CN210300742U - 一种煎涮一体石锅 - Google Patents

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Abstract

本实用新型提供了一种煎涮一体石锅,包括煎盘部和涮锅部,煎盘部和涮锅部均是由石材制成,所述涮锅部上部设置有控水沿,所述煎盘部包括煎盘和位于煎盘上部绕煎盘一周的煎盘沿,所述涮锅部设置在煎盘部的上部与煎盘部接触。本实用新型解决了金属锅生锈以及陶瓷锅粘锅底不易操作的问题,而且烹饪时更加周到方便。

Description

一种煎涮一体石锅
技术领域
本实用新型涉及餐饮器具领域,具体地说,是涉及一种煎涮一体石锅。
背景技术
餐饮市场上现在有陶瓷与金属锅等一体锅,铁锅洗刷后放置容易生锈,陶瓷锅在烤肉时容易粘锅底,而且石制锅用来烤肉味道效果较好,不会生锈也不易沾锅。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述传统技术的不足之处,提供一种煎涮一体石锅,解决了金属锅生锈以及陶瓷锅粘锅底不易操作的问题。
本实用新型的目的是通过以下技术措施来达到的:
一种煎涮一体石锅,包括煎盘部和涮锅部,煎盘部和涮锅部均是由石材制成,所述涮锅部上部设置有控水沿,所述煎盘部包括煎盘和位于煎盘上部绕煎盘一周的煎盘沿,所述涮锅部设置在煎盘部的上部与煎盘部接触。
进一步地,所述煎盘部和涮锅部为一体结构。
进一步地,所述煎盘沿上设置有供煎盘上油漏出的控油孔。
进一步地,所述煎盘部下部连接有加固环。
进一步地,所述涮锅部位于煎盘部上的中部位置。
进一步地,所述控水沿涮锅部外凸起,控水沿与水平面的角度小于涮锅部与水平面的角度。
由于采用了上述技术方案,与现有技术相比,本实用新型的优点是:
解决了金属锅生锈以及陶瓷锅粘锅底不易操作的问题。涮锅设置在煎锅上部,单人使用时,煎锅在涮锅上部的哪个位置使用均可,多人使用时,涮锅在煎锅上部的中间位置为最佳。煎盘部设置有控油孔,油倒多了之后可以从控油孔将油排出,使用完后亦可以从控油孔排油进行洗刷。煎盘部底部设置加固环是为了使锅美观、坚固、耐用。控水沿可以防止涮锅里面的汤水减出到煎盘,防止溅蹦危险。
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步说明。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是实施例俯视图的结构示意图。
其中,1、涮锅部,2、控水沿,3、煎盘,4、煎盘沿,5、控油孔,6、加固环。
具体实施方式
一种煎涮一体石锅,包括煎盘3部和涮锅部1,煎盘3部和涮锅部1均是由石材制成,所述涮锅部1上部设置有控水沿2,所述控水沿2涮锅部1外凸起,控水沿2与水平面的角度小于涮锅部1与水平面的角度。所述煎盘3部包括煎盘3和位于煎盘3上部绕煎盘3一周的煎盘沿4,所述涮锅部1设置在煎盘3部的上部与煎盘3部接触,煎盘3部和涮锅部1为一体结构。
所述煎盘沿4上设置有供煎盘3上油漏出的控油孔5。油倒多了之后可以从控油孔5将油排出,使用完后亦可以从控油孔5排油进行洗刷。控油孔5正常进行封堵,使用控油孔5进行排油时将控油孔5打开。
所述煎盘3部下部连接有不锈钢加固环6,不锈钢加固环6一体锅加固,使一体锅美观、坚固、耐用。
所述涮锅部1位于煎盘3部上的中部位置。单人使用时,煎锅在涮锅上部的哪个位置使用均可,多人使用时,涮锅在煎锅上部的中间位置为最佳。

Claims (6)

1.一种煎涮一体石锅,其特征在于:包括煎盘部和涮锅部,煎盘部和涮锅部均是由石材制成,所述涮锅部上部设置有控水沿,所述煎盘部包括煎盘和位于煎盘上部绕煎盘一周的煎盘沿,所述涮锅部设置在煎盘部的上部与煎盘部接触。
2.根据权利要求1所述的一种煎涮一体石锅,其特征在于:所述煎盘部和涮锅部为一体结构。
3.根据权利要求1所述的一种煎涮一体石锅,其特征在于:所述煎盘沿上设置有供煎盘上油漏出的控油孔。
4.根据权利要求1所述的一种煎涮一体石锅,其特征在于:所述煎盘部下部连接有加固环。
5.根据权利要求1所述的一种煎涮一体石锅,其特征在于:所述涮锅部位于煎盘部上的中部位置。
6.根据权利要求1所述的一种煎涮一体石锅,其特征在于:所述控水沿涮锅部外凸起,控水沿与水平面的角度小于涮锅部与水平面的角度。
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