CN209880568U - 全自动刻蚀上料机 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及硅片加工设备领域，尤其是全自动刻蚀上料机。该上料机包括机台、X轴向输送台一、X轴向输送台二、Y轴向输送台一、Y轴向输送台二、升降台、上下直线模组、传送平台、缓存框体、转杆、框体驱动气缸和污物吹除机构，所述机台上固定有升降台、Y轴向输送台一、Y轴向输送台二、上下直线模组、框体驱动气缸、污物吹除机构。本实用新型通过Y轴向输送台一配合可升降的X轴向输送台一实现硅片的L形轨道运行。通过X轴向输送台二和Y轴向输送台二配合传送平台实现硅片L形轨道运行。通过框体驱动气缸驱动缓存框体来缓存硅片的传送。通过污物吹除机构来清理硅片上的污物。提高了硅片上料的效率。

Description

全自动刻蚀上料机

技术领域

本实用新型涉及硅片加工设备领域，尤其是全自动刻蚀上料机。

背景技术

刻蚀工艺是把未被抗蚀剂掩蔽的薄膜层除去，从而在薄膜上得到与抗蚀剂膜上完全相同图形的工艺。在集成电路制造过程中，经过掩模套准、曝光和显影，在抗蚀剂膜上复印出所需的图形，或者用电子束直接描绘在抗蚀剂膜上产生图形，然后把此图形精确地转移到抗蚀剂下面的氧化硅上去，制造出所需的薄层图案。而在硅片进行刻蚀加工之前需要上料。但现有的上料机效率较低。

实用新型内容

为了解决背景技术中描述的技术问题，本实用新型提供了一种全自动刻蚀上料机。通过Y轴向输送台一配合可升降的X轴向输送台一实现硅片的L形轨道运行。通过X轴向输送台二和Y轴向输送台二配合传送平台实现硅片L形轨道运行。通过框体驱动气缸驱动缓存框体来缓存硅片的传送。通过污物吹除机构来清理硅片上的污物。提高了硅片上料的效率。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种全自动刻蚀上料机，包括机台、X轴向输送台一、X轴向输送台二、Y轴向输送台一、Y轴向输送台二、升降台、上下直线模组、传送平台、缓存框体、转杆、框体驱动气缸和污物吹除机构，所述机台上固定有升降台、Y轴向输送台一、Y轴向输送台二、上下直线模组、框体驱动气缸、污物吹除机构，X轴向输送台一两端分别固定在升降台的平台上，Y轴向输送台一上设有用于穿过X轴向输送台一的凹槽，X轴向输送台一与X轴向输送台二位于同一直线上，传送平台固定在上下直线模组的滑座上，传送平台相邻的两侧分别朝向X轴向输送台二的端头和Y轴向输送台二的端头，X轴向输送台二穿过缓存框体和污物吹除机构，缓存框体的两侧板均转动连接有数个用于放置硅片的转杆，缓存框体的底板固定在框体驱动气缸的活塞杆上。

具体地，所述污物吹除机构由固定框、腔室和喷气嘴组成，固定框固定在机台上，固定框上下两端分别固定有腔室，腔室与喷气嘴固定并连同，腔室与气泵相连通，X轴向输送台二穿过固定框。

具体地，所述X轴向输送台一、X轴向输送台二、Y轴向输送台一、Y轴向输送台二均为皮带输送机，皮带输送机由两个平行的台体、两条平行的皮带、数个传动轮和电机组成，台体上转动连接有数个传动轮，台体上的传动轮均贴合于皮带内圈，组成皮带输送机的两个台体相互对称，两个相互对称的台体上相对应的传动轮均通过轴杆固定连接在一起，电机的输出轴通过传动带与其中一个轴杆相连接。

具体地，所述Y轴向输送台一的台体上开设有两个凹槽，X轴向输送台一的两个台体分别穿过Y轴向输送台一的台体上的两个凹槽。

具体地，所述升降台由升降气缸和平板组成，升降气缸的缸体固定在机台上，升降气缸的活塞杆端固定有平板，平板固定在X轴向输送台一的台体底端。

具体地，所述传送平台由平台、驱动电机、传送带和滑槽组成，平台内转动连接有两根相互平行的转轴，每根转轴上套设并固定有两个传动轮，两个并不位于同一根转轴上的传动轮贴合在一个传送带内圈上，平台上开设有用于滑动花篮的滑槽，滑槽位于两条传送带之间，驱动电机的输出轴固定在其中一根转轴端头上，驱动电机固定在平台上，平台固定在上下直线模组的滑座上。

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供了一种全自动刻蚀上料机。通过Y轴向输送台一配合可升降的X轴向输送台一实现硅片的L形轨道运行。通过X轴向输送台二和Y轴向输送台二配合传送平台实现硅片L形轨道运行。通过框体驱动气缸驱动缓存框体来缓存硅片的传送。通过污物吹除机构来清理硅片上的污物。提高了硅片上料的效率。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的Y轴向输送台一的结构示意图；

图3是本实用新型的缓存框体、转杆、框体驱动气缸的结构示意图；

图4是本实用新型的污物吹除机构的结构示意图；

图中1.机台，2.X轴向输送台一，3.X轴向输送台二,4.Y轴向输送台一，5.Y轴向输送台二，6.升降台，7.上下直线模组，8.传送平台，9.缓存框体，10.转杆，11.框体驱动气缸，12.污物吹除机构，81.平台，82.驱动电机，83.传送带，84.滑槽，121.固定框，122.腔室，123.喷气嘴。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

图1是本实用新型的结构示意图，图2是本实用新型的Y轴向输送台一的结构示意图，图3是本实用新型的缓存框体、转杆、框体驱动气缸的结构示意图，图4是本实用新型的污物吹除机构的结构示意图。

一种全自动刻蚀上料机，包括机台1、X轴向输送台一2、X轴向输送台二3、Y轴向输送台一4、Y轴向输送台二5、升降台6、上下直线模组7、传送平台8、缓存框体9、转杆10、框体驱动气缸11和污物吹除机构12，所述机台1上固定有升降台6、Y轴向输送台一2、Y轴向输送台二5、上下直线模组7、框体驱动气缸11、污物吹除机构12，X轴向输送台一2两端分别固定在升降台6的平台上，Y轴向输送台一4上设有用于穿过X轴向输送台一2的凹槽，X轴向输送台一2与X轴向输送台二3位于同一直线上，传送平台8固定在上下直线模组7的滑座上，传送平台8相邻的两侧分别朝向X轴向输送台二3的端头和Y轴向输送台二5的端头，X轴向输送台二3穿过缓存框体9和污物吹除机构12，缓存框体9的两侧板均转动连接有数个用于放置硅片的转杆10，缓存框体9的底板固定在框体驱动气缸11的活塞杆上。所述污物吹除机构12由固定框121、腔室122和喷气嘴123组成，固定框121固定在机台1上，固定框121上下两端分别固定有腔室122，腔室122与喷气嘴123固定并连同，腔室122与气泵相连通，X轴向输送台二3穿过固定框121。所述X轴向输送台一2、X轴向输送台二3、Y轴向输送台一4、Y轴向输送台二5均为皮带输送机，皮带输送机由两个平行的台体、两条平行的皮带、数个传动轮和电机组成，台体上转动连接有数个传动轮，台体上的传动轮均贴合于皮带内圈，组成皮带输送机的两个台体相互对称，两个相互对称的台体上相对应的传动轮均通过轴杆固定连接在一起，电机的输出轴通过传动带与其中一个轴杆相连接。所述Y轴向输送台一4的台体上开设有两个凹槽，X轴向输送台一2的两个台体分别穿过Y轴向输送台一4的台体上的两个凹槽。所述升降台6由升降气缸和平板组成，升降气缸的缸体固定在机台1上，升降气缸的活塞杆端固定有平板，平板固定在X轴向输送台一2的台体底端。所述传送平台8由平台81、驱动电机82、传送带83和滑槽84组成，平台81内转动连接有两根相互平行的转轴，每根转轴上套设并固定有两个传动轮，两个并不位于同一根转轴上的传动轮贴合在一个传送带83内圈上，平台81上开设有用于滑动花篮的滑槽84，滑槽84位于两条传送带83之间，驱动电机82的输出轴固定在其中一根转轴端头上，驱动电机82固定在平台81上，平台81固定在上下直线模组7的滑座上。

直线模组为电机驱动滚珠丝杠旋转，旋转的滚珠丝杠驱使与之螺纹连接的滚珠螺母进行直线移动，与滚珠螺母外圈固定的滑座就与其同步移动。

如附图3所示，缓存框体9由两个相互平行的侧板及底部组成，每个侧板上均转动连接有两排转杆10，每一排转杆10均由数个转杆10由上到下依次排列。两个侧板上的转杆10相互对称，因此缓存框体9内的四个转杆组成一个支撑平面。而框体驱动气缸11的活塞杆可以驱使缓存框体9上下直线移动。

如附图4所示，当硅片被传送至两个喷气嘴123之间时，启动气泵，气泵产生的气流通过腔室122从喷气嘴123喷出，上下两个喷气嘴123分别对硅片的上下两面进行污物的吹除。

结合附图1、附图2和附图3所示，皮带输送机的工作方式为，电机的输出轴通过传动带驱使同一轴杆上的两个主动的传动轮进行旋转，旋转的传动轮通过摩擦力驱使皮带和其他张紧在皮带内圈的传动轮进行传动。传动的皮带通过摩擦力带动硅片进行传送。

Y轴向输送台一4的轨道与X轴向输送台一2的轨道相互垂直，X轴向输送台二3的轨道与Y轴向输送台二5的轨道相互垂直。

首先启动上下直线模组7，上下直线模组7驱使传送平台8移动至Y轴向输送台二5的正前方，此时Y轴向输送台二5将插满未经加工的硅片的花篮往前传送，直至花篮沿着传送平台8的滑槽84滑配到位。

接着上下直线模组7驱使传送平台8往下移动，直到花篮最底部的硅片部分贴合到X轴向输送台二3的皮带上，并经由X轴向输送台二3的皮带往前传送。

在传送的过程中硅片会经过污物吹除机构12，从而将硅片正反两面的污物吹除。接着被传送到缓存框体9当前空置的由四根转杆10组成的支撑平面上。当第一片硅片插入到当前支撑平面上之后，框体驱动气缸11驱使缓存框体9上下移动，将其余空置的支撑平面移动至传送过来的第二片硅片正前方，直到第二片硅片插入到当前的支撑平面上。依次方法，就可以将数个硅片存储到缓存框体9内，从而对传送过来的硅片进行缓存。

而空置缓存框体9升降，可以将缓存框体9内的硅片贴合到皮带上，并经由皮带将缓存框体9内的硅片移出。在硅片出入缓存框体9时，由于接触到的转杆10都是可以旋转的，因此转杆10对于硅片的磨损大大减小。

接着硅片从X轴向输送台二3被传送至X轴向输送台一2上，此时X轴向输送台一2的皮带高度高于Y轴向输送台一4的皮带高度。当硅片被X轴向输送台一2传送至Y轴向输送台一4的皮带正上方之后，两个升降台6的升降气缸的活塞杆回缩，从而将X轴向输送台一2往下移动，直到X轴向输送台一2下降到Y轴向输送台一4的凹槽内并低于Y轴向输送台一4，这样就使得硅片贴合在Y轴向输送台一4的皮带上。此时Y轴向输送台一4就将硅片传送至刻蚀加工工位。

以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

Claims (6)

1.一种全自动刻蚀上料机，其特征是，包括机台(1)、X轴向输送台一(2)、X轴向输送台二(3)、Y轴向输送台一(4)、Y轴向输送台二(5)、升降台(6)、上下直线模组(7)、传送平台(8)、缓存框体(9)、转杆(10)、框体驱动气缸(11)和污物吹除机构(12)，所述机台(1)上固定有升降台(6)、Y轴向输送台一(4)、Y轴向输送台二(5)、上下直线模组(7)、框体驱动气缸(11)、污物吹除机构(12)，X轴向输送台一(2)两端分别固定在升降台(6)的平台上，Y轴向输送台一(4)上设有用于穿过X轴向输送台一(2)的凹槽，X轴向输送台一(2)与X轴向输送台二(3)位于同一直线上，传送平台(8)固定在上下直线模组(7)的滑座上，传送平台(8)相邻的两侧分别朝向X轴向输送台二(3)的端头和Y轴向输送台二(5)的端头，X轴向输送台二(3)穿过缓存框体(9)和污物吹除机构(12)，缓存框体(9)的两侧板均转动连接有数个用于放置硅片的转杆(10)，缓存框体(9)的底板固定在框体驱动气缸(11)的活塞杆上。

2.根据权利要求1所述的全自动刻蚀上料机，其特征在于：所述污物吹除机构(12)由固定框(121)、腔室(122)和喷气嘴(123)组成，固定框(121)固定在机台(1)上，固定框(121)上下两端分别固定有腔室(122)，腔室(122)与喷气嘴(123)固定并连同，腔室(122)与气泵相连通，X轴向输送台二(3)穿过固定框(121)。

3.根据权利要求1所述的全自动刻蚀上料机，其特征在于：所述X轴向输送台一(2)、X轴向输送台二(3)、Y轴向输送台一(4)、Y轴向输送台二(5)均为皮带输送机，皮带输送机由两个平行的台体、两条平行的皮带、数个传动轮和电机组成，台体上转动连接有数个传动轮，台体上的传动轮均贴合于皮带内圈，组成皮带输送机的两个台体相互对称，两个相互对称的台体上相对应的传动轮均通过轴杆固定连接在一起，电机的输出轴通过传动带与其中一个轴杆相连接。

4.根据权利要求3所述的全自动刻蚀上料机，其特征在于：所述Y轴向输送台一(4)的台体上开设有两个凹槽，X轴向输送台一(2)的两个台体分别穿过Y轴向输送台一(4)的台体上的两个凹槽。

5.根据权利要求1所述的全自动刻蚀上料机，其特征在于：所述升降台(6)由升降气缸和平板组成，升降气缸的缸体固定在机台(1)上，升降气缸的活塞杆端固定有平板，平板固定在X轴向输送台一(2)的台体底端。

6.根据权利要求1所述的全自动刻蚀上料机，其特征在于：所述传送平台(8)由平台(81)、驱动电机(82)、传送带(83)和滑槽(84)组成，平台(81)内转动连接有两根相互平行的转轴，每根转轴上套设并固定有两个传动轮，两个并不位于同一根转轴上的传动轮贴合在一个传送带(83)内圈上，平台(81)上开设有用于滑动花篮的滑槽(84)，滑槽(84)位于两条传送带(83)之间，驱动电机(82)的输出轴固定在其中一根转轴端头上，驱动电机(82)固定在平台(81)上，平台(81)固定在上下直线模组(7)的滑座上。