置和抽风除尘装置,冷却水喷淋装置安装在打磨组件斜上方的机架1上,抽风除尘装置安装在打磨组件正上方的机架1上。冷却水喷淋装置包括喷水管,喷水管外接水箱,水箱内安装有与喷水管配合的水泵,喷水管上安装有若干喷嘴,用于在打磨时进行喷淋除尘、降温,在打磨组件下方的机架1上还可安装集水槽,用于盛接污水;抽风除尘装置包括抽风管道,抽风管道的一端外接除尘箱,除尘箱上安装有抽风机,抽风管道的另一端安装有漏斗状的抽风罩,用于在打磨时进行抽风除尘。
实施例11,对于实施例1-10任意一项所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,具体工作过程为:将单晶硅边皮料9不断横向放置于输送皮带3上,单晶边皮带胶的端面伸出输送皮带3的侧边,单晶边皮带胶端面伸出输送带侧边的具体长度由设置在输送装置输入端侧的定位轮辅助完成;单晶硅边皮料9在输送皮带3的带动下移动至打磨组件处,打磨组件的砂轮6外轮廓打磨面与单晶边皮带胶端面贴合,通过不同高度的砂轮6配合,实现对单晶边皮带胶端面的完整打磨,打磨的同时,下压组件8从上方对单晶硅边皮料9进行滚压定位,避免单晶硅边皮料9跑偏;其次,砂轮6和单晶边皮带胶端面的接触压力由牵引绳索7连接的调节盘提供,通过调整放置到调节盘上的砝码的数量来调整对砂轮6的拉力,进而调整砂轮6和单晶边皮带胶端面的接触压力,实现打磨强度的控制。
本实用新型具有以下优点:
(1)本发明采用输送带装置连续喂料,实现连续打磨功能,可避免人工打磨效率低、明手持角磨机潜在操作危险等问题;
(2)本发采用若干组砂轮组合工作,实现对单晶边皮带胶端面的完整打磨;
(3)本发明采用重力砝码自身重力作为打磨砂轮与单晶边皮带胶端面接触压力的来源,成本低,性能稳定;
(4)打磨过程可对砂轮进行喷淋水冷同时降低打磨过程产生的灰尘量,配备抽接口可进一步实现残余灰尘的去除。

Claims (8)

1.一种单晶硅边皮料打磨除胶装置,其特征在于:该装置包括机架、安装在机架上的可侧倾的输送装置、安装在输送装置侧部的若干个随动贴合打磨组件、安装在输送装置上部的单晶边皮料随动下压组件;单晶边皮料由输送装置依次运送经过若干个打磨组件,打磨组件的砂轮对单晶边皮料带胶端面进行贴合式打磨。
2.根据权利要求1所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,其特征在于:打磨组件包括马达、安装在马达上的砂轮及马达的支撑结构,其中支撑结构可通过支撑臂摆动或平动,使得砂轮可随着单晶边皮料的运动自如地贴合在被打磨工件端面,砂轮贴合被打磨工件端面的力量由配重调节装置提供。
3.根据权利要求2所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,其特征在于:所述配重调节装置为配重砝码装置、弹力装置、电磁力装置、气动装置、液压装置中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,其特征在于:输送装置既可水平放置,也可根据实际要求横向翻转一定角度。
5.根据权利要求4所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,其特征在于:所述输送装置横向翻转的角度为-90°至90°。
6.根据权利要求1所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,其特征在于:若干打磨组件各自可设定单晶边皮带胶端面的打磨高度,若干打磨组件对单晶边皮带胶端面的打磨高度部分重叠和/或全部重叠。
7.根据权利要求1所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,其特征在于:所述下压组件由若干根可上下自由升降的辊棒组成,靠自身、支撑结构及配重的重力对被单晶边皮料提供向下压力。
8.根据权利要求1所述的单晶硅边皮料打磨除胶装置,其特征在于:该装置配有喷淋除尘装置。
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