CN210403686U - 一种刻蚀机的翻片机构及刻蚀机的运输装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种刻蚀机的翻片机构及刻蚀机的运输装置，该翻片机构包括翻板、转轴和驱动件，翻板上设有多个翻片槽，转轴穿设在翻板上，驱动件与转轴相连，驱动件可驱动转轴转动。本实用新型的刻蚀机的翻片机构，采用翻板结构实现对硅片的翻片，简化了翻片机构的结构，降低了翻片机构的制造成本。此外，在翻片过程中没有直接作用在硅片上的吸力，既能够降低硅片的碎片几率，又降低了硅片受到污染的可能。

Description

一种刻蚀机的翻片机构及刻蚀机的运输装置

技术领域

本实用新型涉及光伏设备技术领域，尤其涉及一种刻蚀机的翻片机构及刻蚀机的运输装置。

背景技术

晶硅电池对工艺环境要求较高，当硅片加工完成后通常采用皮带进行运输，但皮带会对硅片抛光面造成污染。因此，在硅片刻蚀完成后需要采用翻片机构对硅片进行翻转，使非抛光面与皮带接触，避免皮带污染硅片的抛光面。现有翻片机机构采用吸盘式翻片结构，吸盘固定在旋转臂顶部电机驱动旋转臂进行翻转。工作时，吸盘接入压缩空气以吸住硅片，电机驱动旋转臂旋转，当硅片翻转到下料皮带上，吸盘内不再通入压缩空气，硅片即可被皮带运输至下一个工位。

现有的翻片机构具有以下缺点：

1、压缩空气的吸力会对硅片造成损伤，从而导致硅片的碎片几率很高，并且由于多晶硅片的本身材料性质低于单晶硅片，当翻转的硅片是多晶硅片时，碎片的几率会更大；

2、吸盘在工作一段时间后会吸附大量环境中的污染物，对硅片造成污染；

3、使用吸盘作为保持硅片的装置，需要额外配置气瓶和气体输送管道等附加结构，提升了翻片机构的生产成本。

实用新型内容

本实用新型的一个目的在于提出一种刻蚀机的翻片机构，该翻片机构的结构简单，制造成本较低，且能够较好地降低翻片过程的碎片几率以及污染几率。

本实用新型的另一个目的在于提出一种刻蚀机的运输装置，该运输装置能够较好降低硅片发生碎片的几率，并且能够较好地降低硅片被污染的几率。

为实现上述技术效果，本实用新型实施例的技术方案如下：

一种刻蚀机的翻片机构，包括：翻板，每个所述翻板上设有多个翻片槽；转轴，所述转轴穿设在所述翻板上；驱动件，所述驱动件与所述转轴相连，所述驱动件能够驱动所述转轴转动以带动所述翻板转动。

在一些实施例中，所述翻板为两个，两个所述翻板间隔设置，两个所述翻板之间的间距小于硅片的宽度。

在一些实施例中，所述翻板包括：缓冲环，所述缓冲环套设在所述转轴上；扇形片，所述扇形片为多个，多个所述扇形片沿所述缓冲环的周向均匀间隔分布，相邻两个所述扇形片之间的间隙形成为所述翻片槽。

在一些可选的实施例中，每个所述扇形片在周向方向的两个侧壁上均设有防滑层。

在一些可选的实施例中，所述缓冲环和所述扇形片均为塑料件。

在一些可选的实施例中，所述扇形片的厚度为2mm-4mm。

在一些可选的实施例中，所述翻片槽的宽度为2mm-4mm。

一种刻蚀机的运输装置，包括运输机构和前文所述的刻蚀机的翻片机构。

在一些实施例中，所述运输机构包括传送带，所述传送带为两个，两个所述传送带间隔设置，两个所述传送带之间的距离小于两个所述翻板之间的距离，每个所述传送带的一端均位于两个所述翻板之间。

在一些具体的实施例中，所述刻蚀机的运输装置还包括检测件，所述检测件位于所述传送带伸入所述两个所述翻板之间的一端的上方，所述检测件被配置为检测所述硅片是否到达所述传送带，当所述检测件检测到所述硅片到达所述传送带时，所述翻板停止转动且所述传送带开始运动。

本实用新型的刻蚀机的翻片机构，采用翻板结构实现对硅片的翻片，简化了翻片机构的结构，降低了翻片机构的制造成本。此外，在翻片过程中没有直接作用在硅片上的吸力，既能够降低硅片的碎片几率，又降低了硅片受到污染的可能。

本实用新型实施例的该运输装置，由于具有前文所述的刻蚀机的翻片机构，能够较好降低硅片发生碎片的几率，并且能够较好地降低硅片被污染的几率。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

图1是本实用新型具体实施方式提供的刻蚀机的翻片机构的立体图。

图2是本实用新型具体实施方式提供的刻蚀机的翻片机构的结构示意图。

图3是本实用新型具体实施方式提供的刻蚀机的运输装置的结构示意图。

图4是本实用新型具体实施方式提供的刻蚀机的运输装置的另一结构示意图。

附图标记：

1、翻板；11、扇形片；111、翻片槽；112、防滑层；12、缓冲环；

2、转轴；

3、传送带。

具体实施方式

为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征，用于区别描述特征，无顺序之分，无轻重之分。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面参考图1-图4描述本实用新型实施例的一种刻蚀机的翻片机构的具体结构。

如图1-图2所示，本实用新型实施例的刻蚀机的翻片机构包括翻板1、转轴2和驱动件，翻板1上设有多个翻片槽111，转轴2穿设在翻板1上，驱动件与转轴2相连，驱动件能够驱动转轴2转动以带动翻板1转动。

可以理解的是，在实际使用过程中，当加工完毕的硅片运动到翻片机构处时，硅片落入翻片槽111内。也就是说，翻板1能够起到支撑硅片的作用。当硅片落入翻片槽111内之后，驱动件驱动转轴2转动，从而带动翻板1转动，当翻板1转动过一定角度后硅片即可被翻片，然后再由运输机构运输至下一个工位。

本实用新型的刻蚀机的翻片机构，采用翻板1结构实现对硅片的翻片，简化了翻片机构的结构，降低了翻片机构的制造成本。此外，在翻片过程中没有直接作用在硅片上的吸力，既能够降低硅片的碎片几率，又降低了硅片受到污染的可能。

在一些实施例中，翻板1为两个，两个翻板1间隔设置，两个翻板1之间的间距小于硅片的宽度。可以理解的是，当翻板1只有一个时，为了保证翻板1能够稳定地承接硅片，需要将这个翻板1的厚度设置的较厚，这样增加了翻板1的重量，提升了翻板1运输与安装难度，提升了翻板1的制造成本。而在本实施例中，翻板1为间隔设置的两个，采用两个翻板1承接硅片不但能够提升硅片的稳定性，还能减小翻板1的厚度，从而降低翻板1的运输与装配难度，降低翻板1的生产成本。

在一些实施例中，如图2所示，翻板1包括缓冲环12和扇形片11，缓冲环12套设在转轴2上，扇形片11为多个，多个扇形片11沿缓冲环12的周向均匀间隔分布，相邻两个扇形片11之间的间隙形成为翻片槽111。可以理解的是，当硅片由上个工位落入翻片槽111时，硅片很有可能与翻片槽111的底壁发生碰撞，从而提升硅片的碎片几率。而在本实用新型中，相邻两个扇形片11之间的间隙形成为翻片槽111，也就是说，当硅片由上个工位落入翻板1时，与硅片发生碰撞的是缓冲环12，缓冲环12能够极大地降低对硅片的作用力，从而降低硅片的碎片几率。

需要补充说明的是，多个扇形片11沿缓冲环12的周向均匀间隔分布，相邻两个扇形片11之间的间隙形成为翻片槽111。也就是说，多个翻片槽111沿缓冲环12的轴向方向均匀分布。由于目前刻蚀机有5道、8道等多道同时作业生产，其中一道或多道到达翻片机构时，需要每一个硅片能够稳定地落在翻片槽111内，因此，多个翻片槽111沿缓冲环12的轴向方向均匀分布能够保证每一个硅片能够稳定地落在翻片槽111内，避免了硅片跌落至其他位置的可能，从而保证了刻蚀机的翻片装置的可靠性。此外，在本实用新型的实施例中，缓冲环12和扇形片11可以是一体成型也可以是两个零件通过过盈配合连接。

在一些可选的实施例中，如图2所示，每个扇形片11在周向方向的两个侧壁上均设有防滑层112，防滑层112被配置为增大硅片与扇形片11之间的摩擦力。可以理解的是，由于硅片的宽度大于两个翻板1之间的间距，因此，在转轴2带动翻板1转动的过程中，硅片可能会发生晃动，这样可能会提升硅片碎片的风险。而在本实用新型中，每个扇形片11在周向方向的两个侧壁上均设有增大摩擦力防滑层112，这样保证了硅片在翻板1转动的过程中能够稳定地保持在某个位置，避免了硅片发生晃动，从而降低了硅片发生碎片的几率。此外，防滑层112可以通过粗糙处理直接形成在扇形片11上，也可以是其他材料的制成的防滑层112通过粘接等方式连接在扇形片11上。

这里需要补充说明的是，防滑层112的主要作用是增大扇形片11的侧壁与硅片之间的摩擦力，在此不对防滑层112的材质及厚度做出具体限定，防滑层112的材质及厚度可以根据实际需要做出选择。

在一些可选的实施例中，缓冲环12和扇形片11均为塑料件。可以理解的是，缓冲环12和扇形片11为塑料件能够避免翻板1污染硅片的现象发生，并且缓冲环12和扇形片11为塑料件能够较好地降低硅片落入翻片槽111时缓冲环12和扇形片11对硅片产生的冲击力，从而降低了硅片的碎片几率。

这里需要额外说明的是，在本实用新型的其他实施例中，缓冲环12和扇形片11的材料可以根据实际需要选择其他材料，并不限于本实施例的塑料。

在一些可选的实施例中，扇形片11的厚度为2mm-4mm。可以理解的是，扇形片11的厚度过小会降低扇形片11的强度，降低了扇形片11对硅片支撑作用，提升了硅片跌落的风险，而扇形片11的厚度过大会导致扇形片11的刚度较大，提升了硅片落入翻片槽111时扇形片11与硅片的冲击力，从而提升了硅片的碎片几率。而在本实施例中，扇形片11的厚度在2mm-4mm的范围内，既能保证扇形片11能够稳定地支撑硅片，降低硅片跌落的可能，又在一定程度上控制了扇形片11的刚度，降低了硅片落入翻片槽111时扇形片11对硅片的冲击力，从而降低了硅片的碎片几率。当然，在本实用新型的其他实施例中，扇形片11可以的厚度可以根据实际需要选择，并不限于本实施例的2mm-4mm。

在一些可选的实施例中，翻片槽111的宽度为2mm-4mm。可以理解的是，翻片槽111的宽度过小会增大硅片跌落的风险，而翻片槽111的宽度过大会增加硅片在翻片槽111内晃动的风险。在本实施例中，翻片槽111的宽度在2mm-4mm的范围内，既降低了硅片跌落的可能，又降低了硅片晃动的可能，从而进一步降低了硅片的碎片几率。当然，在本实用新型的其他实施例中，翻片槽111的厚度可以根据实际需要选择，并不限于本实施例的2mm-4mm。

在一些可选的实施例中，驱动件为步进电机。可以理解的是，无论是翻板1从上一个工位承接硅片还是翻板1转动翻转硅片后将硅片送至下一个工位都需要翻板1停止在特定位置，驱动件选用步进电机能够较好地保证在工作过程中翻板1能够停止在某个特定的位置。此外，选用步进电机作为驱动件能够较好简化整个刻蚀机的翻片机构的控制逻辑，方便了刻蚀机的翻片机构实现自动化。

实施例：

下面参考图1-图2描述本实用新型一个具体实施例的刻蚀机的翻片机构。

如图1-图2所示，本实施例的刻蚀机的翻片机构包括翻板1、转轴2和驱动件，翻板1为两个，两个翻板1间隔设置，两个翻板1之间的间距为100mm且小于硅片的宽度，翻板1包括缓冲环12和扇形片11，缓冲环12套设在转轴2上，扇形片11为10个，10个扇形片11沿缓冲环12的周向均匀间隔分布，相邻两个扇形片11之间的间隙形成为翻片槽111，翻片槽111的厚度为3mm。每个扇形片11的把半径为100mm，厚度为2mm。每个扇形片11在周向方向的两个侧壁上均设有防滑层112，防滑层112被配置为增大硅片与扇形片11之间的摩擦力。转轴2穿设在两个缓冲套内，驱动件与转轴2相连，驱动件可驱动转轴2转动。

下面参考图3-图4描述本实用新型实施例的一种刻蚀机的运输装置的具体结构。

如图3-图4所示，本实用新型的刻蚀机的运输装置，包括运输机构和前文的刻蚀机的翻片机构。

可以理解的是，在实际使用过程中，当翻板1转动过一定角度后硅片即可被翻片，然后再由运输机构运输至下一个工位。

本实用新型实施例的该运输装置，由于具有前文所述的刻蚀机的翻片机构，能够较好降低硅片发生碎片的几率，并且能够较好地降低硅片被污染的几率。

在一些实施例中，如图4所示，运输机构包括传送带3，传送带3为两个，两个传送带3间隔设置，两个传送带3之间的距离小于两个翻板1之间的距离，每个传送带3的一端均位于两个翻板1之间。可以理解的是，在实际使用过程中，当翻板1转动过一定角度后硅片翻片，由于每个传送带3的一端均位于两个翻板1之间，随着翻板1的转动，硅片能够落到传送带3上，此时传送带3即可将翻转完成的硅片运输至其他工位。这样的结构十分简单，并且采用传送带3能够稳定地运输硅片，避免了硅片跌落或者发生碎片的可能。当然，在本实用新型的其他实施例中，运输机构还可以包括其他机构，并不限于本实施例的传送带机构。

在一些具体的实施例中，刻蚀机的运输装置还包括检测件(图未示出)，检测件位于传送带3伸入两个翻板1之间的一端的上方，检测件被配置为检测硅片是否到达传动带3，当检测件检测到硅片到达传送带3时，翻板1停止转动且传送带3开始运动。可以理解的是，当硅片止抵在传送带3时，此时翻板1继续转动就会使得硅片与传送带3发生挤压，虽然传动带为柔性件，但是仍然可能造成碎片现象。而在本实施例中，检测件检测到硅片时，翻板1停止转动且传送带3开始运动，这样保证了翻板1与传送带3的运动错开，避免了硅片与传送带3产生相互积压，从而最大限度地降低了硅片碎片的可能。

实施例：

如图3-图4所示，本实施例的刻蚀机的运输装置包括运输机构和刻蚀机的翻片机构及检测件，刻蚀机的翻片机构的具体结构已经在前文中进行了详细描述，在此不再赘述。

运输机构包括传送带3，传送带3为两个，两个传送带3间隔设置，两个传送带3之间的距离为50mm，每个传送带3的宽度为10mm。每个传送带3的一端均位于两个翻板1之间。检测件位于传送带3伸入两个翻板1之间的一端的上方，检测件被配置为检测硅片，当检测件检测到硅片时，翻板1停止转动且传送带3开始运动。

在本说明书的描述中，参考术语“有些实施例”、“其他实施例”、等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.一种刻蚀机的翻片机构，其特征在于，包括：

翻板(1)，所述翻板(1)上设有多个翻片槽(111)；

转轴(2)，所述转轴(2)穿设在所述翻板(1)上；

驱动件，所述驱动件与所述转轴(2)相连，所述驱动件能够驱动所述转轴(2)转动以带动所述翻板(1)转动。

2.根据权利要求1所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，所述翻板(1)为两个，两个所述翻板(1)间隔设置，两个所述翻板(1)之间的间距小于硅片的宽度。

3.根据权利要求1所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，所述翻板(1)包括：

缓冲环(12)，所述缓冲环(12)套设在所述转轴(2)上；

扇形片(11)，所述扇形片(11)为多个，多个所述扇形片(11)沿所述缓冲环(12)的周向均匀间隔分布，相邻两个所述扇形片(11)之间的间隙形成为所述翻片槽(111)。

4.根据权利要求3所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，每个所述扇形片(11)在周向方向的两个侧壁上均设有防滑层(112)。

5.根据权利要求3所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，所述缓冲环(12)和所述扇形片(11)均为塑料件。

6.根据权利要求3所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，所述扇形片(11)的厚度为2mm-4mm。

7.根据权利要求1所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，所述翻片槽(111)的宽度为2mm-4mm。

8.一种刻蚀机的运输装置，其特征在于，包括运输机构和如权利要求1-7中任一项所述的刻蚀机的翻片机构。

9.根据权利要求8所述的刻蚀机的运输装置，其特征在于，所述运输机构包括传送带(3)，所述传送带(3)为两个，两个所述传送带(3)间隔设置，两个所述传送带(3)之间的距离小于两个所述翻板(1)之间的距离，每个所述传送带(3)的一端均位于两个所述翻板(1)之间。

10.根据权利要求9所述的刻蚀机的运输装置，其特征在于，所述刻蚀机的运输装置还包括检测件，所述检测件位于所述传送带(3)伸入两个所述翻板(1)之间的一端的上方，所述检测件被配置为检测硅片是否到达所述传送带(3)，当所述检测件检测到所述硅片到达所述传送带(3)时，所述翻板(1)停止转动且所述传送带(3)开始运动。

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