CN210139311U - 可确保移除量一致的抛光刷 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及抛光工具领域的可确保移除量一致的抛光刷，包括基材层和设置于基材层底面的抛光层，抛光层共分为同心的内圆环抛光区和外圆环抛光区，外圆环抛光区位于内圆环抛光区的外围，内圆环抛光区和外圆环抛光区均设有若干根直立安装的抛光齿，抛光机工作时带动抛光刷整体做圆周运动，设置两种不同硬度的抛光区，将内圆环抛光区的硬度设置为小于外圆环抛光区的硬度，在不同线速度的客观条件下，可保证放置于抛光机下盘所对应不同位置的玻璃产品在抛光过程中能保持一致的移除量，从而避免抛光机在抛光过程需要停机更换不同位置的玻璃产品，当移除量保持一致时，还可增加抛光机下盘玻璃产品的摆放量，从而可提高整体抛光效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及抛光工具领域，具体涉及玻璃抛光刷。
背景技术
随着科技的发展，人们对手机等电子产品的需求量越来越大，同时对电子产品的外观和质量要求也越来越高。以手机为例，目前的手机前后面板玻璃均采用3D式曲面设计，以增加时尚感、科技感，吸引大众眼球，同时为提高手机使用舒适性，满足手机摄像效果等，面板玻璃越做越薄。
面板玻璃通常采用玻璃抛光机进行抛光加工，以满足使用要求。在玻璃抛光机的上盘安装抛光刷，同时将面板玻璃放置在下盘内，工作时，抛光刷向下贴近面板玻璃，上盘带动抛光刷转动，同时下盘带动面板玻璃反方向转动，从而完成抛光过程。现有的抛光刷的抛光面均由统一硬度的抛光皮构成，由于圆盘上不同位置的线速度不同，在转动抛光过程中，位于下盘中部的面板玻璃的移除量最大，位于下盘边缘的面板玻璃的移除量最小。也就是说下盘中部的面板玻璃最快完成抛光工序，因此通常需要停机更换新的面板玻璃，停机过程中一方面会影响整体抛光精度，另一方面会影响整体的抛光效率。
发明内容
本实用新型的目的是解决以下缺陷，提供可确保移除量一致的抛光刷，其可保证抛光机下盘所放置的玻璃产品在抛光过程保持一致的移除量。
本实用新型的目的是通过以下方式实现的：
可确保移除量一致的抛光刷，包括基材层和设置于基材层底面的抛光层，基材层和抛光层均为圆盘形结构，基材层和抛光层的中心均设有用于配对安装至抛光机上的圆形透孔，基材层和抛光层上均设有用于注入抛光液的导液透孔，所述抛光层共分为同心的内圆环抛光区和外圆环抛光区，外圆环抛光区位于内圆环抛光区的外围，内圆环抛光区和外圆环抛光区均设有若干根直立安装的抛光齿，若干根抛光齿均匀分布，抛光齿的顶部固定在基材层的底面，内圆环抛光区的抛光齿的肖氏硬度值为50-68度，外圆环抛光区的抛光齿的肖氏硬度值为70-95度。
上述说明中，作为优选的方案，所述基材层的底面设有用于配对安装抛光齿的环形插槽，抛光齿的顶部通过凝胶固定在环形插槽内。
上述说明中，作为优选的方案，所述抛光层还包括打磨区与精抛区，打磨区与精抛区为扇形结构，打磨区与精抛区沿圆周方向以AB式依次交替地分布，精抛区分别把内圆环抛光区和外圆环抛光区进行隔断，使内圆环抛光区和外圆环抛光区均分布于打磨区。
上述说明中，作为优选的方案，所述精抛区设有底面平齐的海绵，且海绵的厚度大于抛光齿的厚度。
上述说明中，作为优选的方案，所述内圆环抛光区的抛光齿的肖氏硬度值为68度，外圆环抛光区的抛光齿的肖氏硬度值为95度。
上述说明中，作为优选的方案，所述抛光齿的底部为倒三角形结构或者圆弧形结构。
本实用新型所产生的有益效果：设置有同心的内圆环抛光区和外圆环抛光区，抛光机工作时带动抛光刷整体做圆周运动，因此，内圆环抛光区的线速度会小于外圆环抛光区的线速度，设置两种不同硬度的抛光区，将内圆环抛光区的硬度设置为小于外圆环抛光区的硬度，在不同线速度的客观条件下，可保证放置于抛光机下盘所对应不同位置的玻璃产品在抛光过程中能保持一致的移除量，从而避免抛光机在抛光过程需要停机更换不同位置的玻璃产品，当移除量保持一致时，不仅可提高产品抛光的精度，还可增加抛光机下盘玻璃产品的摆放量，从而可提高整体抛光效率。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的仰视图；
图2为本实用新型实施例一主视图；
图3为本实用新型实施例二的仰视图；
图4为本实用新型实施例二中抛光机上盘和下盘的分离状态示意图；
图中，1为基材层，2为抛光齿，3为圆形透孔，4为导液透孔，5为内圆环抛光区，6为外圆环抛光区，7为打磨区，8为精抛区，9为抛光机上盘，10为抛光机下盘，11为玻璃产品。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
实施例一
本实施例，参照图1和图2，其具体实施的可确保移除量一致的抛光刷包括基材层1和设置于基材层1底面的抛光层，基材层1和抛光层均为圆盘形结构，基材层1和抛光层的中心均设有用于配对安装至抛光机上的圆形透孔3，基材层1和抛光层上均设有用于注入抛光液的导液透孔4，抛光层共分为同心的内圆环抛光区5和外圆环抛光区6，外圆环抛光区6位于内圆环抛光区5的外围，内圆环抛光区5和外圆环抛光区6均设有若干根直立安装的抛光齿2，若干根抛光齿2均匀分布，本实施例的图中，采用不同密度的抛光齿2来区分内圆环抛光区5和外圆环抛光区6，抛光齿2的底部为倒三角形结构，抛光齿2的顶部固定在基材层1的底面，基材层1的底面设有用于配对安装抛光齿2的环形插槽，抛光齿2的顶部通过凝胶固定在环形插槽内，内圆环抛光区5的抛光齿2的肖氏硬度值为68度，外圆环抛光区6的抛光齿2的肖氏硬度值为95度。
实施例二
本实施例，参照图3和图4，其具体实施的可确保移除量一致的抛光刷包括基材层1和设置于基材层1底面的抛光层，基材层1和抛光层均为圆盘形结构，基材层1和抛光层的中心均设有用于配对安装至抛光机上的圆形透孔3，基材层1和抛光层上均设有用于注入抛光液的导液透孔4，抛光层共分为同心的内圆环抛光区5和外圆环抛光区6，外圆环抛光区6位于内圆环抛光区5的外围。抛光层还包括打磨区7与精抛区8，打磨区7与精抛区8为扇形结构，打磨区7与精抛区8沿圆周方向以AB式依次交替地分布，本实施例中，共均匀间隔设置有五个打磨区7和五个精抛区8，精抛区8设有底面平齐的海绵，且海绵的厚度大于抛光齿2的厚度，精抛区8分别把内圆环抛光区5和外圆环抛光区6进行隔断，使内圆环抛光区5和外圆环抛光区6均分布于打磨区7。
内圆环抛光区5和外圆环抛光区6均设有若干根直立安装的抛光齿2，若干根抛光齿2均匀分布，本实施例的图中，采用不同密度的抛光齿2来区分内圆环抛光区5和外圆环抛光区6，抛光齿2的底部为圆弧形结构，抛光齿2的顶部固定在基材层1的底面，基材层1的底面设有用于配对安装抛光齿2的环形插槽，抛光齿2的顶部通过凝胶固定在环形插槽内，内圆环抛光区5的抛光齿2的肖氏硬度值为60度，外圆环抛光区6的抛光齿2的肖氏硬度值为90度。
设置有同心的内圆环抛光区5和外圆环抛光区6，如图4所示，本实施例的抛光机可同时放置五个产品治具，同时对五组玻璃产品11进行抛光，因此抛光机上盘9共安装五个抛光刷，五个抛光刷分别对应五个用于放置玻璃产品11的产品治具，抛光机工作时带动抛光机上盘9和抛光刷整体做圆周运动，因此，内圆环抛光区5的线速度会小于外圆环抛光区6的线速度，设置两种不同硬度的抛光区，将内圆环抛光区5的硬度设置为小于外圆环抛光区6的硬度，在不同线速度的客观条件下，可保证放置于抛光机下盘10所对应不同位置的玻璃产品11在抛光过程中能保持一致的移除量，从而避免抛光机在抛光过程需要停机更换不同位置的玻璃产品11，当移除量保持一致时，不仅可提高产品抛光的精度，还可增加抛光机下盘10玻璃产品11的摆放量，从而可提高整体抛光效率。
以上内容是结合具体的优选实施例对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应视为本实用新型的保护范围。
Claims (6)
1.可确保移除量一致的抛光刷，包括基材层和设置于基材层底面的抛光层，基材层和抛光层均为圆盘形结构，基材层和抛光层的中心均设有用于配对安装至抛光机上的圆形透孔，基材层和抛光层上均设有用于注入抛光液的导液透孔，其特征在于：所述抛光层共分为同心的内圆环抛光区和外圆环抛光区，外圆环抛光区位于内圆环抛光区的外围，内圆环抛光区和外圆环抛光区均设有若干根直立安装的抛光齿，若干根抛光齿均匀分布，抛光齿的顶部固定在基材层的底面，内圆环抛光区的抛光齿的肖氏硬度值为50-68度，外圆环抛光区的抛光齿的肖氏硬度值为70-95度。
2.根据权利要求1所述可确保移除量一致的抛光刷，其特征在于：所述基材层的底面设有用于配对安装抛光齿的环形插槽，抛光齿的顶部通过凝胶固定在环形插槽内。
3.根据权利要求1所述可确保移除量一致的抛光刷，其特征在于：所述抛光层还包括打磨区与精抛区，打磨区与精抛区为扇形结构，打磨区与精抛区沿圆周方向以AB式依次交替地分布，精抛区分别把内圆环抛光区和外圆环抛光区进行隔断，使内圆环抛光区和外圆环抛光区均分布于打磨区。
4.根据权利要求3所述可确保移除量一致的抛光刷，其特征在于：所述精抛区设有底面平齐的海绵，且海绵的厚度大于抛光齿的厚度。
5.根据权利要求1-4任意一项所述可确保移除量一致的抛光刷，其特征在于：所述内圆环抛光区的抛光齿的肖氏硬度值为68度，外圆环抛光区的抛光齿的肖氏硬度值为95度。
6.根据权利要求1-4任意一项所述可确保移除量一致的抛光刷，其特征在于：所述抛光齿的底部为倒三角形结构或者圆弧形结构。
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| DE102023126998A1 (de) | 2022-10-17 | 2024-04-18 | Ernst-Abbe-Hochschule Jena, Körperschaft des öffentlichen Rechts | Graduierte und adaptive Polierwerkzeuge sowie Verfahren zu deren Herstellung |
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| WO2024083517A1 (de) | 2022-10-17 | 2024-04-25 | Ernst-Abbe-Hochschule Jena | Graduierte und adaptive polierwerkzeuge sowie verfahren zu deren herstellung |
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