CN209191400U - 一种新型防窥膜及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种新型防窥膜及显示装置，其的防窥膜具有高低变化的表面结构，包括基底、突起于基底一侧表面的多个微结构以及铺展在多个微结构之间的填平层，其中，各个微结构垂直于基底延伸方向形成突起，微结构逐行沿着一个方向延伸，多行微结构平行地排布于基底表面上，相邻的微结构高低交错并连接成网状结构，填平层由填充材料构成，填充材料中添加有导电粒子；微结构的断面呈梯形，梯形斜边与基底表面的夹角为30～60°，两个微结构之间的间隔为5～50μm，微结构高度范围为20～180μm，各个微结构的顶面之间的落差范围在1～20μm之间。本实用新型在不影响现有防窥效果的同时改善摩尔干涉问题，同时提供抗静电和电磁屏蔽效果，并解决生产中遇到的静电问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种新型防窥膜及显示装置。
背景技术
现有技术中，防窥膜使用于多个领域，可以贴玻璃上，也可以贴在电子显示屏之上，它是利用光学的偏光特性，使其具有防窥作用。现有的防窥膜都是UV胶水固化结构后再使用黑色颜料填平的百叶窗结构，放置在显示屏或投影幕外侧使用，达到屏幕可视角收敛的效果。
现有的防窥膜结构多是直线排布的，如中国专利申请号为CN201610120360.4披露的一种带有减反功能的全方位防窥膜，结构如图1，采用了百叶窗结构，为了保证防窥膜的视角，填充层和结构间隔排布。然而，因为其是直线结构，容易导致与液晶显示器的屏幕像素点之间发生摩尔干涉；而且现有防窥膜没有抗静电和电磁屏蔽效果，如果需要抗静电效果，需要再额外涂布一层抗静电层，浪费工时，增加了成本。
因此，本领域的技术人员致力于开发一种新型防窥膜，在不影响现有防窥效果的同时，可以改善摩尔干涉问题，同时提供抗静电和电磁屏蔽效果，也可以解决生产中遇到的静电问题。
实用新型内容
有鉴于现有技术的上述缺陷，本实用新型所要解决的技术问题是在不影响现有防窥效果的同时改善摩尔干涉问题，同时提供抗静电和电磁屏蔽效果，并解决生产中遇到的静电问题。
为实现上述目的，本实用新型提供了一种新型防窥膜，该新型防窥膜具有高低变化的表面结构，包括基底、突起于基底一侧表面的多个微结构以及铺展在多个微结构之间的填平层，其中，各个微结构垂直于基底延伸方向形成突起，微结构逐行沿着一个方向延伸，多行微结构平行地排布于基底表面上，相邻的微结构高低交错并连接成网状结构，填平层由填充材料构成，填充材料为含有导电粒子的导电胶水，导电胶水可选为含有纳米导电炭黑的导电胶水或含有纳米级导电金属微粒的导电胶水；微结构的断面呈梯形，梯形斜边与基底表面的夹角为30～60°，两个微结构之间的间隔为5～50μm，微结构高度范围为20～180μm，各个微结构的顶面之间的落差范围在1～20μm之间。
进一步地，导电粒子选自于纳米导电炭黑或纳米级导电金属微粒。
更进一步地，导电粒子的粒径≤1μm。
更进一步地，纳米级导电金属优选为纳米银线。
更进一步地，填充材料为黑色或灰色胶水，导电粒子均匀分布于黑色或灰色胶水中，由黑色或灰色胶水固化后形成填平层。
优选地，微结构的断面呈等腰梯形。
在本实用新型的一个实施方式中，相邻的微结构的高低差按随机变化。
在本实用新型的另一个实施方式中，相邻的微结构的高低差按规则的周期函数变化，变化的周期长度范围为50～1000μm。
本实用新型还提供了一种显示装置，其包括上述任一种新型防窥膜，此外，显示装置还包括背光模组和显示模组，该新型防窥膜位于背光模组和显示模组之间，或者位于显示模组的出光侧。
本实用新型具有的技术效果为：
(1)通过结构的高低变化，改善了防窥膜与液晶显示器像素点之间的摩尔干涉现象；
(2)相邻结构高低交错连接成网状，同时通过调整填充材料的材质，在其中加入纳米导电炭黑或纳米级导电金属(如纳米银线)，使得防窥膜具有防窥效果，同时因为结构高低交错网络，使得填充的导电层也连接成网状，不但获得了导电效果，使得其可以获得电磁屏蔽效果，降低了液晶显示器电磁波对人体的辐射；
(3)因为可以导电，从而将正负电荷中和，进而解决了生产中的静电问题。
以下将结合附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本实用新型的目的、特征和效果。
附图说明
图1是现有技术的防窥膜的结构示意图。
图2是本实用新型的新型防窥膜的结构示意图(未填充)。
图3是本实用新型的新型防窥膜的结构示意图(填充后)。
图中，1基底，2微结构，3填平层。
具体实施方式
一种新型防窥膜，该新型防窥膜具有高低变化的表面结构，包括基底1、突起于基底一侧表面的多个微结构2以及铺展在多个微结构之间的填平层3，如图2所示为本实用新型的新型防窥膜未填充时的结构示意图，各个微结构2垂直于基底1延伸方向形成突起，微结构 2逐行沿着一个方向延伸，多行微结构2平行地排布于基底1表面上，相邻的微结构2高低交错并连接成网状结构，如图3所示为本实用新型的新型防窥膜经填充后的结构示意图，填平层3由填充材料构成，填充材料为含有导电粒子的导电胶水，导电胶水可选为含有纳米导电炭黑的导电胶水或含有纳米级导电金属微粒的导电胶水。
本实用新型的防窥膜中，微结构2规则地分布于基底1上，微结构2的断面呈梯形，梯形斜边与基底表面的夹角为30～60°，两个微结构2之间的间隔为5～50μm，微结构2高度范围为20～180μm，各个微结构2的顶面之间的落差范围在1～20μm之间。
导电粒子选自于纳米导电炭黑或纳米级导电金属微粒，导电粒子的粒径≤1μm，纳米级导电金属优选为纳米银线。填充材料为黑色或灰色胶水，导电粒子均匀分布于黑色或灰色胶水中，由黑色或灰色胶水固化后形成填平层。
微结构2的断面呈等腰梯形，相邻的微结构2的高低差按随机变化或者按规则的周期函数变化，优选为按规则的周期函数变化；当相邻的微结构2按规则的周期函数变化时，变化的周期长度范围为50～1000μm。
本实用新型还提供了一种显示装置，其包括上述任一新型防窥膜，另外还包括背光模组和显示模组，该新型防窥膜位于背光模组和显示模组之间，或者位于显示模组的出光侧。
实施例1
一种防窥膜，包括基底、在基底一侧的微结构，微结构断面呈梯形，相邻的微结构逐行沿着一个方向延伸，由多行微结构垂直于延伸方向排布。微结构单体周期地呈现高低差，多个微结构之间的高低差宏观上互相交织在一起。防窥膜微结构高度150μm，微结构高低差变化幅度在20μm，高低差呈随机无规律变化，相邻两个结构高低相邻，且高与高之间的落差距离在1～20μm，高低微结构之间使用含有导电材料的黑色胶水固化后填平，导电材料为纳米炭黑微粒，粒径≤1μm，使得防窥膜结构层获得表面阻抗≤104，进而获得良好的导电效果。填平之后，因为微结构高低差相邻交织，使得填平层互相连接在一起，形成了一个完整的导电网络层，从而使得防窥膜具有了导电性能，具有了一定的电磁屏蔽效果，并解决了在生产中会遇到的静电问题，同时因为结构的高低差，使得光照射过来的彩虹纹现象有了明显的缓解。
实施例2
一种防窥膜，包括基底、在基底一侧的微结构，微结构断面呈等腰梯形，相邻的微结构逐行沿着一个方向延伸，由多行微结构垂直于延伸方向排布。微结构单体周期地呈现高低差，多个微结构之间的高低差宏观上互相交织在一起。防窥膜微结构高度80μm，微结构高低差变化幅度在20μm，高低差按规则的周期函数变化，使得相邻两个结构高低相邻，且高与高之间的距离在1～20μm，高低微结构之间使用含有导电材料的灰色胶水固化后填平，导电材料为纳米银线，粒径≤1μm，使得防窥膜结构层获得表面阻抗≤104，进而获得良好的导电效果。
实施例3
一种防窥膜，包括基底、在基底一侧的微结构，微结构断面呈梯形，相邻的微结构逐行沿着一个方向延伸，由多行微结构垂直于延伸方向排布。微结构单体周期地呈现高低差，多个微结构之间的高低差宏观上互相交织在一起。防窥膜微结构高度20μm，微结构高低差变化幅度在2μm，高低差按规则的周期函数变化，使得相邻两个结构高低相邻，且高与高之间的距离在1～20μm，高低微结构之间使用含有导电材料的黑色胶水固化后填平，导电材料为纳米银线微粒，粒径≤1μm，使得防窥膜结构层获得表面阻抗≤104，进而获得良好的导电效果
上述实施例获得的防窥膜，通过表观测试、表面阻抗和电磁屏蔽效果的评估测试，将结果列于下表中。
相比于现有技术中的防窥膜，本实用新型的新型防窥膜具有良好的导电效果和电磁屏蔽效果，而且改善了摩尔干涉纹。
综上，本实用新型的新型防窥膜通过结构的高低变化，改善了防窥膜与液晶显示器像素点之间的摩尔干涉现象。结构的高低变化，使得相邻结构高低交错连接成网状，同时通过调整填充材料的材质，在其中加入纳米导电炭黑或纳米级导电金属(如纳米银线)，使得防窥膜具有防窥效果。同时，因为结构高低交错网络，使得填充的导电层也连接成网状，不但获得了导电效果，使得其可以获得电磁屏蔽效果，降低了液晶显示器电磁波对人体的辐射。同时因为可以导电，从而将正负电荷中和，进而解决了生产中的静电问题。
以上详细描述了本实用新型的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本实用新型的构思作出诸多修改和变化。因此，凡本技术领域中技术人员依本实用新型的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。
Claims (8)
1.一种新型防窥膜，其特征在于，该新型防窥膜具有高低变化的表面结构，包括基底、突起于基底一侧表面的多个微结构以及铺展在多个微结构之间的填平层，其中，各个微结构垂直于基底延伸方向形成突起，微结构逐行沿着一个方向延伸，多行微结构平行地排布于基底表面上，相邻的微结构高低交错并连接成网状结构，填平层由填充材料构成，填充材料为含有纳米导电炭黑或纳米级导电金属微粒的导电胶水；微结构的断面呈梯形，梯形斜边与基底表面的夹角为30～60°，两个微结构之间的间隔为5～50μm，微结构高度范围为20～180μm，各个微结构的顶面之间的落差范围在1～20μm之间。
2.如权利要求1所述的新型防窥膜，其特征在于，纳米导电炭黑或纳米级导电金属微粒的粒径≤1μm。
3.如权利要求2所述的新型防窥膜，其特征在于，纳米级导电金属为纳米银线。
4.如权利要求3所述的新型防窥膜，其特征在于，填充材料为黑色或灰色胶水。
5.如权利要求1所述的新型防窥膜，其特征在于，微结构的断面呈等腰梯形。
6.如权利要求1所述的新型防窥膜，其特征在于，相邻的微结构的高低差按随机变化。
7.如权利要求1所述的新型防窥膜，其特征在于，相邻的微结构的高低差按规则的周期函数变化，变化的周期长度范围为50～1000μm。
8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7中任一项所述的新型防窥膜。
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| CN201821746337.7U CN209191400U (zh) | 2018-10-26 | 2018-10-26 | 一种新型防窥膜及显示装置 |
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN114815369A (zh) * | 2022-04-08 | 2022-07-29 | 中山大学 | 一种防窥显示装置、防窥膜及防窥显示装置性能测试方法 |
| WO2023231119A1 (zh) * | 2022-05-31 | 2023-12-07 | Tcl华星光电技术有限公司 | 防窥膜及拼接面板 |
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2018
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