CN210134160U - 一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及连续溅射镀膜设备技术领域，尤其涉及一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，包括冷阱盘管，冷阱盘管布置在冷阱室内且与深冷泵连接，冷阱室通过冷阱室高真空阀门与工艺室连通，深冷泵依据冷阱室高真空阀门的启闭切换冷阱盘管除霜或制冷，冷阱室与冷阱室真空泵相连。本实用新型的优点是：避免除霜过程中产生的水汽等污染工艺室中的靶材；除霜过程和工艺室中的搬送过程相互独立；缩短工艺室到达本底真空所需的时间；减少工艺室中水气的分压，提高光学薄膜质量；深冷泵、冷阱盘管除霜不影响工艺室真空，能连续抽除工艺室中的水气；工艺室到达本底真空的时间减少50%到75%。

Description

一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置

技术领域

本实用新型涉及连续溅射镀膜设备技术领域，尤其涉及一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置。

背景技术

随着工业自动化的快速发展，连续溅射镀膜设备得到广泛应用。目前市场上连续溅射镀膜设备对水蒸气的抽速不显著，且理论上在低于10^-1Pa的压力下水蒸气含量在残余气体负载中超过97%，随着工艺进行基板表面及真空腔室表面吸附的水蒸气慢慢解吸出来，严重影响设备生产光学薄膜的质量。以常规的深冷泵连接冷阱盘管制冷抽除水气的结构，无法应用于连续溅射镀膜设备。

发明内容

本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，通过合理控制冷阱室高真空阀门的启闭，切换冷阱盘管进行除霜作业或制冷作业，当冷阱盘管进行除霜作业时不影响工艺室真空，当冷阱盘管进行制冷作业，利用低温冷凝效应，迅速捕集工艺室内的残余气体，从而大大缩短工艺室到达本底真空所需的时间。

本实用新型目的实现由以下技术方案完成：

一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，其特征在于：所述抽除水气装置包括冷阱盘管，所述冷阱盘管布置在冷阱室内且与深冷泵连接，所述冷阱室通过冷阱室高真空阀门与所述工艺室连通，所述深冷泵依据所述冷阱室高真空阀门的启闭切换所述冷阱盘管除霜或制冷，所述冷阱室与冷阱室真空泵相连。

所述冷阱室通过冷阱室真空阀门与所述冷阱室真空泵相连。

所述冷阱室真空阀门包括冷阱室低真空阀门及冷阱室高真空辅助阀门，所述冷阱室真空泵包括冷阱室低真空泵组及冷阱室高真空泵，所述冷阱室低真空阀门与所述冷阱室低真空泵组连接，所述冷阱室高真空辅助阀门与所述冷阱室高真空泵连接。

所述工艺室通过工艺室真空阀门与工艺室真空泵相连。

所述工艺室真空泵包括工艺室低真空泵组及工艺室高真空泵，所述工艺室真空阀门包括工艺室低真空阀门及工艺室高真空辅助阀门，所述工艺室低真空阀门与所述工艺室低真空泵组连接，所述工艺室高真空辅助阀门与所述工艺室高真空泵连接。

所述工艺室通过工艺室高真空阀门与搬送室相通。

所述搬送室通过搬送室低真空阀门与搬送室低真空泵组相连。

本实用新型的优点是：结构简单，增设冷阱室后可以避免除霜过程中产生的水汽等污染工艺室中的靶材，可以提升膜层品质；除霜过程和工艺室中的搬送过程相互独立，并行进行，有利于流程优化；缩短工艺室到达本底真空所需的时间；减少工艺室中水气的分压，提高光学薄膜质量；深冷泵、冷阱盘管除霜不影响工艺室真空，能连续抽除工艺室中的水气；较无该装置连续溅射镀膜设备，到达本底真空时间减少50%到75%。

附图说明

图1为本实用新型的系统框图。

具体实施方式

以下结合附图通过实施例对本实用新型特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：

如图1所示，图中标记1-16分别表示为：冷阱盘管1、冷阱室2、冷阱室高真空阀门3、工艺室4、冷阱室低真空阀门5、工艺室高真空阀门6、搬送室7、冷阱室高真空辅助阀门8、冷阱室低真空泵组9、冷阱室高真空泵10、工艺室低真空泵组11、工艺室高真空泵12、工艺室低真空阀门13、工艺室高真空辅助阀门14、搬送室低真空阀门15、搬送室低真空泵组16。

实施例：本实施例为一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，能连续抽除工艺室4内的水气，通过合理控制冷阱室高真空阀门3的启闭，切换冷阱盘管1进行除霜作业或制冷作业。

如图1所示，该抽除水气装置包括冷阱盘管1。

如图1所示，冷阱盘管1布置在冷阱室2内，冷阱室2与工艺室4通过冷阱室高真空阀门3连通，通过切换冷阱室高真空阀门3的启闭使得冷阱室2与工艺室4连通或相互独立。冷阱盘管1与深冷泵（图中未示出）连接，通过切换深冷泵进行除霜或制冷作业从而带动冷阱盘管1除霜或制冷。冷阱室2与真空泵相连，用于抽除冷阱盘管1除霜时释放的水蒸气，并使冷阱室2达到指定真空度。工艺室4与真空泵相连，使得工艺室4达到指定真空度，提高后期镀膜质量。

冷阱室2通过冷阱室真空阀门与冷阱室真空泵相连，通过控制冷阱室真空阀门的启闭令冷阱室2与冷阱室真空泵连通或切断。如图1所示，冷阱室真空阀门包括冷阱室低真空阀门5及冷阱室高真空辅助阀门8，冷阱室真空泵包括冷阱室低真空泵组9及冷阱室高真空泵10。其中，冷阱室高真空辅助阀门8与冷阱室高真空泵10相连，冷阱室低真空阀门5与冷阱室低真空泵组9相连，令冷阱室2能达到指定真空度。

工艺室4通过工艺室真空阀门与工艺室真空泵相连，通过控制工艺室真空阀门的启闭令工艺室4与工艺室真空泵连通或切断。如图1所示，工艺室真空阀门包括工艺室低真空阀门13及工艺室高真空辅助阀门14，工艺室真空泵包括工艺室低真空泵组11及工艺室高真空泵12。其中，工艺室高真空辅助阀门14与工艺室高真空泵12相连，工艺室低真空阀门13与工艺室低真空泵组11相连，令工艺室4能达到指定真空度。

具体是：当冷阱室高真空阀门3关闭时，控制深冷泵进行除霜作业，从而带动冷阱盘管1除霜；控制冷阱室真空阀门打开，抽除冷阱盘管1除霜时释放的水蒸气，由于此时冷阱室2与工艺室4处于独立状态，避免除霜过程中产生的水汽等污染工艺室中的靶材，可以提升膜层品质；不会影响工艺室4的真空。当冷阱室高真空阀门3打开时，控制深冷泵进行制冷作业，从而带动冷阱盘管1制冷；由于此时冷阱室2与工艺室4处于互通状态，利用冷阱盘管1的低温冷凝效应，迅速捕集工艺室4内的残余气体，减少工艺室4内水气的分压，提高光学薄膜质量，缩短工艺室4到达本底真空所需的时间。

如图1所示，工艺室4通过工艺室高真空阀门6与搬送室7相连，通过控制工艺室高真空阀门6的启闭使得工艺室4与搬送室7互通或相互独立，由此实现基板的更换作业。

本实施例的具体操作步骤：

1）当工艺室高真空阀门6打开时，关闭冷阱室高真空阀门3，深冷泵开始除霜，连接深冷泵的冷阱盘管1开始除霜；打开冷阱室真空阀门，抽除冷阱盘管1除霜时释放的水蒸气；

2）待冷阱室2达到指定真空度，关闭冷阱室真空阀门，深冷泵开始制冷，连通深冷泵的冷阱盘管1开始制冷；打开冷阱室高真空阀门3，冷阱盘管1开始运行抽除工艺室4内的水蒸气；

3）关闭工艺室高真空阀门6，待工艺室4到达本底真空，进行镀膜工艺；冷阱盘管1继续制冷吸附镀膜工艺过程中基板表面及工艺室4表面解吸的水蒸气；

4）循环步骤1）-3），直至所有基板均完成镀膜处理。

本实施例在具体实施时：

搬送室7通过搬送室低真空阀门15与搬送室低真空泵组16连接，使得搬送室7也处于低真空状态，避免后期打开工艺室高真空阀门6搬送基板时对工艺室4的真空度造成太大影响。

虽然以上实施例已经参照附图对本实用新型目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本实用新型作出各种改进和变换故在此不一一赘述。

Claims (7)

1.一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，其特征在于：所述抽除水气装置包括冷阱盘管，所述冷阱盘管布置在冷阱室内且与深冷泵连接，所述冷阱室通过冷阱室高真空阀门与工艺室连通，所述深冷泵依据所述冷阱室高真空阀门的启闭切换所述冷阱盘管除霜或制冷，所述冷阱室与冷阱室真空泵相连。

2.根据权利要求1所述的一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，其特征在于：所述冷阱室通过冷阱室真空阀门与所述冷阱室真空泵相连。

3.根据权利要求2所述的一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，其特征在于：所述冷阱室真空阀门包括冷阱室低真空阀门及冷阱室高真空辅助阀门，所述冷阱室真空泵包括冷阱室低真空泵组及冷阱室高真空泵，所述冷阱室低真空阀门与所述冷阱室低真空泵组连接，所述冷阱室高真空辅助阀门与所述冷阱室高真空泵连接。

4.根据权利要求1所述的一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，其特征在于：所述工艺室通过工艺室真空阀门与工艺室真空泵相连。

5.根据权利要求4所述的一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，其特征在于：所述工艺室真空泵包括工艺室低真空泵组及工艺室高真空泵，所述工艺室真空阀门包括工艺室低真空阀门及工艺室高真空辅助阀门，所述工艺室低真空阀门与所述工艺室低真空泵组连接，所述工艺室高真空辅助阀门与所述工艺室高真空泵连接。

6.根据权利要求1所述的一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，其特征在于：所述工艺室通过工艺室高真空阀门与搬送室相通。

7.根据权利要求6所述的一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，其特征在于：所述搬送室通过搬送室低真空阀门与搬送室低真空泵组相连。

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