CN210952133U

CN210952133U - 硅片烘干槽

Info

Publication number: CN210952133U
Application number: CN201922015222.1U
Authority: CN
Inventors: 左国军; 陈雷; 任金枝; 李雄朋; 成旭; 申斌; 谈丽文; 邱瑞
Original assignee: Changzhou Jiejiachuang Precision Machinery Co Ltd
Current assignee: Changzhou Jiejiachuang Precision Machinery Co Ltd
Priority date: 2019-11-20
Filing date: 2019-11-20
Publication date: 2020-07-07
Anticipated expiration: 2029-11-20

Abstract

本实用新型提出了一种硅片烘干槽，其包括槽体、硅片盒，硅片盒的下部设有匀流板，槽体的下部为通风口，硅片盒与匀流板之间还设有第一加热器，第一加热器靠近硅片盒底部，通风口与鼓风机连通，鼓风机与通风口之间设有第二加热器，鼓风机与通风口之间还设有过滤器，槽体包括储气腔，槽体可为封闭设计，热风经硅片盒后流入到抽风管，抽风管与所述鼓风机连通，抽风管通过缓冲腔与鼓风机连通，抽风管与鼓风机之间还设有除湿装置。与现有技术相比，本实用新型保证了热气能够均匀地从硅片盒的底部流经硅片盒，对硅片盒进行均匀、全面的烘干，大大降低了烘干时间，提升了产能。

Description

硅片烘干槽

技术领域

本实用新型涉及清洗设备，尤其涉及一种硅片烘干槽。

背景技术

随着太阳能光伏产业的发展，晶体硅电池向着低成本、高效率、大产量的趋势发展。随着对晶体硅电池的生产工艺的不断改进，电池的硅片在清洗的最后一道工艺会采用“冷水脱水”的方法以使得电池片拥有更好的电性能，因此在对硅片进行批量生产时，会有大量的冷水被带入烘干槽，在现有的设计上，高压鼓风机抽环境风，经过加热器加热和过滤器过滤，送入烘干槽内，通过吹气管吹出，槽底部排出湿气，然而虽然有热风鼓入，但热风对硅片盒的作用并不均匀，很难快速、有效且全面地烘干硅片盒上的水，导致烘干槽的烘干效率较差，并且随着产量的增加，会堆积更多的湿气，导致烘干时间越来越长，严重影响产能，所以需要一种新的烘干槽。

实用新型内容

为了解决现有技术中存在的硅片烘干槽烘干效率差的缺陷，本实用新型提出了一种硅片烘干槽。

本实用新型提出的技术方案为：一种硅片烘干槽，包括槽体、设于所述槽体内的硅片盒，所述硅片盒的下部为热风通入侧，热风流经所述硅片盒并从所述硅片盒的上部流出，所述硅片盒的下部设有使热风均匀流经所述硅片盒的至少一层的匀流板。

所述槽体的下部设有通风口，所述硅片盒与匀流板之间还设有用于加热从所述通风口吹出的风的第一加热器，所述第一加热器靠近所述硅片盒底部设置。

进一步地，所述通风口与设置槽体外部的鼓风机连通，所述鼓风机转动以提供风量。

进一步地，所述鼓风机与所述通风口之间设有第二加热器。

进一步地，所述鼓风机与所述通风口之间还设有过滤器。

优选地，所述槽体包括储气腔，所述储气腔包括：与所述鼓风机连通进气口、所述通风口。

所述槽体为封闭设计，所述槽体的上端设有抽风管，所述热风流经所述硅片盒后流入到所述抽风管，所述抽风管与所述鼓风机连通。

优选地，所述抽风管通过缓冲腔与所述鼓风机连通。

进一步地，所述抽风管与鼓风机之间还设有除湿装置。

进一步地，所述槽体内还通入防止硅片氧化的保护气体。

与现有技术相比，本实用新型通过将硅片盒的下部设为热风通入侧，热风流经硅片盒并从硅片盒的上部流出，这样迎合了气体容易向上流动的特性，避免了从其他方向流动时无法均匀覆盖硅片盒每个部分，热风经过硅片盒之前被匀流板均匀地分散开来，使热气自硅片盒的下方流经硅片盒并从上方均匀流出，这样便保证了热气能够均匀地从硅片盒的底部流经硅片盒，对硅片盒进行均匀、全面的烘干，避免了热气不均匀导致的烘干效率差的问题，大大降低了烘干时间，提升了产能；同时，在靠近硅片盒的底部设有第一加热器，使热风直接作用于硅片盒上，达到对硅片盒迅速升温，快速烘干硅片盒上的水分，缩短烘干时间，提升了产量。

附图说明

图1是本实用新型硅片烘干槽的第一个实施例的结构示意简图；

图2是本实用新型硅片烘干槽的第二个实施例的结构示意简图；

图3是本实用新型硅片烘干槽的第三个实施例的结构示意简图；

图4是本实用新型中的匀流板的平面结构示意简图。

具体实施方式

本实用新型提出了一种硅片烘干槽，如图1所示，硅片烘干槽的第一个实施例，本实施例中的硅片烘干槽包括：槽体1和硅片盒2，硅片盒2设置在槽体1中以便对硅片进行烘干，硅片盒2中放置有叠合在一起的硅片。

具体地，槽体1的内部设有空腔，在槽体1的内壁上水平设置有的支撑部11，支撑部11设置为多个L型的支撑臂结构，L型支撑臂两两相对设置形成限位支撑架，硅片盒2设置在L型支撑臂与L型支撑臂之间，L型支撑臂的水平段支撑硅片盒，L型支撑臂的竖直段配合防止硅片盒2水平位移，在本实施例中，硅片盒2并列设有两组，则与之相对应的支撑部做出适应设置，以满足最合适的放置数量为最佳。

在槽体1的内壁还设有水平的第一加热器12，其中第一加热器12位于硅片盒2的下端且靠近硅片盒2设置，在本实施例中第一加热器12包括位于同一水平位置的两个，在槽体1的底部设有通风口13，通风口13用于为槽体1的内部提供风量，风流经第一加热器12进行加热后成为热风，热风流经硅片盒2对硅片盒2进行快速烘干，使湿气从槽体1的上部流出，由于第一加热器12靠近硅片盒2的底部，因此热量经其加热后的气体热量不易散失，热气集中、快速流经硅片盒2，湿气从上部排出，从而能够对硅片盒2快速烘干，大大提高了烘干的速度。

重要的是，在槽体1内部还设有水平设置的匀流板14，匀流板14设有不少于1块，匀流板14设置在第一加热器12的下部，匀流板14的下方是通风口13，从通风口13流入的风经匀流板14的作用后变的均匀且分散，均匀的风经第一加热器12加热后均匀地流向硅片盒2，需要说明的是，如图4所示，匀流板14的结构可以为在一块板体上设有多个均匀设置的小孔。

在槽体1的内壁上还设有吹气管15，吃气管15可均匀的设置多层，吹风管15用于吹向片盒侧面，从硅片盒2侧面吹风能够弥补从硅片盒的2下方吹风时存在的盲区，进而提升对硅片盒2的烘干效果。

如图2所示，硅片烘干槽的第二个实施例，本实施例中的硅片烘干槽包括：槽体1和硅片盒2（图中未示），其中槽体1内设有支撑部11，硅片盒2通过支撑部11水平设置在槽体1的内部，在硅片盒2的下部靠近硅片盒2的位置设有第一加热器12，且在第一加热器12的下方设有不少于1层的匀流板14，槽体1内侧还设有用于将气体向上吹动的吹气管15，需要说明的是，上述中的结构及其位置关系均与第一个实施例中所提出的相似。

在该实施例中的槽体1内还设有一个储气腔16，储气腔16设置在槽体1的内部左侧位置，储气腔16上设有与槽体1内部相通的通风口13，通风口13位于槽体1的下部，其具体位于匀流板14的下部，在储气腔16上还设有一个与外部气源相通的进气口161，进气口161位于储气腔16的左侧位置，进气口161与设置在外部的鼓风机3连通，鼓风机3转动从而向储气腔16内提供风量，鼓风机3提供的风先储存在储气腔16中，且风从通风口13吹到槽体1的下部，有了储气腔16，使从通风口13流出的风量稳定且持续，又进一步地保证了槽体1内部热风的均匀和稳定。

进一步地，在鼓风机3通入进气口131的通道上还依次设有第二加热器17和过滤器18，经过鼓风机3将高压气体输送至第二加热器17进行加热成为高温气体，这样便对槽体1内部所需的气体的温度有了保证，气体先经过第二加热器17加热，在热风输送过程中温度又所降低，热风再经过第一加热器12加热到足够的温度从而最大化的提高烘干效率，若没有第二加热器17则可能存在由于风速过快而导致第一加热器12加热不充分的情况发生，第二加热器17又保证了热风的温度，进一步地提高烘干效率；过滤器18的设置能够有效除去风中的杂质。

需要说明的是，本实施例中的槽体1的上部与外界连通，鼓风机3直接抽取外部环境的气体进行工作，内部的热风从通风口13进入后从槽体1的上部直接将湿气排出到大环境中。

如图3所示，硅片烘干槽的第三个实施例，本实施例中的硅片烘干槽包括：槽体1和硅片盒2（图中未示），其中槽体1内设有支撑部11，硅片盒2通过支撑部11水平设置在槽体1的内部，在硅片盒2的下部靠近硅片盒2的位置设有第一加热器12，且在第一加热器12的下方设有不少于1层的匀流板14，需要说明的是，上述中的结构及其位置关系均与第一、二个实施例中所提出的相似。

本实施例与第二个实施例的不同在于，本实施例中的气体为循环设置，下面就这一区别点作出具体说明。

本实施例中在槽体1为封闭设计且其底端设有不少于1个的通风口13，通风口13与外部的鼓风机3相连通，从鼓风机3到通风口13的通路上依次设有第二加热器17和过滤器18，第二加热器17和过滤器18的功能及作用与第二个实施例相同，这里不做赘述；在槽体1内的上端还设有抽风管19，槽体1的内部还设有缓冲腔20，抽风管19与缓冲腔20相连通且同时缓冲腔20还与设置在槽体1外部的鼓风机3相通从而形成一个完整的回路，鼓风机3开始工作将热风从槽体1的底部吹入槽体1，热风并均匀的流过硅片盒2，同时在鼓风机3的带动下将缓冲腔20内部的气体抽干，缓冲腔20形成一个负压腔，此时抽风管19将流过硅片盒2的热风抽取到缓冲腔20中，鼓风机3再抽取缓冲腔20中的风，以此进行气体循环。

进一步地，从缓冲腔20到鼓风机3之间的通路上还设有除湿装置21，加入除湿装置21可以避免内循环导致的湿气加重问题。

进一步地，由于本实施例中的内部气体为循环流动，因此，气体不会大量流动到外部，可以向槽内通入保护性气体(比如氮气)，保护气体用于防止硅片被氧化，以确保产品良率及性能，相比于将气体全部或大部分排放到外部环境烘干槽，本实施例则避免了由于槽内与槽外相通而造成保护气体会被大量排出，从而造成大量浪费以及保护性气体的浓度受到影响的问题。

本实用新型通过将硅片盒的下部设为热风通入侧，热风流经硅片盒并从硅片盒的上部流出，这样迎合了气体容易向上流动的特性，避免了从其他方向流动时无法均匀覆盖硅片盒每个部分，热风经过硅片盒之前被匀流板均匀地分散开来，使热气自硅片盒的下方流经硅片盒并从上方均匀流出，这样便保证了热气能够均匀地从硅片盒的底部流经硅片盒，对硅片盒进行均匀、全面的烘干，避免了热气不均匀导致的烘干效率差的问题，大大降低了烘干时间，提升了产能；同时，在靠近硅片盒的底部设有第一加热器，使热风直接作用于硅片盒上，达到对硅片盒迅速升温，快速烘干硅片盒上的水分，缩短烘干时间，提升了产量。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims

1.一种硅片烘干槽，包括槽体（1）、设于所述槽体内的硅片盒（2），其特征在于，所述硅片盒的下部为热风通入侧，热风流经所述硅片盒并从所述硅片盒的上部流出，所述硅片盒的下部设有使热风均匀流经所述硅片盒的至少一层的匀流板（14）。

2.根据权利要求1所述的硅片烘干槽，其特征在于，所述槽体的下部设有通风口（13），所述通风口与设置槽体外部的鼓风机（3）连通，所述鼓风机转动以向所述通风口吹风。

3.根据权利要求2所述的硅片烘干槽，其特征在于，所述鼓风机与所述通风口之间设有对吹入到所述通风口的风进行加热的第二加热器（17）。

4.根据权利要求3所述的硅片烘干槽，其特征在于，所述硅片盒与匀流板之间还设有用于加热从所述通风口吹出的风的第一加热器（12），所述第一加热器靠近所述硅片盒底部设置。

5.根据权利要求2所述的硅片烘干槽，其特征在于，所述鼓风机与所述通风口之间还设有过滤器（18）。

6.根据权利要求2所述的硅片烘干槽，其特征在于，所述槽体包括储气腔（16），所述储气腔包括：与所述鼓风机连通进气口（161）、所述通风口（13）。

7.根据权利要求2所述的硅片烘干槽，其特征在于，所述槽体为封闭设计，所述槽体的上端设有抽风管（19），所述热风流经所述硅片盒后流入到所述抽风管，所述抽风管与所述鼓风机连通。

8.根据权利要求7所述的硅片烘干槽，其特征在于，所述抽风管通过缓冲腔（20）与所述鼓风机连通。

9.根据权利要求7所述的硅片烘干槽，其特征在于，所述抽风管与鼓风机之间还设有除湿装置（21）。

10.根据权利要求7所述的硅片烘干槽，其特征在于，所述槽体内还通入防止硅片氧化的保护气体。