CN209816270U - 一种真空镀膜机的真空填充系统 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种真空镀膜机的真空填充系统,包括真空腔体,所述真空腔体顶部设置有进气管,进气管一端用于充入空气,进气管另一端延伸至真空腔体内部,所述进气管另一端连接有螺旋状泄气管,该螺旋状泄气管上均匀排列有若干个出气口,螺旋状泄气管由于其自身的形状结构,能够对进入的高速气体进行引流缓冲,吸收充入气体的冲击性,同时改变充入气体在真空腔体内的扩散方式,充入气体经由螺旋状泄气管上分布的出气口,气体能够平缓均匀分散地从真空腔体顶部填充入底部,减缓了充气系统的气体冲击性,避免了在真空腔体内形成回流,将真空腔体内的粉尘刮起,被工件表面吸附,造成工件镀膜不良,提高了良品率,节省了生产成本。

Description

一种真空镀膜机的真空填充系统
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜机领域,特别是一种真空镀膜机的真空填充系统。
背景技术
真空镀膜是指在真空环境中,将某种金属或者金属化合物以气相的形式沉积到材料表面,属于物理气相工艺,可大量应用于汽车、家电、工艺装饰等工业领域,真空镀膜是真空领域里面重要的一个分支,真空镀膜主要是在真空腔体里面进行,真空腔体必须是密闭环境,先对真空室进行抽真空,达到一定真空度后进行镀膜。
完成镀膜工序后,需要向真空腔体内充入气体,使真空状态回复到大气状态后才能打开真空腔体取出工件。现有的充气系统,充气口设于真空腔体顶部,经充气口充入的高速气体沿着管道流到真空腔体底部,反弹喷射到真空腔体内部的工件表面上,容易形成回旋气流,将真空腔体内的粉尘刮起,进而被刚镀完膜的工件表面吸附,形成永久性的不良。
实用新型内容
针对现有技术中存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机的真空填充系统。
为解决上述问题,本实用新型采用如下的技术方案。
一种真空镀膜机的真空填充系统,包括真空腔体,所述真空腔体顶部设置有进气管,进气管一端用于充入空气,进气管另一端延伸至真空腔体内部,所述进气管另一端连接有螺旋状泄气管,该螺旋状泄气管上均匀排列有若干个出气口。
作为本实用新型的进一步改进,所述进气管一端设置有调节阀门。
作为本实用新型的进一步改进,所述进气管另一端与螺旋状泄气管的连接处设置有分流管道。
作为本实用新型的进一步改进,所述分流管道具有至少一个拐点。
作为本实用新型的进一步改进,所述螺旋状泄气管的形状为圆形。
本实用新型的有益效果
相比于现有技术,本实用新型的优点在于:
本实用新型通过在真空腔体内部设置螺旋状泄气管,螺旋状泄气管由于其自身的形状结构,能够对进入的高速气体进行引流缓冲,吸收充入气体的冲击性,同时改变充入气体在真空腔体内的扩散方式,充入气体经由螺旋状泄气管上分布的出气口,气体能够平缓均匀分散地从真空腔体顶部填充入底部,减缓了充气系统的气体冲击性,避免了在真空腔体内形成回流,将真空腔体内的粉尘刮起,被工件表面吸附,造成工件镀膜不良,提高了良品率,节省了生产成本。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述;显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1,一种真空镀膜机的真空填充系统,包括真空腔体1,所述真空腔体1顶部设置有进气管2,进气管2一端用于充入空气,进气管2另一端延伸至真空腔体1内部,所述进气管2另一端连接有螺旋状泄气管3,螺旋状泄气管3的尾端封闭,该螺旋状泄气管3上均匀排列有若干个出气口4,经进气管2一端充入的高速气体喷射到真空腔体1内的螺旋状泄气管3,螺旋状泄气管3由于其自身的形状结构,能够对进入的高速气体进行引流缓冲,吸收充入气体的冲击性,同时改变充入气体在真空腔体1内的扩散方式,充入气体经由螺旋状泄气管3上分布的出气口4,气体能够平缓均匀分散地从真空腔体1顶部填充入底部,减缓了充气系统的气体冲击性,避免了在真空腔体1内形成回流,将真空腔体1内的粉尘刮起,被工件表面吸附,造成工件镀膜不良,提高了良品率,节省了生产成本。
进一步,所述进气管2一端设置有调节阀门5,该调节阀门5能够调节进气管2的气体流量,进一步降低充入气体的冲击性,避免了充入气体在真空腔体1内形成回流。
进一步,所述进气管2另一端与螺旋状泄气管3的连接处设置有分流管道6,该分流管道6可有效地将气体分成多路输出,间接地进一步降低充入气体的冲击性,优选的,所述分流管道6具有至少一个拐点,用于对充入气体做进一步的缓冲。
优选的,所述螺旋状泄气管3的形状为圆形。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式;但本实用新型的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

Claims (5)

1.一种真空镀膜机的真空填充系统,其特征在于:包括真空腔体,所述真空腔体顶部设置有进气管,进气管一端用于充入空气,进气管另一端延伸至真空腔体内部,所述进气管另一端连接有螺旋状泄气管,该螺旋状泄气管上均匀排列有若干个出气口。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的真空填充系统,其特征在于:所述进气管一端设置有调节阀门。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的真空填充系统,其特征在于:所述进气管另一端与螺旋状泄气管的连接处设置有分流管道。
4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜机的真空填充系统,其特征在于:所述分流管道具有至少一个拐点。
5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的真空填充系统,其特征在于:所述螺旋状泄气管的形状为圆形。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115572938A (zh) * 2022-07-18 2023-01-06 江西弘耀光学水晶有限公司 一种高精密光学镜片镀膜方法
CN118064827A (zh) * 2024-04-18 2024-05-24 建中商云(上海)碳素工程有限公司 一种金属镀膜设备

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