CN209374397U - 一种射频等离子刻蚀用硅片固定装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种射频等离子刻蚀用硅片固定装置，涉及硅片加工设备技术领域，包括伸缩套筒、伸缩杆、转体、压紧部、承载台。伸缩套筒具有伸缩空间。伸缩杆具有齿条，齿条设置在伸缩空间中。转体具有齿轮，齿轮啮合齿条，齿条位于齿轮的相对位置。本实用新型采用手动转动转体以达到控制伸缩杆同步伸缩，避免了采用液缸、气缸、电缸等自动化设备因各种因素(详情请参照背景技术)造成伸缩杆相对移动的距离就存在不可控，需要反复尝试驱动伸缩杆相对的距离达到适应各种规格硅片。之后将硅片放入到承载台上，再用压紧部对硅片进行固定。

Description

一种射频等离子刻蚀用硅片固定装置

技术领域

本实用新型涉及硅片加工设备技术领域，特别涉及一种射频等离子刻蚀用硅片固定装置。

背景技术

晶体硅材料是最主要的光伏材料，在晶体硅太阳电池的生产过程中，需要根据工艺加工的顺序依次经过制绒、高温扩散和刻蚀等加工工艺。

在上述工艺加工过程中，都需要将硅片进行固定，而现有的硅片放置固定机构结构复杂且操作麻烦，不能将多种尺寸规格的硅片平稳准确牢固的放置。

针对上述问题，实用新型一种硅片放置固定机构，如公告号CN 106298619 B的中国专利，其中包括：平移套筒、平移板、平移液压缸。平移套筒两侧分别设置有平移套筒，平移液压缸两侧输出端分别与平移板固定连接。利用平移液压缸同步驱动两块平移板，使得两块平移板能够根据硅片的尺寸规格水平准确的同步相向移动，达到适应多种尺寸规格硅片的目的。但是采用液压缸进行同步驱动平移板会出现问题，第一，液压驱动以液压油为工作介质，在相对运动表面间不可避免的要有泄露，同时油液也不是绝对不可压缩的，因此在进行驱动平移板时平移板的相对移动的距离可能存在不可控(工作人员需要反复适应伸缩杆的伸缩速度)，需要反复尝试驱动平移板的距离达到适应各种规格硅片的目的；第二，液压驱动的油液受温度影响，由于油的粘度随温度的改变而改变，故同样在进行驱动平移板时平移板的相对移动的距离可能存在不可控，需要反复尝试驱动平移板的距离达到适应各种规格硅片的目的；第三，液压驱动的油液容易污染，油液污染后，会影响系统工作的可靠性，故同样在进行驱动平移板时平移板的相对移动的距离可能存在不可控，需要反复尝试驱动平移板的距离达到适应各种规格硅片的目的。如采用气缸进行同步驱动平移板，由于空气具有压缩性，气缸的动作速度易受载荷的变化而变化，在进行驱动平移板时平移板的相对移动的距离就存在不可控，需要反复尝试驱动平移板的距离达到适应各种规格硅片的目的。如采用电缸进行同步驱动平移板，这种方式是电机通过减速机来驱动铜螺母的，在使用过程中不可避免的会增加螺母的螺纹壁面的磨损，从而导致传动效率低下，在技术上也会比较难把握驱动平移板时控制平移板的相对距离，故需要反复尝试驱动平移板的距离达到适应各种规格硅片的目的。

实用新型内容

本实用新型目的之一是解决现有技术中需要反复尝试控制硅片放置固定机构的相对距离以达到适应各种规格硅片的问题。

本实用新型目的之二是提供一种硅片固定方法。

为达到上述目的之一，本实用新型采用以下技术方案：一种射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，包括：伸缩套筒，伸缩套筒具有伸缩空间；伸缩杆，伸缩杆具有齿条，齿条具有齿槽，齿条设置在伸缩空间中；转体，转体具有齿轮，齿轮啮合齿条，齿条位于齿轮的相对位置；推送装置，推送装置具有驱动端；固定部，固定部一端连接推送装置的驱动端，固定部另一端连接伸缩杆；施力部，施力部活动连接伸缩杆，推送装置连接施力部的一端；装夹部，施力部的另一端驱动装夹部进行运动；压紧部，压紧部连接装夹部；承载台，承载台具有摆放平台，承载台连接伸缩杆，承载台位于压紧部相对位置。

在上述技术方案中，本实用新型实施例首先根据硅片的尺寸规格，转动转体，转体的齿轮驱动齿条进行同步移动，促使伸缩杆贴合伸缩套筒的伸缩空间的侧壁进行伸缩移动，进一步驱动伸缩杆朝着相对方向进行同步稳定的伸缩移动；之后将硅片放在伸缩套筒与承载台上；最后启动推送装置，推送装置推动施力部进行旋转，施力部对装夹部进行旋转施力，促使装夹部的压紧部压紧硅片进行固定。

进一步地，在本实用新型实施例中，伸缩套筒外表面一侧具有弹性面。弹性面为橡胶弹性面，避免安装硅片时，硅片的尖锐部分划到伸缩套筒，导致硅片出现损坏。

进一步地，在本实用新型实施例中，承载台具有弹性。承载台材料为橡胶，避免在有限的空间内(因承载台相对位置有压紧部)安装硅片时，硅片的尖锐部分划到承载台，导致硅片出现损坏。

进一步地，在本实用新型实施例中,伸缩套筒还具有凹槽。

进一步地，在本实用新型实施例中,射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括：锁紧主件，锁紧主件垂直设置在转体一侧，锁紧主件具有：弹性锁紧单元，弹性锁紧单元具有一缺口，缺口形状与转体相适应，缺口与转体具有一定距离。转动锁紧主件，使得转体的弹性锁紧单元避开转体的旋转方向的位置挤压转体，对转体进行锁紧。在此过程中，因锁件主体垂直设置在转体一侧，所以在锁紧转体时能避开转体的旋转方向进行锁紧，转体不会出现任何的转动，保证了伸缩杆伸缩距离的精度，无需反复调节伸缩杆伸缩的距离以适应各种尺寸规格的硅片。

进一步地，在本实用新型实施例中，伸缩套筒具有两个。

进一步地，在本实用新型实施例中，射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括：收拉套筒，收拉套筒一端垂直设置在伸缩套筒一侧，收拉套筒具有收纳空间；收拉杆，收拉杆一端垂直设置在另一伸缩套筒一侧，收拉杆另一端设置在收纳空间中。首先拉开或收缩两个伸缩套筒的距离，使得收拉杆贴合收拉套筒的收纳空间的侧壁进行伸缩移动，进一步驱动收拉杆朝着相对方向进行同步稳定的伸缩移动，以适应硅片的宽度尺寸。同时，调节两个伸缩套筒之间的距离使得硅片一部分不具有支撑效果，为硅片提供部分加工空间，扩大了加工范围。

更进一步地，在本实用新型实施例中，收纳空间具有一通道，通道连通外界。

更进一步地，在本实用新型实施例中，射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括：扳压主体，扳压主体连接收拉套筒，扳压主体具有一孔洞；转动体，转动体活动连接扳压主体；压件，压件设置在孔洞中，压件与转动体处于相对位置。旋转转动件压下压件，使得压件的弹性层挤压固定住收拉杆，让收拉杆无法在收拉套筒中移动，进一步锁定住了两个伸缩套筒的距离。防止两个伸缩套筒移动，无法适应各种规格的硅片。

更进一步地，在本实用新型实施例中，射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括扳件，扳件连接转动体与扳压主体连接处。扳动扳件以达到控制转动体的目的，其中，扳件延长了转动体的力臂，有利于省力。

更进一步地，在本实用新型实施例中，压件具有复位弹性件。复位弹性件为弹簧，在无需锁定伸缩套筒距离的情况下，旋转转动件，使得转动件不再与压件接触，此时，复位弹性件利用弹性对压件进行复位，促使压件远离收拉杆解除锁定。

更进一步地，在本实用新型实施例中，压件具有弹性层。弹性层为软质橡胶层，弹性层位于收拉杆的相对位置。在压件促使弹性层压住收拉杆时，随着压件的持续施压，弹性层将会变形向收拉杆的表面延伸，加大与收拉杆的接触面积，防止收拉杆在外力因素下移动，进一步无法锁定两个伸缩套筒的距离，无法适应各种规格的硅片

更进一步地，在本实用新型实施例中，压件具有弧形槽，弧形槽与转动体形状相适应。压件的弧形槽的在一定程度上卡合或贴合转动件，弧形槽的壁面同样也阻挡了转动件的自旋转，具有一定的自锁作用，防止转动件脱离压件，导致无法锁定两个伸缩套筒的距离，无法适应各种规格的硅片。

进一步地，在本实用新型实施例中，射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括：弹性部，弹性部两端分别连接装夹部与施力部的另一端，装夹部与施力部的相对端面形状为弧形，装夹部位于施力部的施力运动方向。第一，施力部在对装夹部进行初次施力时，因旋转进行夹紧，压紧部端面的一小部分首先压紧硅片；之后在施力部持续对装夹部施力过程中，因压紧部被硅片阻挡，所以装夹部逐渐变得平齐，压紧部端面对硅片的受力程度逐渐变得均匀牢靠。第二，在施力部继续对装夹部施力过程中，因施力部旋转方向是使得施力部与装夹部距离变短的，通过观察装夹部的位置或者观察施力部与装夹部的接触面积确定固定硅片的牢固程度，具有视觉指示作用，防止施力部持续施力导致硅片损坏。第三，在判断硅片所需的牢固程度错误的情况下，施力部持续对装夹部进行施力，使得施力部与装夹部的接触面积越来越小，直到施力部脱离装夹部，使得施力部无法对装夹部进行施力，起到了保护硅片的作用。其中，弹性部在施力部脱离装夹部后对装夹部进行缓冲，防止装夹部弹射危害工作人员安全以及设备的完整度。

进一步地，在本实用新型实施例中，装夹部贴合施力部。

进一步地，在本实用新型实施例中，推送装置为液压缸。

本实用新型的有益效果是：

第一，本实用新型采用手动转动转体以达到控制伸缩杆同步伸缩，避免了采用液缸、气缸、电缸等自动化设备因各种因素(详情请参照背景技术)造成伸缩杆相对移动的距离就存在不可控，需要反复尝试驱动伸缩杆相对的距离达到适应各种规格硅片。

第二，本实用新型采用的齿轮的方式进行同步传动，因齿轮的齿的厚度很高，又因齿轮的齿的相对壁面具有一定的倾斜角度，具有一定的卸力作用，所以齿轮很难磨损，在长时间工作中控制伸缩杆相对移动的距离就不会存在不可控现象，也就无需反复尝试驱动伸缩杆相对的距离达到适应各种规格硅片。

第三，本实用新型采用手动转动转体以达到控制伸缩杆同步伸缩，无需工作人员反复适应以液缸、气缸、电缸等自动化设备驱动伸缩杆的伸缩速度，防止需要反复尝试驱动伸缩杆相对的距离达到适应各种规格硅片。

为达到上述目的之二，本实用新型采用以下技术方案：一种硅片固定方法，包括以下步骤：

伸缩调节，根据硅片的尺寸规格，转动转体，转体的齿轮驱动齿条进行同步移动，促使伸缩杆贴合伸缩套筒的伸缩空间的侧壁进行伸缩移动，进一步驱动伸缩杆朝着相对方向进行同步稳定的伸缩移动；

锁紧，转动锁紧主件，使得转体的弹性锁紧单元避开转体旋转方向的位置挤压转体，对转体进行锁紧；

放置，将硅片放在伸缩套筒与承载台上；

固定，启动推送装置，推送装置推动施力部进行旋转，施力部对装夹部进行旋转施力，促使装夹部的压紧部压紧硅片进行固定。

进一步地，在本实用新型实施例中，在伸缩调节步骤之后，还具有收拉调节步骤，具体步骤如下：收拉调节，根据硅片的宽度尺寸，首先拉开或收缩两个伸缩套筒的距离，使得收拉杆贴合收拉套筒的收纳空间的侧壁进行伸缩移动，进一步驱动收拉杆朝着相对方向进行同步稳定的伸缩移动。

更进一步地，在本实用新型实施例中，在收拉调节之后，还具有锁定步骤，具体步骤如下：锁定，扳动扳件，促使转动件压下压件，使得压件的弹性层挤压固定住收拉杆，让收拉杆无法在收拉套筒中移动，进一步锁定住了两个伸缩套筒的距离。

更进一步地，在本实用新型实施例中，在锁定步骤中，压件的弧形槽的在一定程度上卡合或贴合转动件，弧形槽的壁面同样也阻挡了转动件的自旋转。

进一步地，在本实用新型实施例中，在固定过程中，施力部在对装夹部进行初次施力时，因旋转进行夹紧，压紧部端面的一小部分首先压紧硅片；之后在施力部持续对装夹部施力过程中，因压紧部被硅片阻挡，所以装夹部逐渐变得平齐，压紧部端面对硅片的受力程度逐渐变得均匀牢靠；最后在施力部继续对装夹部施力过程中，因施力部旋转方向是使得施力部与装夹部距离变短的，通过观察装夹部的位置或者观察施力部与装夹部的接触面积确定固定硅片的牢固程度；在判断硅片所需的牢固程度错误的情况下，施力部持续对装夹部进行施力，使得施力部与装夹部的接触面积越来越小，直到施力部脱离装夹部。

更进一步地，在本实用新型实施例中，在施力部对装夹部进行施力过程中，弹性部在施力部脱离装夹部后对装夹部进行缓冲。

附图说明

图1为本实用新型实施例射频等离子刻蚀用硅片固定装置的主视图。

图2为本实用新型实施例射频等离子刻蚀用硅片固定装置的俯视图。

图3为图1的A局部放大图。

图4为本实用新型实施例射频等离子刻蚀用硅片固定装置的局部三维示意图。

图5为本实用新型实施例转体与锁紧主件的三维示意图。

图6为本实用新型实施例转体与锁紧主件的平面结构示意图。

图7为本实用新型实施例扳压主体的三维示意图。

图8为本实用新型实施例扳压主体的结构示意图。

图9为本实用新型实施例压紧部的细节视图。

图10为本实用新型实施例压紧部的第一运动示意图。

图11为本实用新型实施例压紧部的第二运动示意图。

图12为本实用新型实施例压紧部的第三运动示意图。

附图中

1、伸缩套筒 2、伸缩杆 21、齿条

3、弹性面 4、承载台 5、转体

6、推送装置 7、固定部 8、施力部

9、装夹部 10、弹性部 11、压紧部

12、收拉套筒 13、收拉杆 14、凹槽

15、锁紧主件 151、弹性锁紧单元 1511、缺口

16、扳压主体 17、转动件 18、扳件

19、压件 191、弧形槽 192、复位弹性件

193、弹性层

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案进行清楚、完整地描述，及优点更加清楚明白，以下结合附图对本实用新型实施例进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，仅仅用以解释本实用新型实施例，并不用于限定本实用新型实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“中”“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“顶”、“底”、“侧”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“一”、“第一”、“第二”、“第三”、“第四”、“第五”、“第六”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

出于简明和说明的目的，实施例的原理主要通过参考例子来描述。在以下描述中，很多具体细节被提出用以提供对实施例的彻底理解。然而明显的是。对于本领域普通技术人员，这些实施例在实践中可以不限于这些具体细节。在一些实例中，没有详细地描述公知方法和结构，以避免无必要地使这些实施例变得难以理解。另外，所有实施例可以互相结合使用。

实施例一：

一种射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，如图1-3所示，包括：伸缩套筒1、伸缩杆2、转体5、推送装置6、固定部7、施力部8、装夹部9、压紧部11、承载台4。伸缩套筒 1具有伸缩空间。伸缩杆2具有齿条21，齿条21具有齿槽，齿条21设置在伸缩空间中。转体5具有齿轮，齿轮啮合齿条21，齿条21位于齿轮的相对位置。推送装置6具有驱动端。固定部7一端连接推送装置6的驱动端，固定部7另一端连接伸缩杆2。施力部8活动连接伸缩杆2，推送装置6连接施力部8的一端。施力部8的另一端驱动装夹部9进行运动。压紧部11连接装夹部9。承载台4具有摆放平台，承载台4连接伸缩杆2，承载台4位于压紧部11相对位置。

工作步骤：首先根据硅片的尺寸规格，转动转体5，转体5的齿轮驱动齿条21进行同步移动，促使伸缩杆2贴合伸缩套筒1的伸缩空间的侧壁进行伸缩移动，进一步驱动伸缩杆2朝着相对方向进行同步稳定的伸缩移动。之后将硅片放在伸缩套筒1与承载台4上。最后启动推送装置6，推送装置6推动施力部8进行旋转，施力部8对装夹部9进行旋转施力，促使装夹部9的压紧部11压紧硅片进行固定。

具体地，如图1、2所示，伸缩套筒1外表面一侧具有弹性面3。承载台4具有弹性。承载台4材料为橡胶，避免在有限的空间内(因承载台4相对位置有压紧部11)安装硅片时，硅片的尖锐部分划到承载台4，导致硅片出现损坏。同时弹性面3为了防止安装硅片时，受到承载台4中有限的空间影响导致硅片的尖锐部分划到伸缩套筒1，导致硅片出现损坏。

具体地,如图3-6所示，伸缩套筒1还具有凹槽14。射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括锁紧主件15，锁紧主件垂直设置在转体5一侧，锁紧主件15具有弹性锁紧单元151，弹性锁紧单元151具有一缺口1511，缺口1511形状与转体5相适应，缺口1511与转体5具有一定距离。锁紧主件15位于凹槽14内。一方面避免了在摆放射频等离子刻蚀用硅片固定装置时因锁紧主件15先接触地面，导致射频等离子刻蚀用硅片固定装置摆放不平稳，影响硅片加工。另一方面，转动锁紧主件15，使得转体5的弹性锁紧单元151避开转体5的旋转方向的位置挤压转体5，对转体5进行锁紧。在此过程中，因锁件主体垂直设置在转体5一侧，所以在锁紧转体5时能避开转体5的旋转方向进行锁紧，转体5不会出现任何的转动，保证了伸缩杆2伸缩距离的精度，无需反复调节伸缩杆2伸缩的距离以适应各种尺寸规格的硅片。

具体地，如图2、7所示，伸缩套筒1具有两个。射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括收拉套筒12与收拉杆13。收拉套筒12一端垂直设置在伸缩套筒1一侧，收拉套筒12具有收纳空间。收拉杆13一端垂直设置在另一伸缩套筒1一侧，收拉杆13另一端设置在收纳空间中。首先拉开或收缩两个伸缩套筒1的距离，使得收拉杆13贴合收拉套筒12的收纳空间的侧壁进行伸缩移动，进一步驱动收拉杆13朝着相对方向进行同步稳定的伸缩移动，以适应硅片的宽度尺寸。同时，调节两个伸缩套筒1之间的距离使得硅片一部分不具有支撑效果，为硅片提供部分加工空间，扩大了加工范围。

更具体地，如图7、8所示，收纳空间具有一通道，通道连通外界。射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括扳压主体16、转动体、压件19。扳压主体16连接收拉套筒12，扳压主体16具有一孔洞。孔洞连通通道。转动体活动连接扳压主体16。压件19设置在孔洞中，压件 19与转动体处于相对位置。旋转转动件17压下压件19，使得压件19的弹性层193挤压固定住收拉杆13，让收拉杆13无法在收拉套筒12中移动，进一步锁定住了两个伸缩套筒1的距离。防止两个伸缩套筒1移动，无法适应各种规格的硅片。

更具体地，射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括扳件18，扳件18连接转动体与扳压主体16连接处。扳动扳件18以达到控制转动体的目的，其中，扳件18延长了转动体的力臂，有利于省力。

更具体地，压件19具有复位弹性件192。复位弹性件192为弹簧，在无需锁定伸缩套筒 1距离的情况下，旋转转动件17，使得转动件17不再与压件19接触，此时，复位弹性件192利用弹性对压件19进行复位，促使压件19远离收拉杆13解除锁定。

更具体地，压件19具有弹性层193。弹性层193为软质橡胶层，弹性层193位于收拉杆 13的相对位置。在压件19促使弹性层193压住收拉杆13时，随着压件19的持续施压，弹性层193将会变形向收拉杆13的表面延伸，加大与收拉杆13的接触面积，防止收拉杆13在外力因素下移动，进一步无法锁定两个伸缩套筒1的距离，无法适应各种规格的硅片

更具体地，压件19具有弧形槽191，弧形槽191与转动体形状相适应。压件19的弧形槽191的在一定程度上卡合或贴合转动件17，弧形槽191的壁面同样也阻挡了转动件17的自旋转，具有一定的自锁作用，防止转动件17脱离压件19，导致无法锁定两个伸缩套筒1 的距离，无法适应各种规格的硅片。

具体地，如图9-12所示，射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括弹性部10，弹性部10 两端分别连接装夹部9与施力部8的另一端，装夹部9与施力部8的相对端面形状为弧形，装夹部9位于施力部8的施力运动方向。第一，施力部8在对装夹部9进行初次施力时，因旋转进行夹紧，压紧部11端面的一小部分首先压紧硅片。之后在施力部8持续对装夹部9施力过程中，因压紧部11被硅片阻挡，所以装夹部9逐渐变得平齐，压紧部11端面对硅片的受力程度逐渐变得均匀牢靠。第二，在施力部8继续对装夹部9施力过程中，因施力部8旋转方向是使得施力部8与装夹部9距离变短的，通过观察装夹部9的位置或者观察施力部8 与装夹部9的接触面积确定固定硅片的牢固程度，具有视觉指示作用，防止施力部8持续施力导致硅片损坏。第三，在判断硅片所需的牢固程度错误的情况下，施力部8持续对装夹部 9进行施力，使得施力部8与装夹部9的接触面积越来越小，直到施力部8脱离装夹部9，使得施力部8无法对装夹部9进行施力，起到了保护硅片的作用。其中，弹性部10在施力部8 脱离装夹部9后对装夹部9进行缓冲，防止装夹部9弹射危害工作人员安全以及设备的完整度。

具体地，装夹部9贴合施力部8。

具体地，推送装置6为液压缸。

本实用新型的有益效果是：

第一，本实用新型采用手动转动转体5以达到控制伸缩杆2同步伸缩，避免了采用液缸、气缸、电缸等自动化设备因各种因素(详情请参照背景技术)造成伸缩杆2相对移动的距离就存在不可控，需要反复尝试驱动伸缩杆2相对的距离达到适应各种规格硅片。

第二，本实用新型采用的齿轮的方式进行同步传动，因齿轮的齿的厚度很高，又因齿轮的齿的相对壁面具有一定的倾斜角度，具有一定的卸力作用，所以齿轮很难磨损，在长时间工作中控制伸缩杆2相对移动的距离就不会存在不可控现象，也就无需反复尝试驱动伸缩杆 2相对的距离达到适应各种规格硅片。

第三，本实用新型采用手动转动转体5以达到控制伸缩杆2同步伸缩，无需工作人员反复适应以液缸、气缸、电缸等自动化设备驱动伸缩杆2的伸缩速度，防止需要反复尝试驱动伸缩杆2相对的距离达到适应各种规格硅片。

第四，本实用新型采用转体5手动驱动伸缩杆2同步伸缩，转体5的相对于液缸、气缸、电缸等自动化设备而言成本极低，具有很大的推广价值。

第五，本实用新型采用转体5手动驱动伸缩杆2同步伸缩，转体5的体积相对于液缸、气缸、电缸等自动化设备而言成本极小，可以在有限的空间内加工，适应范围更广。

第六，本实用新型采用转体5手动驱动伸缩杆2同步伸缩，转体5的体积相对于液缸、气缸、电缸等自动化设备而言成本极小，几乎不会影响射频等离子刻蚀用硅片固定装置摆放平衡度，有利于硅片加工。

第七，本实用新型采用转体5手动驱动伸缩杆2同步伸缩，相对于液缸、气缸、电缸等自动化设备而言操作及其简单，有利于操作，节省操作时间。

第八，本实用新型采用转体5手动驱动伸缩杆2同步伸缩，相对于液缸、气缸、电缸等自动化设备而言几乎无需对其维护，不仅节省成本，还有利于减少工作时间。

第九，本实用新型采用转体5手动驱动伸缩杆2同步伸缩，相对于液缸、气缸、电缸等自动化设备而言更能适应恶劣的工作环境。

第十，本实用新型采用转体5手动驱动伸缩杆2同步伸缩，相对于液缸、气缸、电缸等自动化设备而言结构及其简单，有利于安装拆卸，能在最短的时间内投入到生产加工。

一种硅片固定方法，包括以下步骤：

伸缩调节，根据硅片的尺寸规格，转动转体5，转体5的齿轮驱动齿条21进行同步移动，促使伸缩杆2贴合伸缩套筒1的伸缩空间的侧壁进行伸缩移动，进一步驱动伸缩杆2朝着相对方向进行同步稳定的伸缩移动。

锁紧，转动锁紧主件15，使得转体5的弹性锁紧单元151避开转体5旋转方向的位置挤压转体5，对转体5进行锁紧。

放置，将硅片放在伸缩套筒1与承载台4上。

固定，启动推送装置6，推送装置6推动施力部8进行旋转，施力部8对装夹部9进行旋转施力，促使装夹部9的压紧部11压紧硅片进行固定。

具体地，在伸缩调节步骤之后，还具有收拉调节步骤，具体步骤如下：收拉调节，根据硅片的宽度尺寸，首先拉开或收缩两个伸缩套筒1的距离，使得收拉杆13贴合收拉套筒12的收纳空间的侧壁进行伸缩移动，进一步驱动收拉杆13朝着相对方向进行同步稳定的伸缩移动。

更具体地，在收拉调节之后，还具有锁定步骤，具体步骤如下：锁定，扳动扳件18，促使转动件17压下压件19，使得压件19的弹性层193挤压固定住收拉杆13，让收拉杆13无法在收拉套筒12中移动，进一步锁定住了两个伸缩套筒1的距离。

更具体地，在锁定步骤中，压件19的弧形槽191的在一定程度上卡合或贴合转动件17，弧形槽191的壁面同样也阻挡了转动件17的自旋转。

具体地，在固定过程中，施力部8在对装夹部9进行初次施力时，因旋转进行夹紧，压紧部11端面的一小部分首先压紧硅片。之后在施力部8持续对装夹部9施力过程中，因压紧部11被硅片阻挡，所以装夹部9逐渐变得平齐，压紧部11端面对硅片的受力程度逐渐变得均匀牢靠。最后在施力部8继续对装夹部9施力过程中，因施力部8旋转方向是使得施力部 8与装夹部9距离变短的，通过观察装夹部9的位置或者观察施力部8与装夹部9的接触面积确定固定硅片的牢固程度。在判断硅片所需的牢固程度错误的情况下，施力部8持续对装夹部9进行施力，使得施力部8与装夹部9的接触面积越来越小，直到施力部8脱离装夹部 9。

更具体地，在施力部8对装夹部9进行施力过程中，弹性部10在施力部8脱离装夹部9 后对装夹部9进行缓冲。

尽管上面对本实用新型说明性的具体实施方式进行了描述，以便于本技术领域的技术人员能够理解本实用新型，但是本实用新型不仅限于具体实施方式的范围，对本技术领域的普通技术人员而言，只要各种变化只要在所附的权利要求限定和确定的本实用新型精神和范围内，一切利用本实用新型构思的实用新型创造均在保护之列。

Claims (16)

1.一种射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，包括：

伸缩套筒，所述伸缩套筒具有伸缩空间；

伸缩杆，所述伸缩杆具有齿条，所述齿条设置在所述伸缩空间中；

转体，所述转体具有齿轮，所述齿轮啮合所述齿条，所述齿条位于所述齿轮的相对位置；

推送装置；

固定部，所述固定部一端连接所述推送装置，所述固定部另一端连接所述伸缩杆；

施力部，所述推送装置连接所述施力部的一端；

装夹部，所述施力部的另一端驱动所述装夹部进行运动；

压紧部，所述压紧部连接所述装夹部；

承载台，所述承载台连接所述伸缩杆，所述承载台位于所述压紧部相对位置。

2.根据权利要求1所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述伸缩套筒外表面一侧具有弹性面。

3.根据权利要求1所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述承载台具有弹性。

4.根据权利要求1所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中,所述伸缩套筒还具有凹槽。

5.根据权利要求1所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中,所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括：

锁紧主件，所述锁紧主件垂直设置在所述转体一侧，所述锁紧主件具有：

弹性锁紧单元，所述弹性锁紧单元具有一缺口，所述缺口形状与所述转体相适应，所述缺口与所述转体具有一定距离。

6.根据权利要求1所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述伸缩套筒具有两个。

7.根据权利要求1所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括：

收拉套筒，所述收拉套筒一端垂直设置在所述伸缩套筒一侧，所述收拉套筒具有收纳空间；

收拉杆，所述收拉杆一端垂直设置在另一所述伸缩套筒一侧，所述收拉杆另一端设置在所述收纳空间中。

8.根据权利要求7所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述收纳空间具有一通道，所述通道连通外界。

9.根据权利要求7所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括：

扳压主体，所述扳压主体连接所述收拉套筒，所述扳压主体具有一孔洞；

转动体，所述转动体活动连接所述扳压主体；

压件，所述压件设置在所述孔洞中，所述压件与所述转动体处于相对位置。

10.根据权利要求9所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括扳件，所述扳件连接所述转动体与所述扳压主体连接处。

11.根据权利要求9所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述压件具有复位弹性件。

12.根据权利要求9所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述压件具有弹性层。

13.根据权利要求9所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述压件具有弧形槽，所述弧形槽与所述转动体形状相适应。

14.根据权利要求1所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置还包括：

弹性部，所述弹性部两端分别连接所述装夹部与所述施力部的另一端，所述装夹部与所述施力部的相对端面形状为弧形，所述装夹部位于所述施力部的施力运动方向。

15.根据权利要求1所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述装夹部贴合所述施力部。

16.根据权利要求1所述射频等离子刻蚀用硅片固定装置，其中，所述推送装置为液压缸。