CN210426901U - 质谱检漏真空腔体和质谱检漏设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于箱体密封性检测技术领域，解决了现有技术在质谱检漏过程中待测箱体的箱壁容易产生变形的问题，提供了一种质谱检漏真空腔体和质谱检漏设备。该质谱检漏真空腔体包括上盖体和下盖体，上盖体盖设在下盖体上，上盖体内位于待测箱体的上部设有若干支撑杆，支撑杆的数量与待测箱体壁面凹陷处的数量相匹配，支撑杆一端向与该支撑杆对应的待测箱体壁面凹陷处延伸并与该支撑杆对应的待测箱体壁面凹陷处相抵持。本实用新型在待测箱体壁面的凹陷处设置支撑杆进行支撑，直接对凹陷处提供支撑，同时也为待测箱体壁面凹陷处周围的壁面提供了支撑，提高了检测过程中待测箱体的整体强度，保证待测箱体的箱壁不会产生变形而导致产品报废。

Description

质谱检漏真空腔体和质谱检漏设备

技术领域

本实用新型属于箱体密封性检测技术领域，具体是一种质谱检漏真空腔体和质谱检漏设备。

背景技术

质谱检漏技术已在科研和工业部门得到广泛应用，其主要优点是可在各种检测工况条件下实现泄漏率的定量检测，且其检漏分辨率高、测量范围广，特别适用于微小泄漏率的精确测定。

为解决质谱检漏设备真空腔体气密性差、开合步骤繁琐及检漏效率低的问题，实用新型专利CN207180961U公开了一种具有真空腔体的质谱检漏设备，其技术方案中用于真空腔体结构如图1所示，该真空腔体包括上盖体21及下盖体22，该上盖体盖设在下盖体上，在上盖体与下盖体之间形成有容纳腔，将待测箱体安放在下盖体的板体上，并将上盖体与下盖体盖合后便可对待测箱体进行检测。采用该技术方案向待测箱体充示踪气体过程中，由于待测箱体内部的大气压强大于待测箱体外部的大气压强，容易导致待测箱体的箱壁产生变形，造成产品报废。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种质谱检漏真空腔体和质谱检漏设备，用以解决现有技术中存在的质谱检漏过程中待测箱体的箱壁容易产生变形的问题。

本实用新型采用的技术方案是：

一种质谱检漏真空腔体，包括上盖体和下盖体，所述上盖体盖设在所述下盖体上，所述上盖体与所述下盖体之间形成容纳待测箱体的容纳腔，且待测箱体置于所述下盖体上；

所述上盖体内位于所述待测箱体的上部设有若干支撑杆，所述支撑杆的数量与所述待测箱体上壁面凹陷处的数量相匹配；所述支撑杆的一端向与该支撑杆对应的待测箱体壁面凹陷处延伸并与该支撑杆对应的待测箱体壁面凹陷处相抵持。

作为优选，所述质谱检漏真空腔体还包括设于所述上盖体内的支撑板，所述支撑板位于支撑杆背离待测箱体的一侧，且所述支撑杆背离待测箱体的一端固连在支撑板上，所述支撑板可拆卸连接在上盖体的内壁上。

作为优选，所述上盖体内侧顶壁上安装有至少两个锁固气缸，两个所述锁固气缸分别设于所述支撑板的两侧，两所述锁固气缸的活塞端相对设置，且所述锁固气缸的活塞端上设有卡持件，两所述锁固气缸的上的卡持件卡持支撑板于上盖体上。

作为优选，所述质谱检漏真空腔体还包括控制装置和升降装置，所述下盖体安装在所述升降装置上；所述控制装置与升降装置电连接，并控制升降装置带动下盖体及待测箱体上升或下降；

所述支撑板上安装有测距传感器，所述测距传感器的测量方向与待测箱体相对，当测距传感器测量待测箱体的距离降低至预设距离时，测距传感器生成停止信号；所述控制装置与测距传感器电连接，控制装置接收所述停止信号，并控制升降装置停止。

作为优选，所述支撑板上设有多个减重孔。

作为优选，在安装支撑板的状态下，所述支撑板下方设有支撑架，所述支撑架安放在下盖体上，支撑架支撑支撑板至两所述锁固气缸的卡持件卡持支撑板于上盖体上。

作为优选，所述支撑杆至少为三根，三根所述支撑杆分别与凹陷深度最深的三个待测箱体壁面凹陷处相对应。

作为优选，所述支撑杆可拆卸连接在上盖体内。

作为优选，所述下盖体与所述上盖体接合面上的设有密封胶条。

一种质谱检漏设备，包括上述任意一种质谱检漏真空腔体。

综上所述，本实用新型的有益效果如下：

本实用新型在待测箱体壁面的凹陷处设置支撑杆进行支撑，一方面直接对凹陷处提供支撑，从而防止凹陷处产生变形；另一方面也为待测箱体壁面凹陷处周围的壁面提供了支撑，从而保证凹陷处周围的壁面的强度，提高了检测过程中待测箱体的整体强度，保证待测箱体的箱壁不会产生变形而导致产品报废。

附图说明

图1为现有技术中真空腔体的结构示意图；

图2为本实用新型实施例1中真空腔体在检测状态下的结构示意图；

图3为本实用新型实施例2中真空腔体在检测状态下的结构示意图；

图4为本实用新型实施例3中真空腔体在检测状态下的结构示意图；

图5为本实用新型实施例4中真空腔体在检测状态下的结构示意图；

图6为本实用新型实施例5中真空腔体在检测状态下的结构示意图；

图7为本实用新型实施例5中真空腔体在安装支撑板状态下的结构示意图；

图8为图7中A处的局部放大结构示意图。

附图标记说明：

1、待测箱体；2、测箱体壁面凹陷处；3、支撑杆；4、支撑板；5、锁固气缸；6、容纳腔；7、卡持件；8、支撑架；9、测距传感器；10、减重孔；21、上盖体；22、下盖体。

具体实施方式

下面将详细描述本实用新型的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本实用新型，并不被配置为限定本实用新型。对于本领域技术人员来说，本实用新型可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本实用新型的示例来提供对本实用新型更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

实施例1：

如图2所示，本实用新型实施例1公开了一种质谱检漏真空腔体，质谱检漏真空腔体用于检测图2中所示的待测箱体1，该检测箱体的上壁面上具有三处凹陷。质谱检漏真空腔体包括上盖体21和下盖体22，所述上盖体21盖设在所述下盖体22上，所述上盖体21与所述下盖体22之间形成容纳待测箱体1的容纳腔6，且待测箱体1置于所述下盖体22上。

所述上盖体21内位于所述待测箱体1的上部设有三根竖直设置的支撑杆3，三根所述支撑杆3的上端焊接在上盖体21的内侧顶壁上，三根所述支撑杆3的下端向待测箱体1壁面上的三处凹陷处延伸，并且三根支撑杆3的下端分别与该三处凹陷处相抵持。

该质谱检漏真空腔体的工作原理为：向待测箱体1内部充入示踪气体，并向质谱检漏真空腔体内部抽真空，检测待测箱体1是否存在泄露(检测方法为常规的质谱检漏方法)。在检测过程中，首先，三根支撑杆3为待测箱体1壁面上的三处凹陷处提供支撑，从而防止凹陷处产生变形；然后，支撑杆3支撑住凹陷处也为待测箱体1壁面凹陷处周围的壁面提供了支撑，从而保证凹陷处周围的壁面的强度，提高了检测过程中待测箱体1的整体强度，进一步保证待测箱体1的箱壁不会产生变形而导致产品报废。

实施例2：

如图3所示，本实用新型实施例2公开了一种质谱检漏真空腔体，实施例2中质谱检漏真空腔体在实施例1中质谱检漏真空腔体的结构上进行改进，具体为实施例2中质谱检漏真空腔体的支撑杆3均为切斜设置在上盖体21内。

实施例2中质谱检漏真空腔体的其余结构和工作原理同实施例1中质谱检漏真空腔体。

实施例3：

如图4所示，本实用新型实施例3公开了一种质谱检漏真空腔体，实施例3中质谱检漏真空腔体在实施例1中质谱检漏真空腔体的结构上进行改进，具体为实施例3中质谱检漏真空腔体的支撑杆3为螺纹连接在上盖体21上，即支撑杆3的上端设有外螺纹，上盖体21的内侧顶壁上相对每个支撑杆3设有一个螺纹孔，该螺纹孔为盲孔，支撑杆3的上端螺纹连接在上盖体21的内侧顶壁上的螺纹孔内。

如此设置，实施例3的质谱检漏真空腔体中每个支撑杆3可拆卸，当需要检测凹陷深度不同待测箱体1时，可更换不同长度的支撑杆3以匹配不同凹陷深度的待测箱体1壁面凹陷处(凹陷深度为待测箱体1壁面凹陷处最低点所在的平面与待测箱体1上高度最高一点所在的平面之间的高度差)，从而扩大质谱检漏真空腔体的使用范围。

实施例3中质谱检漏真空腔体的其余结构和工作原理同实施例1中质谱检漏真空腔体。

实施例4：

如图5所示，本实用新型实施例5公开了一种质谱检漏真空腔体，该质谱检漏真空腔体包括上盖体21和下盖体22，所述上盖体21盖设在所述下盖体22上，所述上盖体21与所述下盖体22之间形成容纳待测箱体1的容纳腔6，且待测箱体1置于所述下盖体22上。所述上盖体21内位于所述待测箱体1的上部设有支撑板4和三根竖直设置的支撑杆3，支撑板4位于三根支撑杆3的上方，支撑板4平行于上盖体21内侧顶壁设置，支撑板4和三根竖直设置的支撑杆3共同组成支撑组件。

在上盖体21内侧顶壁上安装有两个锁固气缸5，两个所述锁固气缸5分别设于所述支撑板4的两侧，两所述锁固气缸5的活塞端相对设置，且所述锁固气缸5的活塞端上设有卡持件7，卡持件7的上表面与上盖体21内侧顶壁平行，且卡持件7的上表面与上盖体21内侧顶壁之间设有间隙，该间隙大于支撑板4厚度1-2mm。

三根所述支撑杆3的上端固连在支撑板4上，三根所述支撑杆3的下端向待测箱体1壁面上的三处凹陷处延伸，且三根支撑杆3的下端分别与该三处凹陷处相抵持。

实施例4中质谱检漏真空腔体中支撑板4的安装、拆卸原理为：初始状态锁固气缸5的活塞端收缩于锁固气缸5内，支撑板4升起至支撑板4上表面与上盖体21内侧顶壁接触，此时锁固气缸5活塞端伸长，使卡持件7移动至支撑板4下方，将支撑板4安装在上盖体21上。拆卸时，锁固气缸5的活塞端收缩，带动卡持件7缩回，将支撑板4拆卸下来。

如此设置，实施例4的质谱检漏真空腔体中支撑组件可拆卸下来，而对应不同型号的待测箱体1可制作与不同型号的与待测箱体1相匹配的支撑组件；当需要检测另一种类型的待测箱体1时，可更换不同型号的支撑组件与该类型的待测箱体1相互匹配，从而使质谱检漏真空腔体能够检测不同型号的待测箱体1。

实施例4中质谱检漏真空腔体的检测原理同实施例1中质谱检漏真空腔体。

实施例5：

本实用新型实施例5公开了一种质谱检漏真空腔体。该质谱检漏真空腔体分为两种工作状态，第一种工作状态如图6为检测状态，第二种工作状态如图7所示为安装支撑板4状态。该质谱检漏真空腔体用于检测图6中所示的待测箱体1，从图6可以看出，该待测箱体1的壁面上具有多个凹陷处。

当质谱检漏真空腔体为检测状态时，质谱检漏真空腔体包括上盖体21、下盖体22、控制装置和升降装置，所述下盖体22安装在所述升降装置上。所述上盖体21盖设在所述下盖体22上，所述上盖体21与所述下盖体22之间形成容纳待测箱体1的容纳腔6，且待测箱体1置于所述下盖体22上。所述下盖体22与所述上盖体21接合面上的设有密封胶条，密封胶条可提高上盖体21与所述下盖体22之间的气密性。

所述上盖体21内位于所述待测箱体1的上部设有支撑板4和三根竖直设置的支撑杆3，支撑板4位于三根支撑杆3的上方，支撑板4平行于上盖体21内侧顶壁设置。同时在所述支撑板4上还设有多个减重孔10，以减小支撑板4的重量。而在支撑板4上也安装有测距传感器9，所述测距传感器9的测量方向向下设置，使测量方向与待测箱体1相对，控制装置分别与测距传感器9和升降装置电连接，并控制升降装置带动下盖体22及待测箱体1上升或下降。

在控制装置控制升降装置带动下盖体22及待测箱体1上升的过程中，测距传感器9实时检测测量待测箱体1的与测距传感器9之间的距离，当测距传感器9的测量数值下降至预设距离时，测距传感器9生成停止信号传输至控制装置，控制装置接收所述停止信号，并控制升降装置停止。当上盖体21盖设在所述下盖体22上时，测距传感器9检测的测量待测箱体1的与测距传感器9之间的距离为预设距离。

在上盖体21内侧顶壁上安装有四个锁固气缸5，四个所述锁固气缸5中两个锁固气缸5设于支撑板4的一侧，另外两个锁固气缸5设于支撑板4的另一侧。如图8所示，位于支撑板4两侧的锁固气缸5的的活塞端相对设置，且所述锁固气缸5的活塞端上设有卡持件7，卡持件7的上表面与上盖体21内侧顶壁平行，且卡持件7的上表面与上盖体21内侧顶壁之间设有间隙，该间隙大于支撑板4厚度1-2mm。

三根所述支撑杆3的上端焊接在支撑板4上，三根所述支撑杆3的下端向待测箱体1的壁面上凹陷深度最深的三个待测箱体1壁面凹陷处延伸，且三根支撑杆3的下端分别与该三处凹陷处相抵持。从图6可以看出待测箱体1的壁面上具有多个凹陷处，若对每个凹陷处都设置支撑杆3的话，这样成本会较高，因此仅在凹陷深度最深的三个待测箱体1壁面凹陷处设置支撑杆3，能够在保证待测箱体1强度的基础上，降低了成本。

当质谱检漏真空腔体为安装支撑板4状态时，质谱检漏真空腔体中并不具有待测箱体1，在支撑板4与下盖体22之间设有支撑架8，支撑板4放置在支撑架8上，支撑架8包括底板和设于底板四角的四根立柱，所述立柱竖直设置，且立柱的上端为锥状，支撑板4上对应四根立柱的位置设有圆孔，该圆孔的直径小于立柱的直径，则将支撑板4放置在支撑架8上时，支撑架8可准确定位支撑板4的位置。

而该支撑架8放置在下盖体22上，当上盖体21盖设在所述下盖体22上时，支撑架8支撑支撑板4至支撑板4上表面与上盖体21内侧顶壁接触。

实施例5中质谱检漏真空腔体中支撑板4的安装原理为：初始状态锁固气缸5的活塞端收缩于锁固气缸5内，按图7所示将支撑架8和支撑板4放置在下盖体22上，升降装置上升带动下盖体22、支撑架8和支撑板4升起至支撑板4上壁面与上盖体21内侧顶壁接触，此时锁固气缸5活塞端伸长，使卡持件7移动至支撑板4下方，将支撑板4安装在上盖体21上。升降装置带动下盖体22、支撑架8下降后将支撑架8取下，完成支撑板4的安装。

拆卸时，锁固气缸5的活塞端收缩，带动卡持件7缩回，将支撑板4拆卸下来。

实施例5中质谱检漏真空腔体中支撑板4的拆卸原理为：将支撑架8放置在下盖体22上，升降装置上升带动下盖体22、支撑架8升起至支撑架8与支撑板4接触，此时的活塞端收缩，带动卡持件7缩回，卡持件7不在对支撑板4卡持，支撑板4被支撑架8支撑，升降装置带动下盖体22、支撑架8下降后将支撑架8及支撑板4取下。

实施例5中的升降装置采用现有技术中的升降装置，如实用新型专利CN207180961U公开的一种具有真空腔体的质谱检漏设备中的升降机构，该升降机构通过气缸带动下盖体22向上或向下运动。

实施例5中质谱检漏真空腔体的检测原理同实施例1中质谱检漏真空腔体。

实施例6：

一种质谱检漏设备，包括质谱检漏真空腔体，该质谱检漏真空腔体为实施例1至实施例5中的任意一种质谱检漏真空腔体。

质谱检漏设备采用上述结构的质谱检漏真空腔体，在质谱检漏过程中待测箱体壁面的凹陷处有支撑杆进行支撑，一方面直接对凹陷处提供支撑，从而防止凹陷处产生变形；另一方面也为待测箱体壁面凹陷处周围的壁面提供了支撑，从而保证凹陷处周围的壁面的强度，提高了检测过程中待测箱体的整体强度，保证待测箱体的箱壁不会产生变形而导致产品报废。

以上对本实用新型所提供的质谱检漏真空腔体和质谱检漏设备进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容仅为本实用新型的实施方式，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.一种质谱检漏真空腔体，包括上盖体和下盖体，所述上盖体盖设在所述下盖体上，所述上盖体与所述下盖体之间形成容纳待测箱体的容纳腔，且待测箱体置于所述下盖体上；其特征在于，

所述上盖体内位于所述待测箱体的上部设有若干支撑杆，所述支撑杆的数量与所述待测箱体上壁面凹陷处的数量相匹配；所述支撑杆的一端向与该支撑杆对应的待测箱体壁面凹陷处延伸并与该支撑杆对应的待测箱体壁面凹陷处相抵持。

2.根据权利要求1所述的质谱检漏真空腔体，其特征在于，所述质谱检漏真空腔体还包括设于所述上盖体内的支撑板，所述支撑板位于支撑杆背离待测箱体的一侧，且所述支撑杆背离待测箱体的一端固连在支撑板上，所述支撑板可拆卸连接在上盖体的内壁上。

3.根据权利要求2所述的质谱检漏真空腔体，其特征在于，所述上盖体内侧顶壁上安装有至少两个锁固气缸，两个所述锁固气缸分别设于所述支撑板的两侧，两所述锁固气缸的活塞端相对设置，且所述锁固气缸的活塞端上设有卡持件，两所述锁固气缸的上的卡持件卡持支撑板于上盖体上。

4.根据权利要求2或3所述的质谱检漏真空腔体，其特征在于，所述质谱检漏真空腔体还包括控制装置和升降装置，所述下盖体安装在所述升降装置上；所述控制装置与升降装置电连接，并控制升降装置带动下盖体及待测箱体上升或下降；

所述支撑板上安装有测距传感器，所述测距传感器的测量方向与待测箱体相对，当测距传感器测量待测箱体的距离降低至预设距离时，测距传感器生成停止信号；所述控制装置与测距传感器电连接，控制装置接收所述停止信号，并控制升降装置停止。

5.根据权利要求2或3所述的质谱检漏真空腔体，其特征在于，所述支撑板上设有多个减重孔。

6.根据权利要求3所述的质谱检漏真空腔体，其特征在于，在安装支撑板的状态下，所述支撑板下方设有支撑架，所述支撑架安放在下盖体上，支撑架支撑支撑板至两所述锁固气缸的卡持件卡持支撑板于上盖体上。

7.根据权利要求1所述的质谱检漏真空腔体，其特征在于，所述支撑杆至少为三根，三根所述支撑杆分别与凹陷深度最深的三个待测箱体壁面凹陷处相对应。

8.根据权利要求1或7所述的质谱检漏真空腔体，其特征在于，所述支撑杆可拆卸连接在上盖体内。

9.根据权利要求1或7所述的质谱检漏真空腔体，其特征在于，所述下盖体与所述上盖体接合面上的设有密封胶条。

10.一种质谱检漏设备，其特征在于：包括如权利要求1至9任一项所述的质谱检漏真空腔体。

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