CN210136860U - 一种湿法刻蚀设备 - Google Patents

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郑涛
陈章晏
丁洋
颜超仁
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Abstract

本实用新型提供了一种湿法刻蚀设备,具有晶圆搬送装置以及用于对所述晶圆搬送装置所具有的夹持部进行清洗的清洗装置,所述清洗装置包括:清洗槽,用于盛装清洗液;以及清洗单元,用于清洗浸泡于所述清洗液内的所述夹持部,所述清洗单元具有与所述夹持部位置相对应的清洗部,所述清洗部能够对所述夹持部的表面进行摩擦,既提高了清洗的效率,又保证了清洗的洁净度。

Description

一种湿法刻蚀设备
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,更详细地说,本实用新型涉及一种湿法刻蚀设备。
背景技术
湿法刻蚀工艺通过将晶圆浸入化学药液内对晶圆表面进行刻蚀,在刻蚀前后都需要对晶圆进行清洗以去除晶圆表面的脏污,现有的湿法刻蚀设备通过晶圆搬送装置将晶圆搬送至不同工位以对晶圆进行加工,在制程过程中,容易因晶圆搬送装置与晶圆直接接触的夹持部上具有脏污而导致制程时发生交叉污染。
为了避免晶圆在搬送过程中被污染,现有的湿法刻蚀设备上一般设有用于清洗晶圆搬送装置的夹持部的清洗装置,通过将夹持部浸泡在清洗液中实现对夹持部的清洗,但是单纯的浸泡很难将夹持部清洗干净,因此,有必要对现有湿法刻蚀设备加以改进。
实用新型内容
为了解决现有技术中的上述问题,即提供一种具有能够将夹持部的脏污去除的清洗装置的湿法刻蚀设备。
本实用新型所提供的湿法刻蚀设备,具有晶圆搬送装置以及用于对晶圆搬送装置所具有的夹持部进行清洗的清洗装置,清洗装置包括:清洗槽,用于盛装清洗液;以及清洗单元,用于清洗浸泡于清洗液内的夹持部,清洗单元具有与夹持部位置相对应的清洗部,清洗部能够对夹持部的表面进行摩擦。
在该技术方案中,清洗部通过与夹持部摩擦实现对夹持部的清洗,增强了清洗效果,更有利于粘附于夹持部表面的脏污的去除,而且清洗时间短,清洗效率高。
在本实用新型的较优技术方案中,清洗单元还包括:为清洗部运动提供动力的动力部。
在该较优技术方案中,动力部的设置为清洗部运动的自动化和可控化提供了条件。
在本实用新型的较优技术方案中,清洗部包括与动力部联动的连杆和滚动连接于连杆端部的滚轮。
在本实用新型的较优技术方案中,动力部包括气缸和用于控制气缸伸缩的控制单元。
在本实用新型的较优技术方案中,气缸的缸筒与清洗槽之间的相对位置保持固定,气缸的活塞杆与连杆相固定以带动连杆沿活塞杆的伸缩方向相应运动。
在本实用新型的较优技术方案中,滚轮利用其随连杆的运动,与夹持部之间产生滚动摩擦。
在该较优技术方案中,通过滚轮和夹持部之间的滚动摩擦实现对夹持部的清洗,相对于滑动摩擦,滚动摩擦不易对夹持部的表面造成损伤,减小了摩擦对夹持部和清洗部的损耗,延长了清洗部的使用寿命,降低了使用成本。
在本实用新型的较优技术方案中,缸筒上设有用于限定活塞杆伸缩范围的位置传感器,位置传感器包括:
用于限定活塞杆伸出极限位置的第一位置传感器;以及
用于限定活塞杆回缩极限位置的第二位置传感器。
在该较优技术方案中,通过第一位置传感器和第二位置传感器的设置限定活塞杆的伸缩范围,以确保滚轮清洗到整个夹持部,进一步的增强了清洗效果。
进一步的,第一位置传感器和第二位置传感器的位置可分别沿活塞杆的伸缩方向调节。
在该较优技术方案中,当夹持部的位置或夹持表面的尺寸发生变化时,可相应调节第一位置传感器和第二位置传感器的位置,通过改变清洗部的移动范围来保持对夹持部的全面清洗,例如,当夹持部的整体位置向下调整时,可将第一位置传感器和第二位置传感器的位置相应下调,当夹持部沿活塞杆的伸缩方向变长时,可将第一位置传感器和第二位置传感器的间距相应调大以扩大滚轮的清洗范围。
在本实用新型的较优技术方案中,活塞杆在控制单元的控制下在第一位置传感器和第二位置传感器的限定范围内往复运动。
在该较优技术方案中,活塞杆在控制单元的控制下在第一位置传感器和第二位置传感器的限定范围内往复运动并带动滚轮沿夹持部往复滚动,实现了更好的清洗效果。
在本实用新型的较优技术方案中,清洗部还包括毛刷,毛刷贴附于滚轮的外表面。
在该较优技术方案中,毛刷的设置更易于去除夹持部的各零件之间连接处缝隙中的脏污。
附图说明
图1是本实用新型一个较优技术方案中的湿法刻蚀设备的结构示意图;
图2是图1中的湿法刻蚀设备去除晶圆搬送装置后在另一角度下的结构示意图。
附图标记说明:1-晶圆搬送装置,11-夹持部,12-机械手臂,121-第一端;2-清洗装置,21-清洗槽,22-清洗液,23-清洗单元,231-清洗部, 232-动力部;3-气缸,31-缸筒,32-活塞杆;4-连杆;5-滚轮;6-第一位置传感器;7-第二位置传感器;8-毛刷。
具体实施方式
下面参照附图来描述本实用新型的优选技术方案。本领域技术人员应当理解的是,这些技术方案仅仅用于解释本实用新型的技术原理,并非旨在限制本实用新型的保护范围。本领域技术人员可以根据需要对其做出调整,以便适应具体的应用场合。
需要说明的是,在本实用新型的优选实施例的描述中,术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系,这仅仅是为了便于描述,而不是指示或暗示所述装置或组成部分必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
本实施例提供了一种湿法刻蚀设备,包括刻蚀工位(未图示)、清洗工位(未图示)、烘干工位(未图示)以及用于将晶圆(未图示)搬送至各工位的晶圆搬送装置,将刻蚀完成的晶圆搬送至清洗工位以清洗晶圆表面附着的化学药液,并将完成清洗的晶圆搬送至烘干工位进行烘干;晶圆搬送装置1包括一对间隔设置的机械手臂12,机械手臂12具有用于夹持晶圆的第一端121,夹持部11相对设置于一对机械手臂12 的第一端121,湿法刻蚀设备还包括用于对夹持部11进行清洗的清洗装置2,清洗装置2包括:清洗槽21,用于盛装清洗液22;以及清洗单元 23,用于清洗浸泡于清洗液22内的夹持部11,清洗单元23具有与夹持部11位置相对应的清洗部231和为清洗部231运动提供动力的动力部 232,动力部232包括气缸3和用于控制气缸3伸缩的控制单元(未图示),清洗部231包括与动力部232联动的连杆4和滚动连接于连杆端部的滚轮5,气缸3的缸筒31与清洗槽21之间的相对位置保持固定,气缸3的活塞杆32与连杆4相固定以带动连杆4沿活塞杆32的伸缩方向相应运动,滚轮5利用其随连杆4的运动,与夹持部11之间产生滚动摩擦。
清洗部231通过与夹持部11摩擦实现对夹持部11的清洗,相比现有技术中单纯的依赖于浸泡来清洗夹持部11,清洗效果更好,更有利于去除粘附于夹持部11表面的脏污,而且清洗时间短,清洗效率高,具体地,本实施例的较优实施方式中,通过滚轮5和夹持部11之间的滚动摩擦实现对夹持部11的清洗,相对于滑动摩擦,滚动摩擦不易对夹持部 11的表面造成损伤,减小了摩擦对夹持部11和滚轮5表面的损耗,延长了滚轮5的使用寿命,降低了使用成本。
需要说明的是,本实施例并未对清洗部231的结构做出限定,根据本实施例的技术启示,本领域技术人员可以将刷子、洁净布或其它可替代本实施例优选的实施方式所使用的滚轮5的部件安装在连杆4上,以实现和滚轮5相似或相同的功能。
动力部232的设置为清洗部231运动的自动化和可控化提供了条件,在特定情况下,用户也可根据需求通过手动控制清洁部231的运动,本实施例的较优实施方式中,将气缸3作为清洁部231的动力源,在一些替代性实施方式中,也可以采用电机、丝杠等方式驱动清洗部231。
另外,气缸3的缸筒31与清洗槽21之间的相对位置保持固定,具体地,可以如图2所示将缸筒31固定在清洗槽21上,也可以将缸筒31 固定在湿法刻蚀设备的其它位置例如顶壁(未图示)上。
在本实用新型的较优技术方案中,缸筒31上设有用于限定活塞杆 32伸缩范围的位置传感器,位置传感器包括:用于限定活塞杆32伸出极限位置的第一位置传感器6;以及用于限定活塞杆32回缩极限位置的第二位置传感器7,具体地,活塞杆32上设有用于与第一位置传感器6 和第二位置传感器7配合设置的感应部(未图示),感应部在气缸3处于自然状态时位于第一位置传感器6和第二位置传感器7之间,当感应部移动至被第一位置传感器6或第二位置传感器7感应时,第一位置传感器6或第二位置传感器7发送信号至控制单元,控制单元发出停止气缸3继续移动的指令,以此限定活塞杆32的移动范围。
进一步的,第一位置传感器6和第二位置传感器7的位置可分别沿活塞杆32的伸缩方向调节。
在该较优技术方案中,通过第一位置传感器6和第二位置传感器7 的设置限定活塞杆32的伸缩范围,以确保滚轮5清洗到整个夹持部11,进一步的增强了清洗效果。
在该较优技术方案中,当夹持部11的位置或夹持表面的尺寸发生变化时,可相应调节第一位置传感器6和第二位置传感器7的位置,通过改变清洗部231的移动范围来保持对夹持部11的全面清洗,例如,当夹持部11的整体位置向下调整时,可将第一位置传感器6和第二位置传感器7的位置相应下调,当夹持部11沿活塞杆32的伸缩方向变长时,可将第一位置传感器6和第二位置传感器7的间距相应调大以扩大滚轮 5的清洗范围。
在本实用新型的较优技术方案中,活塞杆32在控制单元的控制下在第一位置传感器6和第二位置传感器7的限定范围内往复运动。
在该较优技术方案中,活塞杆32在控制单元的控制下在第一位置传感器6和第二位置传感器7的限定范围内往复运动并带动滚轮5沿夹持部11往复滚动,因为仅凭一次摩擦很难将晶圆清洗干净,因此控制滚轮 5往复运动的方式实现了更好的清洗效果。
在本实用新型的较优技术方案中,清洗部231还包括毛刷8,毛刷 8贴附于滚轮5的外表面。
在该较优技术方案中,毛刷8的设置更易于去除夹持部11的各零件之间连接处缝隙中的脏污。
在该较优技术方案中,滚轮5和毛刷8的材质均为聚丁酯,其耐腐蚀耐磨损的特性延长了清洗部231的使用寿命。
至此,已经结合附图描述了本实用新型的技术方案,但是,本领域技术人员容易理解的是,本实用新型的保护范围显然不局限于这些具体技术方案。在不偏离本实用新型的原理的前提下,本领域技术人员可以对相关技术特征作出等同的更改或替换,这些更改或替换之后的技术方案都将落入本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种湿法刻蚀设备,具有晶圆搬送装置以及用于对所述晶圆搬送装置所具有的夹持部进行清洗的清洗装置,其特征在于,所述清洗装置包括:
清洗槽,用于盛装清洗液;以及
清洗单元,用于清洗浸泡于所述清洗液内的所述夹持部,所述清洗单元具有与所述夹持部位置相对应的清洗部,所述清洗部能够对所述夹持部的表面进行摩擦。
2.如权利要求1所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述清洗单元还包括:为所述清洗部运动提供动力的动力部。
3.如权利要求2所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述清洗部包括与所述动力部联动的连杆和滚动连接于所述连杆端部的滚轮。
4.如权利要求3所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述动力部包括气缸和用于控制所述气缸伸缩的控制单元。
5.如权利要求4所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述气缸的缸筒与所述清洗槽之间的相对位置保持固定,所述气缸的活塞杆与所述连杆相固定以带动所述连杆沿所述活塞杆的伸缩方向相应运动。
6.如权利要求5所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述滚轮利用其随所述连杆的运动,与所述夹持部之间产生滚动摩擦。
7.如权利要求5或6任意一项所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述缸筒上设有用于限定所述活塞杆伸缩范围的位置传感器,所述位置传感器包括:
用于限定所述活塞杆伸出极限位置的第一位置传感器;以及
用于限定所述活塞杆回缩极限位置的第二位置传感器。
8.如权利要求7所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述第一位置传感器和所述第二位置传感器的位置可分别沿所述活塞杆的伸缩方向调节。
9.如权利要求7所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述活塞杆在所述控制单元的控制下在所述第一位置传感器和所述第二位置传感器的限定范围内往复运动。
10.如权利要求3所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述清洗部还包括毛刷,所述毛刷贴附于所述滚轮的外表面。
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CN114192452A (zh) * 2020-09-18 2022-03-18 中国科学院微电子研究所 晶片清洗装置

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