CN209256649U - 一种精抛棉 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及磨具技术领域，尤其是指一种精抛棉，其包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层，所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧，所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部，具有对产品表面进行研磨抛光处理的功能，且磨料磨损小，研磨抛光效果好。

Description

一种精抛棉

技术领域

本实用新型涉及磨具技术领域，尤其是指一种精抛棉。

背景技术

目前，国内大多数玻璃、陶瓷等加工企业都是采用传统的游离磨料研磨工艺，即在冷却水中加入游离磨料进行研磨，这种研磨方式存在稳定性差、切削效率低、加工产品良品率低以及后续加工工序难处理等问题。为了解决上述技术难题，现有技术通过将磨料和结合剂涂覆于无纺布上制成研磨垫，但是采用现有的研磨垫进行研磨时，研磨垫上的磨料消耗速度快，使磨料磨损变钝，研磨后的产品表面存在较多的划痕，研磨抛光效果较差。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种精抛棉，具有对产品表面进行研磨抛光处理的功能，且磨料消耗速度慢，研磨抛光效果好。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种精抛棉，其包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层，所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧，所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部。

进一步地，所述基布层由经线和纬线交织而成，所述经线包括设于纬线上方的多个施胶部，所述胶层设于施胶部上。

进一步地，每相邻的两个所述辅研磨单元之间设有两个或三个主研磨单元。

进一步地，所述辅研磨单元远离胶层的端部呈弧形。

进一步地，所述辅研磨单元远离胶层的一端到胶层的垂直高度与所述主研磨单元远离胶层的一端到胶层的垂直高度的比值为1：1.5-2。

进一步地，所述辅研磨单元远离胶层的一端到胶层的垂直高度为0.5-10μm，所述主研磨单元远离胶层的一端到胶层的垂直高度为0.8-20μm。

本实用新型的有益效果：

1、本实用新型的精抛棉通过在胶层上同时设置主研磨单元和辅研磨单元，研磨时辅研磨单元不仅可以协助主研磨单元进行研磨，降低主研磨单元的损耗速度，使主研磨单元的尖端不易发生钝化，提高精抛棉的研磨抛光精度，使研磨后的工件表面不易出现划痕，辅研磨单元还对主研磨单元起支撑作用，使主研磨单元在工作过程中不易因为受力不均匀出现脱落或倾斜的现象，有效延长了精抛棉研磨抛光精度和使用寿命。

2、使用本实用新型的精抛棉进行研磨时研磨层各个位置对待研磨工件均匀施力，避免由于部分主研磨单元或辅研磨单元过于突出导致待研磨工件表面出现划痕。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例的剖视图；

图2为本实用新型实施例的基布层的示意图。

附图标记说明：1、海绵层；2、基布层；3、胶层；4、研磨层；5、主研磨单元；6、辅研磨单元；7、经线；8、纬线；9、施胶部。

具体实施方式

为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例与附图对本实用新型作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。

如图1所示，本实用新型提供的一种精抛棉，其包括依次复合的海绵层1、基布层2、胶层3和研磨层4，所述研磨层4包括设于胶层3上的多个用于研磨抛光的主研磨单元5和多个用于协助主研磨单元5进行研磨抛光的辅研磨单元6，所述主研磨单元5呈锥形，所述主研磨单元5的尖端设于远离胶层3的一侧，所述主研磨单元5远离胶层3的端部高于所述辅研磨单元6远离胶层3的端部。

本实用新型的精抛棉通过在胶层3上同时设置主研磨单元5和辅研磨单元6，研磨时辅研磨单元6不仅可以协助主研磨单元5进行研磨，降低主研磨单元5的损耗速度，使主研磨单元5的尖端不易发生钝化，提高精抛棉的研磨抛光精度，使研磨后的工件表面不易出现划痕，辅研磨单元6还对主研磨单元5起支撑作用，使主研磨单元5在工作过程中不易因为受力不均匀出现脱落或倾斜的现象，有效延长了精抛棉研磨抛光精度和使用寿命。本实用新型通过将海绵层1和基布层2进行复合作为精抛棉的基体，使制得的精抛棉柔软且可发生形变，可对待研磨工件的凹凸位置进行研磨，避免研磨出现断层现象，适用于对各种形状的待研磨工件进行研磨。

具体地，在本实施例中，所述主研磨单元5由金刚石制成，所述辅研磨单元6由石英砂制成，金刚石和石英砂的硬度高，研磨效果好。

结合图2所示，所述基布层2由多条经线7和多条纬线8交织而成，所述经线7包括设于纬线8上方的多个施胶部9，所述胶层3设于施胶部9上，由于多个施胶部9等高，位于同一水平面上，而胶层3设于施胶部9上，因此，制得的精抛棉上的多个主研磨单元5也位于同一水平面上，当采用本实用新型的精抛棉进行研磨时研磨层4各个位置对待研磨工件均匀施力，避免由于部分主研磨单元5或辅研磨单元6过于突出导致待研磨工件表面出现划痕。另一方面，由经线7和纬线8交织而层的基布层2表面具有多个微孔，将胶层3和研磨层4设于经线7上的施胶部9，可避免胶层3和研磨层4堵塞基布层2上的微孔，使基布层2保持透气性，且海绵层1上也具有多个微孔，基布层2上的多个微孔起吸附作用，在研磨过程中将打磨出的微小颗粒吸附至海绵层1中，减小停留在工件表面的微粒量，提高研磨速率。

在本实施例中，每相邻的两个所述辅研磨单元6之间设有两个主研磨单元5，在其它实施例中每相邻的两个辅研磨单元6之间还可以设置三个主研磨单元5，如果主研磨单元5与辅研磨单元6的数量比过小时，精抛棉的研磨速率低，研磨效果差，而当主研磨单元5与辅研磨单元6的数量比过大时，辅研磨单元6不能给予主研磨单元5足够的支撑力，主研磨单元5在研磨过程中损耗率增大，容易发生钝化和脱落的现象，研磨后的产品容易产生划痕。

所述辅研磨单元6远离胶层3的端部呈弧形，弧形的端部在研磨时与待研磨工件形成点接触，可协助主研磨单元5对待研磨工件进行研磨，提高研磨速率和研磨效果。

所述辅研磨单元6远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度与所述主研磨单元5远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度的比值为1:1.5，且所述辅研磨单元6远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度为1μm，所述主研磨单元5远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度为1.5μm，所述海绵层1的厚度为2cm，经过试验发现，采用上述比例及长度的主研磨单元5和辅研磨单元6时，研磨时不易在工件表面产生划痕，且可降低主研磨单元5的损耗速率，延长精抛棉的使用寿命。另一方面，通过采用2cm厚的海绵层1作为基底对研磨层4的主研磨单元5和辅研磨单元6起保护作用，使主研磨单元5和辅研磨单元6不易发生脱落，延长精抛棉的使用期限。

实施例2

实施例2与实施例1的不同在于，所述辅研磨单元6远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度与所述主研磨单元5远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度的比值为1:2，且所述辅研磨单元6远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度为10μm，所述主研磨单元5远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度为20μm。

实施例3

实施例3与实施例1的不同在于，所述辅研磨单元6远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度与所述主研磨单元5远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度的比值为1:1.8，且所述辅研磨单元6远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度为10μm，所述主研磨单元5远离胶层3的一端到胶层3的垂直高度为18μm。

本实施例中的所有技术特征均可根据实际需要而进行自由组合。

本实施例的其余部分与实施例一相同，在本实施例中未解释的特征，均采用实施例一的解释，这里不再进行赘述。

上述实施例为本实用新型较佳的实现方案，除此之外，本实用新型还可以其它方式实现，在不脱离本技术方案构思的前提下任何显而易见的替换均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种精抛棉，其特征在于：包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层，所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧，所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部。

2.根据权利要求1所述的一种精抛棉，其特征在于：所述基布层由经线和纬线交织而成，所述经线包括设于纬线上方的多个施胶部，所述胶层设于施胶部上。

3.根据权利要求1所述的一种精抛棉，其特征在于：每相邻的两个所述辅研磨单元之间设有两个或三个主研磨单元。

4.根据权利要求1所述的一种精抛棉，其特征在于：所述辅研磨单元远离胶层的端部呈弧形。

5.根据权利要求1所述的一种精抛棉，其特征在于：所述辅研磨单元远离胶层的一端到胶层的垂直高度与所述主研磨单元远离胶层的一端到胶层的垂直高度的比值为1：1.5-2。

6.根据权利要求5所述的一种精抛棉，其特征在于：所述辅研磨单元远离胶层的一端到胶层的垂直高度为0.5-10μm，所述主研磨单元远离胶层的一端到胶层的垂直高度为0.8-20μm。