CN205968604U - 精密研磨盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种精密研磨盘,属于机械技术领域。它解决了现有的研磨盘不容易排出粉屑的问题。本精密研磨盘,包括呈盘状的本体,本体的下侧面设有若干用于储存粉末的储粉槽,储粉槽上连通若干呈螺旋形的排粉槽,排粉槽以本体的轴线为中心均匀设置,排粉槽的槽口延伸至本体的侧面。本精密研磨盘具有较好的排出粉屑的优点。
Description
技术领域
本实用新型属于机械技术领域,涉及一种研磨盘,特别是一种精密研磨盘。
背景技术
对于工件表面的平面度要求较高的加工要求,通常采用研磨的方法。现有的平面研磨工艺是,在两平面问均匀铺上金刚砂,再使两平面相对转动,在两个平面相对转动时,两相对于工件表面的运动对如金刚砂类的研磨粉施以一压力,在压力的影响下研磨粉相对于工件表面研磨滚动。
还有一种方法是利用一种研磨盘,该研磨盘具有一个研磨端面并可以沿其轴向转动。而大量的实践证明,在这种运动状态下,金刚砂在上下两平面的磨擦力的作用下,砂粒的运动轨迹向研磨盘的旋转中心流动,从而造成了平板表面的不均匀磨削。
公告号为CN2566980Y,公告日为2003年8月20日的中国实用新型专利公开了一种研磨盘,其至少包括有一主研磨盘,该主研磨盘具有一研磨端面;在该主研磨盘的同一个研磨端面内至少设有一个分研磨盘,该分研磨盘的研磨端面与主研磨盘的研磨端面在同一平面内;所述的主研磨盘和分研磨盘由各自的驱动轴带动转动。该实用新型可以使得研磨用金刚砂均匀地铺平在平板上,从而实现均匀地研磨,达到平面度的较高的质量要求。但是该研磨盘在使用过程中,产生的粉屑不容易排出,因此影响了研磨的效果。
发明内容
本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题,提出了一种具有较好的排出粉屑的精密研磨盘。
本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现:精密研磨盘,包括呈盘状的本体,其特征在于,所述的本体的下侧面设有若干用于储存粉末的储粉槽,所述的储粉槽上连通若干呈螺旋形的排粉槽,所述的排粉槽以所述的本体的轴线为中心均匀设置且所述的排粉槽的槽口延伸至所述的本体的侧面。
在工作时,本精密研磨盘研磨产生的粉末进入到储粉槽内,部分粉末进入到排粉槽内,通过本体的转动将储粉槽以及排粉槽内的粉末经过排粉槽排出,使研磨效果较好的优点。由于储粉槽呈螺旋形,因此具有较好的排粉效果。
在上述的精密研磨盘中,所述的本体上设有若干进气孔且所述的进气孔与所述的储粉槽相连通。在长时间使用后,储粉槽内粘连有粉末,通过往进气孔内注入高压气体,对储粉槽的粉末进行清洗,具有结构简单且清洗较为方便的优点。
在上述的精密研磨盘中,所述的储粉槽的内侧面呈弧形。储粉槽呈弧形,具有储粉效果较好且储粉量较大的优点。
在上述的精密研磨盘中,所述的储粉槽的边缘均圆弧过渡。储粉槽的边缘均圆弧过渡,便于粉末进入到储粉槽内。
在上述的精密研磨盘中,所述的本体的上侧面设有若干定位凹槽且所述的定位凹槽内均设有散热片。通过设置散热片,避免本体产生较大的热量。
在上述的精密研磨盘中,所述的散热片采用铝合金材料制成。散热片采用铝合金材料制成,具有散热效果较好的优点。
与现有技术相比,本精密研磨盘具有以下优点:
1、本精密研磨盘研磨产生的粉末进入到储粉槽内,部分粉末进入到排粉槽内,通过本体的转动将储粉槽以及排粉槽内的粉末经过排粉槽排出,使研磨效果较好的优点;
2、,储粉槽内粘连有粉末,通过往进气孔内注入高压气体,对储粉槽的粉末进行清洗,具有结构简单且清洗较为方便的优点;
3、储粉槽的边缘均圆弧过渡,便于粉末进入到储粉槽内。
附图说明
图1是本精密研磨盘的剖视示意图。
图2是本精密研磨盘的俯视示意图。
图中,1、本体;2、储粉槽;3、排粉槽;4、进气孔;5、定位凹槽;6、散热片。
具体实施方式
以下是本实用新型的具体实施例并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步的描述,但本实用新型并不限于这些实施例。
如图1和2所示,精密研磨盘,包括呈盘状的本体1,本体1的下侧面设有若干用于储存粉末的储粉槽2,储粉槽2上连通若干呈螺旋形的排粉槽3,排粉槽3以本体1的轴线为中心均匀设置,排粉槽3的槽口延伸至本体1的侧面。
本体1上设有若干进气孔4,进气孔4与储粉槽2相连通,储粉槽2的内侧面呈弧形,储粉槽2的边缘均圆弧过渡,便于粉末进入到储粉槽2内。储粉槽2呈弧形,具有储粉效果较好且储粉量较大的优点。
本体1的上侧面设有若干定位凹槽5,定位凹槽5内均设有散热片6,避免本体1产生较大的热量。散热片6采用铝合金材料制成,具有散热效果较好的优点。
在工作时,本精密研磨盘研磨产生的粉末进入到储粉槽2内,部分粉末进入到排粉槽3内,通过本体1的转动将储粉槽2以及排粉槽3内的粉末经过排粉槽3排出,使研磨效果较好的优点。由于储粉槽2呈螺旋形,因此具有较好的排粉效果。在长时间使用后,储粉槽2内粘连有粉末,通过往进气孔4内注入高压气体,对储粉槽2的粉末进行清洗,具有结构简单且清洗较为方便的优点。
本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
尽管本文较多地使用了本体1、储粉槽2、排粉槽3、进气孔4、定位凹槽5、散热片6等术语,但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本实用新型的本质;把它们解释成任何一种附加的限制都是与本实用新型精神相违背的。
Claims (6)
1.精密研磨盘,包括呈盘状的本体(1),其特征在于,所述的本体(1)的下侧面设有若干用于储存粉末的储粉槽(2),所述的储粉槽(2)上连通若干呈螺旋形的排粉槽(3),所述的排粉槽(3)以所述的本体(1)的轴线为中心均匀设置且所述的排粉槽(3)的槽口延伸至所述的本体(1)的侧面。
2.根据权利要求1所述的精密研磨盘,其特征在于,所述的本体(1)上设有若干排粉槽(4)且所述的排粉槽(4)与所述的储粉槽(2)相连通。
3.根据权利要求1所述的精密研磨盘,其特征在于,所述的储粉槽(2)的内侧面呈弧形。
4.根据权利要求1或2或3所述的精密研磨盘,其特征在于,所述的储粉槽(2)的边缘均圆弧过渡。
5.根据权利要求1或2或3所述的精密研磨盘,其特征在于,所述的本体(1)的上侧面设有若干定位凹槽(5)且所述的定位凹槽(5)内均设有散热片(6)。
6.根据权利要求5所述的精密研磨盘,其特征在于,所述的散热片(6)采用铝合金材料制成。
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CN108747721A (zh) * | 2018-05-29 | 2018-11-06 | 李涵 | 一种半导体晶圆半精磨、精磨设备 |
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CN108747721A (zh) * | 2018-05-29 | 2018-11-06 | 李涵 | 一种半导体晶圆半精磨、精磨设备 |
CN108747721B (zh) * | 2018-05-29 | 2019-11-01 | 江苏锡沂高新区科技发展有限公司 | 一种半导体晶圆半精磨、精磨设备 |
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Denomination of utility model: Precision grinding disc Effective date of registration: 20220414 Granted publication date: 20170222 Pledgee: Wenling branch of the Industrial Commercial Bank of China Ltd. Pledgor: TAIZHOU YONGAN MACHINE CO.,LTD. Registration number: Y2022330000524 |