CN210006702U - 一种自动硅片清洗设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种自动硅片清洗设备，涉及硅片清洗装置领域，针对现有硅片清洗低效，且中间的过程繁琐，一体化低的问题，现提出如下方案，其包括浸泡箱、清洗箱、去离子箱，所述清洗箱内设置有水管，且水管上设置有喷头，所述泡箱、清洗箱、去离子箱的上端设置有顶板，且其内设置有滑槽，所述滑槽的后内壁的上端固定连接有齿条，所述滑槽内设置有滑板，所述滑板的左右两端均固定连接有液压杆，所述滑板中心设置有转杆，所述液压杆的下端固定连接有弧形板，且弧形板内设置有滑轨，所述滑轨内滑动连接有转盘，所述转盘的中心套接有转筒，所述转筒的外表面固定连接有托板。本实用新型清洗设备具有便于清洗、转运且清洗效率高的特点。

Description

一种自动硅片清洗设备

技术领域

本实用新型涉及硅片清洗装置领域，尤其涉及一种自动硅片清洗设备。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种，其中化学清洗是用溶液来清除污染物的，一般工厂中清洗硅片过程中，都是将员工用夹子将装有硅片的卡塞放入或取出清洗槽，当清洗溶剂中含有腐蚀性溶液时，对员工造成一定的危险性，而且，在清洗过程中，卡塞中的硅片都是静止的放置在清洗槽中，使得清洗时间增加，整个过程效率低下，因此，解决这类问题就显的十分必要了。因此提出一种自动硅片清洗设备。

实用新型内容

本实用新型提出的一种自动硅片清洗设备，解决了现有硅片清洗低效，且中间的过程繁琐，一体化低的问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种自动硅片清洗设备，包括浸泡箱、清洗箱、去离子箱，所述清洗箱内设置有水管，且水管上设置有喷头，所述泡箱、清洗箱、去离子箱的上端设置有顶板，且其内设置有滑槽，所述滑槽的后内壁的上端固定连接有齿条，所述滑槽内设置有滑板，所述滑板的左右两端均固定连接有液压杆，所述滑板中心设置有转杆，所述液压杆的下端固定连接有弧形板，且弧形板内设置有滑轨，所述滑轨内滑动连接有转盘，所述转盘的中心套接有转筒，所述转筒的外表面固定连接有托板，所述托板上开设有圆槽。

优选的，所述转杆的表面固定连接有限位条，且转筒的内壁开设有限位槽，且二者之间配合连接。

优选的，所述转盘的外沿固定连接有凸台，且凸台滑动连接在滑轨内。

优选的，所述滑板滑动连接在滑槽内，且滑板的后端设置有电机，且电机的输出端固定连接有齿轮，且其与滑槽后侧上端固定连接的齿条啮合连接。

优选的，所述转杆的上端固定连接在电机的输出端，且电机的上端设置在滑板的中心。

优选的，所述滑板的前后两端固定连接有滑轮，且滑轮滑动连接在滑槽的下内壁。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

1、通过将浸泡箱、清洗箱、去离子箱分别依次的设置，且它们的上方设置有顶板，顶板内设置有滑槽，滑槽内滑动连接有滑板，且滑板的左右两端通过液压杆连接有弧形板，弧形板内滑轨滑动连接有转盘，且转盘的中心套接有转筒，转筒的表面固定连接有托板，托板上开设有圆槽，且圆槽内可以放置硅板，使得硅板可以放置在其上转运到不同的箱体内进行清洗。

2、滑板的中心固定连接有转杆，且转杆的表面固定了连接有限位条，且可以与转筒内的限位槽配合连接，使得在转杆的上端在固定连接的电机输出端的带动下，转杆可以带动转筒及其表面的转盘以及托板进行转动，使得托板上的圆槽内放置的硅板可以被转动，增加了清洗的效率，且在清洗箱内进行喷淋冲洗时也可以均匀的接受冲洗，使得本装置具有便于清洗、转运且清洗效率高的特点。

附图说明

图1为本实用新型的一种自动硅片清洗设备的结构的剖视图。

图2为图1中A-A的剖视图。

图3为图1中B-B的剖视图。

图中标号：1浸泡箱、2清洗箱、3去离子箱、4水管、5喷头、6顶板、7滑槽、8齿条、9液压杆、10转杆、11限位条、12弧形板、13滑轨、14转盘、15转筒，16限位槽、17托板、18圆槽、19滑板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-3，一种自动硅片清洗设备，包括浸泡箱1、清洗箱2、去离子箱3，清洗箱2内设置有水管4，且水管4上设置有喷头5，泡箱1、清洗箱2、去离子箱3的上端设置有顶板6，且其内设置有滑槽7，滑槽7的后内壁的上端固定连接有齿条8，滑槽7内设置有滑板19，滑板19的左右两端均固定连接有液压杆9，滑板19中心设置有转杆10，液压杆9的下端固定连接有弧形板12，且弧形板12内设置有滑轨13，滑轨13内滑动连接有转盘14，转盘14的中心套接有转筒15，转筒15的外表面固定连接有托板17，托板17上开设有圆槽18。

本实施方式中，转杆10的表面固定连接有限位条11，且转筒15的内壁开设有限位槽16，且二者之间配合连接。

本实施方式中，转盘14的外沿固定连接有凸台，且凸台滑动连接在滑轨13内。

本实施方式中，滑板19滑动连接在滑槽7内，且滑板19的后端设置有电机，且电机的输出端固定连接有齿轮，且其与滑槽7后侧上端固定连接的齿条8啮合连接。

本实施方式中，转杆10的上端固定连接在电机的输出端，且电机的上端设置在滑板19的中心。

本实施方式中，滑板19的前后两端固定连接有滑轮，且滑轮滑动连接在滑槽7的下内壁。

工作原理：通过将浸泡箱1、清洗箱2、去离子箱3分别依次的设置，且它们的上方设置有顶板6，顶板6内设置有滑槽7，滑槽7内滑动连接有滑板19，且滑板19的左右两端通过液压杆9连接有弧形板12，弧形板12内滑轨滑动连接有转盘14，且转盘14的中心套接有转筒15，转筒15的表面固定连接有托板17，托板17上开设有圆槽18，且圆槽18内可以放置硅板，使得硅板可以放置在其上转运到不同的箱体内进行清洗，滑板19的中心固定连接有转杆，且转杆的表面固定了连接有限位条，且可以与转筒内的限位槽配合连接，使得在转杆10的上端在固定连接的电机输出端的带动下，转杆10可以带动转筒15及其表面的转盘14以及托板17进行转动，使得托板17上的圆槽18内放置的硅板可以被转动，增加了清洗的效率，且在清洗箱2内进行喷淋冲洗时也可以均匀的接受冲洗，使得本装置具有便于清洗、转运且清洗效率高的特点。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种自动硅片清洗设备，包括浸泡箱(1)、清洗箱(2)、去离子箱(3)，所述清洗箱(2)内设置有水管(4)，且水管(4)上设置有喷头(5)，其特征在于，所述泡箱(1)、清洗箱(2)、去离子箱(3)的上端设置有顶板(6)，且其内设置有滑槽(7)，所述滑槽(7)的后内壁的上端固定连接有齿条(8)，所述滑槽(7)内设置有滑板(19)，所述滑板(19)的左右两端均固定连接有液压杆(9)，所述滑板(19)中心设置有转杆(10)，所述液压杆(9)的下端固定连接有弧形板(12)，且弧形板(12)内设置有滑轨(13)，所述滑轨(13)内滑动连接有转盘(14)，所述转盘(14)的中心套接有转筒(15)，所述转筒(15)的外表面固定连接有托板(17)，所述托板(17)上开设有圆槽(18)。

2.根据权利要求1所述一种自动硅片清洗设备，其特征在于，所述转杆(10)的表面固定连接有限位条(11)，且转筒(15)的内壁开设有限位槽(16)，且二者之间配合连接。

3.根据权利要求1所述一种自动硅片清洗设备，其特征在于，所述转盘(14)的外沿固定连接有凸台，且凸台滑动连接在滑轨(13)内。

4.根据权利要求1所述一种自动硅片清洗设备，其特征在于，所述滑板(19)滑动连接在滑槽(7)内，且滑板(19)的后端设置有电机，且电机的输出端固定连接有齿轮，且其与滑槽(7)后侧上端固定连接的齿条(8)啮合连接。

5.根据权利要求1所述一种自动硅片清洗设备，其特征在于，所述转杆(10)的上端固定连接在电机的输出端，且电机的上端设置在滑板(19)的中心。

6.根据权利要求1所述一种自动硅片清洗设备，其特征在于，所述滑板(19)的前后两端固定连接有滑轮，且滑轮滑动连接在滑槽(7)的下内壁。

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