CN210590137U - 一种子午胎除氧站低真空连续排水装置 - Google Patents

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于石磊
杜明敏
杨兴喜
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Abstract

本实用新型公开了一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,包括固定在底座上的真空泵、加热罐和输入罐组,所述输入罐组由若干个低真空罐组成,低真空罐顶部设置带有进水口的进水管,所述真空泵和加热罐分别通过连接管道和输气管与输入罐组相连接,在连接管道和输气管前端均设有总控管,所述总控管前端具有多个分流管,分流管与低真空罐一一对应连接;本装置通过在连接管道和输气管上均设置具有多个分流管的总控管,并在分流管上设置单控阀,工作时,单个低真空罐上的单控阀打开而其余低真空罐上的单控阀关闭,形成一个低真空罐与真空泵、加热罐的连接回路,保证设备正常运行的同时,能够对其余的低真空罐进行排水清理工作,从而保证不间断排水工作。

Description

一种子午胎除氧站低真空连续排水装置
技术领域
本实用新型涉及排水装置,具体是一种子午胎除氧站低真空连续排水装置。
背景技术
子午胎是指胎体帘布层中从一个胎圈到另一个胎圈的帘线与胎面中心线大体呈90°角排列的充气轮胎,子午胎的结构特征主要表现在带束层是主要受力部件,中国专利公告号CN207172796U提出了一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,采用但低真空罐,并利用压力系统来控制排水,但在实际工作中,单一的低真空罐在进行排水时,势必会造成内部压力的不均衡,影响正常工作,而当出现问题时,也无法保证生产的正常进行。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,包括固定在底座上的真空泵、加热罐和输入罐组,所述输入罐组由若干个低真空罐组成,低真空罐顶部设置带有进水口的进水管,所述真空泵和加热罐分别通过连接管道和输气管与输入罐组相连接,在连接管道和输气管前端均设有总控管,所述总控管前端具有多个分流管,分流管与低真空罐一一对应连接,在每个分流管上均设有一个与电控箱相连接的单控阀,在电控箱上还设有与真空泵、加热罐相连接的气路管。
所述低真空罐底部设有压力管,压力管固定在支撑台上,支撑台固定在底座上,在底座内设有水槽,水槽顶部连接有多个排水管,排水管与低真空罐一一对应相连接,在排水管上设有电控阀,电控阀与电控箱相连接,所述压力管内设有与其滑动连接的活塞,活塞底部连接有弹簧杆,在活塞下方设有固定在压力管内壁上的搭台,搭台上设有触碰开关,触碰开关通过电控箱与和其对应的电控阀相连接。
作为本实用新型的优选方案:在分流管上设有连接法兰,所述连接法兰位于单控阀和低真空罐之间。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本装置通过在连接管道和输气管上均设置具有多个分流管的总控管,并在分流管上设置单控阀,工作时,单个低真空罐上的单控阀打开而其余低真空罐上的单控阀关闭,形成一个低真空罐与真空泵、加热罐的连接回路,保证设备正常运行的同时,能够对其余的低真空罐进行排水清理工作,从而保证不间断排水工作。
附图说明
图1为本实用新型的结构俯视图。
图2为本实用新型中真空泵和加热罐的连接结构图。
图3为本实用新型中低真空罐的部分结构示意图。
图4为本实用新型另一种实施例中低真空罐的连接结构俯视图。
图中1-底座,2-电控箱,3-真空泵,4-加热罐,5-总控管,6-分流管,7-单控阀,8-低真空罐,9-进水管,10-进水口,11-气路管,12-连接管道,13-输气管,14-压力管,15-活塞,16-弹簧杆,17-搭台,18-触碰开关,19-排水管,20-电控阀,21-支撑台,22-水槽,23-连接法兰。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
实施例1:
请参阅图1-3,一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,包括固定在底座1上的真空泵3、加热罐4和输入罐组,所述输入罐组由若干个低真空罐8组成,低真空罐8顶部设置带有进水口10的进水管9,所述真空泵3和加热罐4分别通过连接管道12和输气管13与输入罐组相连接,在连接管道12和输气管13前端均设有总控管5,所述总控管5前端具有多个分流管6,分流管6与低真空罐8一一对应连接,在每个分流管6上均设有一个与电控箱2相连接的单控阀7,在电控箱2上还设有与真空泵3、加热罐4相连接的气路管11,在装置进行工作时,通过电控箱2的设置,使得单个低真空罐8上的单控阀7打开而其余低真空罐8上的单控阀7关闭,形成一个低真空罐8与真空泵3、加热罐4的连接回路,保证设备正常运行的同时,能够对其余的低真空罐8进行排水清理工作,从而保证不间断排水工作。
具体的,所述低真空罐8底部设有压力管14,压力管14固定在支撑台21上,支撑台21固定在底座1上,在底座1内设有水槽22,水槽22顶部连接有多个排水管19,排水管19与低真空罐8一一对应相连接,在排水管19上设有电控阀20,电控阀20与电控箱2相连接,在装置工作过程中,低真空罐8中会不断的积存冷凝水,当积存过多时,会影响低真空罐8的正常工作,冷凝水会向压力管14内流动并使压力管14内组件承受的压力上升,当压力超过一定值时,会通过电控箱2启动电控阀20使排水管19打开进行排水工作,并且同步关闭与此低真空罐8相连接的单控阀7、打开另一低真空罐8上的单控阀7,保证设备的正常工作;具体的,所述压力管14内设有与其滑动连接的活塞15,活塞15底部连接有弹簧杆16,在活塞15下方设有固定在压力管14内壁上的搭台17,搭台17上设有触碰开关18,触碰开关18通过电控箱2与和其对应的电控阀20相连接,冷凝水对活塞15施压使活塞15下降,当活塞15与触碰开关18接触后,启动排水工作。
实施例2:
参阅图4,在实施例1的基础之上,为了方便进行低真空罐8的拆卸维护,在分流管6上设有连接法兰23,所述连接法兰23位于单控阀7和低真空罐8之间,在进行维护前后、对于低真空罐8的安装拆卸都十分方便。
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (5)

1.一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,包括固定在底座(1)上的真空泵(3)、加热罐(4)和输入罐组,其特征在于,所述输入罐组由若干个低真空罐(8)组成,低真空罐(8)顶部设置带有进水口(10)的进水管(9),所述真空泵(3)和加热罐(4)分别通过连接管道(12)和输气管(13)与输入罐组相连接,在连接管道(12)和输气管(13)前端均设有总控管(5),所述总控管(5)前端具有多个分流管(6),分流管(6)与低真空罐(8)一一对应连接,在每个分流管(6)上均设有一个与电控箱(2)相连接的单控阀(7),在电控箱(2)上还设有与真空泵(3)、加热罐(4)相连接的气路管(11)。
2.根据权利要求1所述的一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,其特征在于,所述低真空罐(8)底部设有压力管(14),压力管(14)固定在支撑台(21)上,支撑台(21)固定在底座(1)上,在底座(1)内设有水槽(22),水槽(22)顶部连接有多个排水管(19),排水管(19)与低真空罐(8)一一对应相连接,在排水管(19)上设有电控阀(20),电控阀(20)与电控箱(2)相连接。
3.根据权利要求2所述的一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,其特征在于,所述压力管(14)内设有与其滑动连接的活塞(15),活塞(15)底部连接有弹簧杆(16),在活塞(15)下方设有固定在压力管(14)内壁上的搭台(17),搭台(17)上设有触碰开关(18),触碰开关(18)通过电控箱(2)与和其对应的电控阀(20)相连接。
4.根据权利要求1或2所述的一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,其特征在于,在分流管(6)上设有连接法兰(23)。
5.根据权利要求4所述的一种子午胎除氧站低真空连续排水装置,其特征在于,所述连接法兰(23)位于单控阀(7)和低真空罐(8)之间。
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