CN202174511U - 一种用于玻璃抛光的研磨盘片 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种应用于玻璃抛光的研磨盘片,包括盘体,该盘体的中心设有通孔,所述盘体表面还分布有若干突出的研磨球。本实用新型研磨设备用研磨盘的盘体上布有若干突出的研磨球,在应用时(如对ITO玻璃进行抛光)研磨球增加了被研磨面的粗糙度,使研磨介质与被研磨材料产生更激烈的碰撞、摩擦,避免打滑,从而有效提高了研磨效率,能广泛应用于各种工业领域中的研磨设备中。
Description
技术领域
本实用新型涉及新材料设备制造领域,尤其设计一种用于ITO(Indium-Tin Oxide,氧化铟锡)玻璃抛光的研磨盘片的结构改进。
背景技术
研磨机是工业生产中常见的研磨设备,目前通常使用的湿法研磨盘片有很多结构形式,市场上研磨盘片的结构主要有盘面上开孔的盘片、盘面表面光滑的盘片、开有多种通槽结构的盘片等多种。现有技术所公开上述研磨盘片各有特点,但在高效研磨、降低能耗及研磨盘片强度、抗裂性及使用寿命等方面还有待进一步提高。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种高效、长寿命的玻璃抛光用的研磨盘片。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的。
一种用于玻璃抛光的研磨盘片,包括盘体,该盘体的中心设有通孔,所述盘体上还分布有若干突出的研磨球。
优选地,所述研磨球为圆柱状、半球状或者1/3球状。
优选地,所述研磨球均匀分布于盘体表面。
优选地,所述研磨球为金刚砂丸片。
本实用新型实施例与现有技术相比,有益效果在于:
本实用新型研磨设备用研磨盘的盘体上布有若干突出的研磨球,在应用时(如对ITO玻璃进行抛光)研磨球增加了被研磨面的粗糙度,使研磨介质与被研磨材料产生更激烈的碰撞、摩擦,避免打滑,从而有效提高了研磨效率,能广泛应用于各种工业领域中的研磨设备中。
附图说明
图1为本实用新型实施例的研磨盘片的正视结构图;
图2为本实用新型实施例的研磨盘片的侧视图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
请参阅图1所示,本实施例中研磨盘片包括盘体1,盘体1的中心设有通孔2,盘体1的正面还分布有若干个突出的研磨球3。研磨球3可以为圆柱状、半球状或者1/3球状。此外,为更有效地提高研磨效果,研磨球3可采用金刚砂丸片;研磨球3的数量不一定,可更具当前应用需求来进行设置。
与现有技术相比,本实用新型实施例增设了研磨球,在应用于ITO玻璃抛光时,能够有效地防止打滑,提高研磨效率,进而提高玻璃的生产效率。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种用于玻璃抛光的研磨盘片,包括盘体,该盘体的中心设有通孔,其特征在于,所述盘体表面还分布有若干突出的研磨球。
2.如权利要求1所述的研磨盘片,其特征在于,所述研磨球为圆柱状、半球状或者1/3球状。
3.如权利要求1所述的研磨盘片,其特征在于,所述研磨球均匀分布于盘体表面。
4.如权利要求1至3任一所述的研磨盘片,其特征在于,所述研磨球为金刚砂丸片,呈圆柱状。
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CN2011202642033U CN202174511U (zh) | 2011-07-25 | 2011-07-25 | 一种用于玻璃抛光的研磨盘片 |
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CN2011202642033U CN202174511U (zh) | 2011-07-25 | 2011-07-25 | 一种用于玻璃抛光的研磨盘片 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102642182A (zh) * | 2012-04-19 | 2012-08-22 | 浙江工业大学 | 有序固结研磨盘装置 |
CN105922089A (zh) * | 2016-06-20 | 2016-09-07 | 无锡鼎茂机械制造有限公司 | 一种印刷辊打磨装置 |
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2011
- 2011-07-25 CN CN2011202642033U patent/CN202174511U/zh not_active Expired - Fee Related
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