一种真空烤瓷炉的上料装置
技术领域
本实用新型涉及义齿生产设备技术领域,尤其是涉及一种真空烤瓷炉的上料装置。
背景技术
烤瓷是一种牙科技术,一般称之为烤瓷牙。在烤瓷过程中,使用最为常见的设备则为烤瓷炉。
如图1所示,现有的烤瓷炉包括底座1、安装在底座1上的炉体2、设于底座1上的升降台21、固定在底座1上用于驱动升降台21进入到炉体2内的气缸22、固定在升降台21上的放置台23、放置在放置台23上的托盘24,气缸22的活塞杆固定连接于升降台21下表面,托盘24的上表面开设有若干插接槽,插接槽内插接有安装杆,义齿3包括齿体和固定在齿体两侧的套筒,套筒滑动套设在安装杆外。在义齿3烤瓷之前,先将套筒套设在安装杆外,再启动气缸22,气缸22通过驱动升降台21上升从而使得义齿3进入到炉体2内进行烤瓷。
但是,当义齿3烤瓷完成后,因放置台23和托盘24的温度较高,若直接用手抓,会对人手造成烫伤,此时工人需要通过夹具夹持托盘24来进行上料和下料,而常用的托盘24为圆形,在夹持过程中有可能发生脱落,造成义齿3的损坏,因此需要改进。
实用新型内容
针对上述现有技术的不足,本实用新型的目的是提供一种真空烤瓷炉的上料装置,提高了托盘在上料和下料过程中的稳定性。
本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种真空烤瓷炉的上料装置,包括转动连接于底座的转动盘、固定在底座上的搁置台、两组用于夹持对应托盘且分别对应于放置台和搁置台的夹持组件,放置台和搁置台分别设于转动盘相对的两侧,夹持组件包括开设在托盘侧壁上的环形槽、两组转动连接于转动盘且分别设于托盘两侧的夹持件、带动两组夹持件转动嵌入到环形槽内的伸缩杆,伸缩杆的两端分别转动连接于两组夹持件。
通过采用上述技术方案,在义齿烤瓷完成之前,先通过伸缩杆的收缩来带动两组夹持件转动嵌入到装有待烤瓷义齿的备用托盘的环形槽内,从而进行备料;在义齿烤瓷完成后,先通过气缸带动放置台下降,再旋转转动盘使得另外两组夹持件分别位于托盘两侧,然后通过伸缩杆的收缩来带动两组夹持件转动嵌入到环形槽内,最后旋转转动盘,装有烤瓷完成义齿的托盘将运动至搁置台的正上方,装有待烤瓷义齿的备用托盘将运动至放置台的正上方,此时通过两组伸缩杆的伸长,两组夹持件将脱离于托盘,装有烤瓷完成义齿的托盘将被放置在搁置台上,装有待烤瓷义齿的备用托盘将被放置在放置台上,既提高了托盘在上料和下料过程中的稳定性,又实现了对义齿的同步上料和下料,提高了义齿的加工效率。
本实用新型进一步设置为:所述夹持件包括转动连接于转动盘的转动杆、固定在转动杆上且可转动嵌入到环形槽内的扇形环。
通过采用上述技术方案,在伸缩杆收缩的过程中,转动杆将相对转动盘转动并促使扇形环转动嵌入到环形槽内,从而将托盘稳定夹持。
本实用新型进一步设置为:所述放置台和搁置台上均固定有供托盘滑动嵌设的限位环,扇形环上设有带动托盘上升脱离于限位环的脱离件。
通过采用上述技术方案,限位环使得托盘不易发生晃动,在两组扇形环对托盘夹持的过程中,脱离件将带动托盘上升并脱离于限位环,在保证了托盘稳定性的同时又便于将托盘移动至放置台上或搁置台上。
本实用新型进一步设置为:所述脱离件包括设于扇形环内壁上且朝上倾斜的第一导向面、设于环形槽槽壁上且朝下倾斜的第二导向面,第一导向面配合于第二导向面从而使得扇形环推动托盘上升并脱离于限位环。
通过采用上述技术方案,在两组扇形环夹持于托盘的过程中,第一导向面将贴合于第二导向面并推动托盘上升,使其脱离于限位环,从而便于将托盘移动至放置台上或搁置台上。
本实用新型进一步设置为:所述伸缩杆包括转动连接于一组夹持件的限位筒、转动连接于另一组夹持件且滑动嵌设在限位筒内的限位杆,限位筒上设有将限位杆卡接固定的卡接组件。
通过采用上述技术方案,限位杆通过在限位筒内滑动来改变伸缩杆的长度,从而使得两组夹持件夹持于托盘或脱离于托盘;卡接组件将限位杆卡接固定在限位筒内,提高了两组夹持件在夹持于托盘时的稳定性。
本实用新型进一步设置为:所述卡接组件包括开设在限位杆侧壁上的放置槽、开设在限位筒外壁上的贯穿槽、同时卡接于放置槽和贯穿槽的卡接块,当两组夹持件夹持于托盘时,贯穿槽对应于放置槽。
通过采用上述技术方案,当两组夹持件夹持于托盘时,贯穿槽对应于放置槽,此时将卡接块嵌入到放置槽和贯穿槽内,即可将限位杆卡接固定在固定筒内,保证了对托盘的稳定夹持。
本实用新型进一步设置为:所述放置槽内设有驱动卡接块卡接在贯穿槽内的驱动弹簧,驱动弹簧的两端分别固定连接于放置槽槽壁和卡接块侧壁,卡接块可完全沉入到放置槽内。
通过采用上述技术方案,当驱动弹簧处于正常状态时,卡接块将卡接在贯穿槽内,从而可对托盘进行稳定夹持;当卡接块完全沉入到放置槽内时,可滑动限位杆使得两组夹持件相互远离从而脱离于托盘。
本实用新型进一步设置为:所述夹持组件还包括驱动两组夹持件相互远离从而脱离于托盘的扭簧,扭簧的两端分别连接于夹持件和转动盘。
通过采用上述技术方案,当卡接块完全沉入到放置槽内时,扭簧将驱动两组夹持件相互远离从而脱离于托盘,便于将托盘放置在放置台上或搁置台上。
综上所述,本实用新型具有以下有益效果:
1. 转动盘、伸缩杆、夹持件、搁置台的设置,既提高了托盘在上料和下料过程中的稳定性,又实现了对义齿的同步上料和下料,提高了义齿的加工效率;
2. 限位环、第一导向面、第二导向面的设置,在保证了托盘稳定性的同时又便于将托盘移动至放置台上或搁置台上。
附图说明
图1是现有技术的结构示意图;
图2是本实用新型实施例中组件的结构示意图;
图3是本实用新型实施例中表示夹持组件和托盘的爆炸结构示意图;
图4是图3中A处的局部放大示意图。
图中:1、底座;2、炉体;21、升降台;22、气缸;23、放置台;24、托盘;3、义齿;4、转动盘;5、搁置台;6、夹持组件;61、转动杆;62、扇形环;63、环形槽;64、限位环;65、第一导向面;66、第二导向面;7、伸缩杆;71、限位筒;72、限位杆;8、卡接组件;81、放置槽;82、卡接块;83、驱动弹簧;84、贯穿槽;85、扭簧。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
如图2所示,一种真空烤瓷炉的上料装置,包括转动连接于底座1的转动盘4、固定在底座1上用于放置托盘24的搁置台5,搁置台5和放置台23分别设于转动盘4相对的两侧。
如图2所示,转动盘4上设有两组夹持组件6,两组夹持组件6分别对应于放置台23和搁置台5;如图2和图3所示,夹持组件6包括两组对称设于托盘24两侧的夹持件,夹持件包括转动连接于转动盘4的转动杆61,转动杆61上固定有扇形环62,托盘24侧壁上开设有供扇形环62转动嵌设的环形槽63;两组转动杆61之间设有伸缩杆7,伸缩杆7的两端分别转动连接于两组转动杆61,伸缩杆7通过收缩带动两组转动杆61转动并促使扇形环62转动嵌入到环形槽63内。
如图3所示,放置台23和搁置台5上均固定有供托盘24滑动嵌设的限位环64,扇形环62上设有脱离件,用于带动托盘24上升并脱离于限位环64。
如图3所示,脱离件包括设于扇形环62内壁上且朝上倾斜的第一导向面65、设于环形槽63槽壁上且朝下倾斜的第二导向面66,第一导向面65配合于第二导向面66从而使得扇形环62在嵌入到环形槽63内的过程中将推动托盘24上升并脱离于限位环64,便于将托盘24放置在放置台23上或搁置台5上。
如图3和图4所示,伸缩杆7包括转动连接于一组转动杆61的限位筒71、转动连接于另一组转动杆61且滑动嵌设在限位筒71内的限位杆72,限位杆72通过在限位筒71内滑动来调节伸缩杆7的长度从而来对托盘24进行夹持或放置;限位筒71上设有卡接组件8,用于将限位杆72卡接固定在限位筒71内。
如图4所示,卡接组件8包括开设在限位杆72侧壁上的放置槽81,放置槽81内滑动嵌设有卡接块82,且放置槽81内设有驱动弹簧83,驱动弹簧83的两端分别固定连接于放置槽81槽壁和卡接块82侧壁,限位筒71的外壁上开设有贯穿槽84,当两组扇形环62夹持于托盘24时,贯穿槽84对应于放置槽81,驱动弹簧83将驱动卡接块82卡接于贯穿槽84,从而将限位杆72卡接固定在限位筒71内;卡接块82可完全沉入到放置槽81内,从而可滑动限位杆72使得两组扇形环62脱离于托盘24。
如图3所示,转动杆61上设有扭簧85,扭簧85的两端分别固定连接于转动杆61和转动盘4,当卡接块82完全沉入到放置槽81内时,扭簧85将驱动两组扇形环62脱离于托盘24,便于将托盘24放置在放置台23上或搁置台5上。
本实施例的实施原理为:在义齿3烤瓷完成之前,先滑动限位杆72使得两组扇形环62转动嵌入装有待烤瓷义齿3的备用托盘24的环形槽63内,从而进行备料,同时放置槽81将对应于贯穿槽84,驱动弹簧83将驱动卡接块82卡接于贯穿槽84,从而使得扇形环62稳定夹持于托盘24。
在义齿3烤瓷完成后,先通过气缸22带动放置台23下降,再旋转转动盘4并滑动限位杆72使得两组扇形环62转动嵌入到环形槽63内,在第一导向面65和第二导向面66的配合作用下,装有烤瓷完成义齿3的托盘24将上升脱离于限位环64并被两组扇形环62夹持;
然后旋转转动盘4,装有烤瓷完成义齿3的托盘24将运动至搁置台5的正上方,装有待烤瓷义齿3的备用托盘24将运动至放置台23的正上方,此时将卡接块82压入到放置槽81内,扭簧85将驱动扇形环62转动脱离于托盘24,装有烤瓷完成义齿3的托盘24将被落入到搁置台5上的限位环64内进行自然冷却,装有待烤瓷义齿3的备用托盘24将落入到放置台23上的限位环64内以便进行烤瓷,既提高了托盘24在上料和下料过程中的稳定性,又实现了对义齿3的同步上料和下料,提高了义齿3的加工效率。
本具体实施方式的实施例均为本实用新型的较佳实施例,并非依此限制本实用新型的保护范围,故:凡依本实用新型的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本实用新型的保护范围之内。