CN211190179U - 一种搅拌均匀的反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种搅拌均匀的反应釜，包括反应釜本体，反应釜本体下方设置有固定反应釜本体的底座，所述反应釜本体内设置有搅拌轴，搅拌轴伸入反应釜本体内的一端固定连接有若干搅拌叶片，搅拌轴伸出反应釜本体的一端设置有带动搅拌轴转动的转动机构和同时带动搅拌轴上下移动的移动机构。本实用新型其具有将反应釜内的反应物进行充分搅拌的效果。

Description

一种搅拌均匀的反应釜

技术领域

本实用新型涉及反应釜的技术领域，尤其是涉及一种搅拌均匀的反应釜。

背景技术

反应釜是综合反应容器，用来完成水解、中和、结晶、蒸馏、蒸发、储存、恒温反应等工艺过程的容器。在反应过程中需要对反应物进行搅拌，使反应物充分接触，使反应效率提高。如公告号为CN209020380U的中国实用新型专利公开了一种混合均匀的反应釜，包括延伸到反应釜内部的齿条，齿条露出反应釜的一端设置有带动齿条传动的驱动电机，齿条伸入反应釜内部的一端啮合有从动齿轮，从动齿轮中心穿过搅拌轴，搅拌轴上固定连接有主搅拌桨和从搅拌桨，搅拌轴两端通过轴承与反应釜内壁转动连接，驱动电机开启时带动齿条传动，齿条带动从动齿轮和搅拌轴转动，搅拌轴带动主搅拌桨和从搅拌桨转动，从而实现对反应釜内反应物的搅拌。但在实际应用中，若反应物不互溶时会出现分层现象，搅拌桨若只在下层搅拌时，会使在上下两层的反应物不能充分接触，从而影响反应度率。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种搅拌均匀的反应釜，其具有将反应釜内的反应物进行充分搅拌的效果。

本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的：一种搅拌均匀的反应釜，包括反应釜本体，反应釜本体下方设置有固定反应釜本体的底座，所述反应釜本体内设置有搅拌轴，搅拌轴伸入反应釜本体内的一端固定连接有若干搅拌叶片，搅拌轴伸出反应釜本体的一端设置有带动搅拌轴转动的转动机构和同时带动搅拌轴上下移动的移动机构。

通过采用上述技术方案，转动机构可以带动搅拌轴和搅拌叶片转动，从而对反应物进行搅拌，移动机构可以使搅拌轴带动搅拌叶片上下移动，从而使反应物进行上下方向的搅拌，并且在搅拌轴上下移动时，电机能够保持在原位，可以使搅拌过程更加稳定。

本实用新型进一步设置为：所述转动机构包括设置在搅拌轴表面的一圈搅拌齿和第一电机，第一电机一端的轴体固定连接有与搅拌齿啮合的转动盘。

通过采用上述技术方案，开启第一电机后，第一电机带动转动盘转动，转动盘通过搅拌齿带动搅拌轴和搅拌叶片转动，搅拌齿的长度时搅拌轴在上下移动时始终保持与转动盘啮合，从而对反应釜本体内的反应物进行搅拌。

本实用新型进一步设置为：所述移动机构包括夹持所述搅拌轴的夹持件，夹持件一端固定连接有杆体，杆体远离夹持件的一端设置有带动杆体摆动的第二电机。

通过采用上述技术方案，第二电机开启时，第二电机带动杆体和夹持件绕第二电机的轴体摆动，夹持件带动搅拌轴上下移动，从而对反应物进行上下方向的搅拌。

本实用新型进一步设置为：所述搅拌轴上固定连接有两个固定块，固定块之间形成凹槽，所述夹持件与凹槽插接。

通过采用上述技术方案，当夹持件绕第二电机的轴体摆动时，夹持件带动搅拌轴上下移动，搅拌轴带动搅拌叶片上下移动，从而使搅拌叶片在上下方向对反应物进行搅拌。

本实用新型进一步设置为：所述夹持件与凹槽插接的末端转动连接有轮子。

通过采用上述技术方案，在搅拌轴上下移动时，搅拌轴也在转动，轮子可以减小夹持件与凹槽之间的摩擦。

本实用新型进一步设置为：所述搅拌轴远离反应釜本体的一端套接有套管，套管远离反应釜本体一端固定连接有顶板，顶板与底座之间通过立柱固定连接。

通过采用上述技术方案，搅拌轴在套管内上下移动，可以使搅拌轴保持竖直。

本实用新型进一步设置为：所述搅拌轴在搅拌齿两端固定连接有防止所述转动盘与搅拌齿脱离的挡块。

通过采用上述技术方案，挡块可以限制转动盘与搅拌齿啮合，不会从搅拌齿上脱离。

本实用新型进一步设置为：所述转动机构与移动机构设置在箱体内。

通过采用上述技术方案，箱体可以保护转动机构和移动机构减小被挥发化学药品的腐蚀。

综上所述，本实用新型的有益技术效果为：

1.转动机构可以带动搅拌轴和搅拌叶片转动，从而对反应物进行搅拌，移动机构可以使搅拌轴带动搅拌叶片上下移动，从而使反应物进行上下方向的搅拌；

2.开启第一电机后，第一电机带动转动盘转动，转动盘通过搅拌齿带动搅拌轴和搅拌叶片转动，从而对反应釜本体内的反应物进行搅拌；

3.第二电机开启时，第二电机带动杆体和夹持件绕第二电机的轴体摆动，夹持件带动搅拌轴上下移动，从而对反应物进行上下方向的搅拌。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是体现箱体内部的结构示意图。

图3是体现夹紧件的结构示意图。

图中，1、反应釜本体；2、支架；21、底座；22、立柱；23、顶板；24、套管；3、搅拌轴；31、搅拌叶片；32、搅拌齿；33、固定块；34、凹槽；35、挡块；4、第一电机；41、转动盘；5、第二电机；51、杆体；52、夹持件；53、轮子；6、箱体；61、安装块。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

参照图1，为本实用新型公开的一种搅拌均匀的反应釜，包括反应釜本体1，反应釜本体1外设置有用于支撑反应釜本体1的支架2。支架2包括底座21，底座21用于固定反应釜本体1。底座21上焊接有竖直的立柱22，立柱22远离底座21一端焊接有顶板23。

如图1和图2所示，反应釜本体1上端向反应釜本体1伸入有一根搅拌轴3，搅拌轴3伸入反应釜本体1的一端固定连接有三个搅拌叶片31。

如图2所示，搅拌轴3伸出反应釜本体1的一端设置有带动搅拌轴3转动的转动机构。转动机构包括在搅拌轴3表面设置的一圈搅拌齿32，通过拨动搅拌齿32使搅拌轴3转动。转动机构还包括第一电机4，第一电机4一端的轴体固定连接有与搅拌齿32啮合的转动盘41。第一电机4开启时，第一电机4带动转动盘41转动，转动盘41通过搅拌齿32带动搅拌轴3转动，从而使搅拌叶片31对反应釜本体1内的反应物进行搅拌。

反应物有时由于不同反应物之间不互溶，容易出现分层现象，此时搅拌叶片31不能够对反应物进行充分的混合，需要对反应物进行上下的搅拌，从而打破分层现象，使不同的反应物之间充分接触，从而提高反应速率。

如图2和图3所示，搅拌轴3上还设置有带动搅拌轴3上下移动的移动机构，移动机构包括固定连接在搅拌轴3上的两个环形固定块33，固定块33之间形成凹槽34。凹槽34两侧插接有夹持件52，夹持件52一端固定连接有杆体51，杆体51远离夹持件52的一端设置有第二电机5，第二电机5一端的轴体与杆体51固定连接。第二电机5可以带动杆体51和夹持件52进行上下方向的摆动，由于夹持件52在凹槽34之间，夹持件52带动固定块33上下移动，从而使固定块33带动搅拌轴3上下移动。

夹持件52与凹槽34插接的末端还转动连接有轮子53。由于搅拌轴3在上下移动的同时还有转动，轮子53可以在搅拌过程中减小夹持件52与固定块33之间的摩擦力。

如图2所示，搅拌齿32的长度足够长，可以使搅拌轴3在上下移动时，也能够与转动盘41啮合。搅拌轴3在搅拌齿32的两端分别固定连接有环形挡块35，挡块35可以阻止转动盘41从搅拌齿32上脱离。

如图2所示，搅拌轴3上上还设置有竖直的内部中空的套管24，套管24远离反应釜本体1的一端顶板23焊接，套管24与箱体6内部连通，搅拌轴3与套管24插接。搅拌轴3上下移动时不会从套管24内滑出。套管24可以使搅拌轴3在上下移动时保持竖直。

如图1和图2所示，转动机构和移动机构设置在箱体6内，可以防止转动机构和移动机构被挥发的化学药品腐蚀。第一电机4固定连接有安装块61，安装块61与箱体6内壁固定连接。第二电机5固定安装在箱体6内部底部。

本实施例的实施原理为：当反应釜内部的反应物需要搅拌时，开启第一电机4和第二电机5，搅拌轴3带动搅拌叶片31转动，对反应物进行搅拌。同时，第二电机5可以带动杆体51和夹持件52进行上下方向的摆动，由于夹持件52在凹槽34之间，夹持件52带动固定块33上下移动，从而使固定块33带动搅拌轴3上下移动，使反应物在上下方向得到充分搅拌。

本具体实施方式的实施例均为本实用新型的较佳实施例，并非依此限制本实用新型的保护范围，故：凡依本实用新型的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种搅拌均匀的反应釜，包括反应釜本体（1），反应釜本体（1）下方设置有固定反应釜本体（1）的底座（21），其特征在于：所述反应釜本体（1）内设置有搅拌轴（3），搅拌轴（3）伸入反应釜本体（1）内的一端固定连接有若干搅拌叶片（31），搅拌轴（3）伸出反应釜本体（1）的一端设置有带动搅拌轴（3）转动的转动机构和同时带动搅拌轴（3）上下移动的移动机构。

2.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的反应釜，其特征在于：所述转动机构包括设置在搅拌轴（3）表面的一圈搅拌齿（32）和第一电机（4），第一电机（4）一端的轴体固定连接有与搅拌齿（32）啮合的转动盘（41）。

3.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的反应釜，其特征在于：所述移动机构包括夹持所述搅拌轴（3）的夹持件（52），夹持件（52）一端固定连接有杆体（51），杆体（51）远离夹持件（52）的一端设置有带动杆体（51）摆动的第二电机（5）。

4.根据权利要求3所述的一种搅拌均匀的反应釜，其特征在于：所述搅拌轴（3）上固定连接有两个固定块（33），固定块（33）之间形成凹槽（34），所述夹持件（52）与凹槽（34）插接。

5.根据权利要求4所述的一种搅拌均匀的反应釜，其特征在于：所述夹持件（52）与凹槽（34）插接的末端转动连接有轮子（53）。

6.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的反应釜，其特征在于：所述搅拌轴（3）远离反应釜本体（1）的一端套接有套管（24），套管（24）远离反应釜本体（1）一端固定连接有顶板（23），顶板（23）与底座（21）之间通过立柱（22）固定连接。

7.根据权利要求2所述的一种搅拌均匀的反应釜，其特征在于：所述搅拌轴（3）在搅拌齿（32）两端固定连接有防止所述转动盘（41）与搅拌齿（32）脱离的挡块（35）。

8.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的反应釜，其特征在于：所述转动机构与移动机构设置在箱体（6）内。

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