CN209034999U - 一种晶片超声波清洗甩干装置 - Google Patents

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刘杨
徐明金
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Abstract

本实用新型公开了一种晶片超声波清洗甩干装置,包括底板,所述底板的顶部设有电动推杆、第一电机和防溅板,第一电机的输出轴固定有第一转轴,第一转轴的顶端设有置物盘,电动推杆的输出端设有升降板,升降板上固定有第二电机和套筒,套筒内转动连接有第二转轴,第二转轴固定有齿轮和横杆,横杆上设有有超声波发生器和清洗箱,清洗箱连接有滴液管,第二电机的输出端固定有连接杆,连接杆上焊接有滑块,连接杆的上方设有活动板,活动板内设有滑槽,活动板固定连接有齿条。本实用新型通过超声波发生器与滴液管,有效清除不同颗粒的污染物,齿轮与齿条,使得清洗更加均匀,通过控制第一电机的转速,便于甩干晶片,防溅板防止清洗液飞溅。

Description

一种晶片超声波清洗甩干装置
技术领域
本实用新型涉及晶片技术领域,尤其涉及一种晶片超声波清洗甩干装置。
背景技术
传统的清洗设备一般是在一个容器内部,虽然一次性清洗晶片的数量较多,清洗设备往往只是用清洗液清洗,清洗效果不佳,影响晶片的质量,并且在清洗后还需要甩干,较为麻烦。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有问题,而提出的一种晶片超声波清洗甩干装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种晶片超声波清洗甩干装置,包括底板,所述底板上焊接有防溅板,所述底板的顶部螺栓固定有电动推杆和第一电机,所述第一电机的输出轴通过联轴器连接有第一转轴,所述第一转轴的顶端焊接有置物盘,所述电动推杆的输出端固定有水平设置的升降板,所述升降板的顶部固定有第二电机和套筒,所述套筒内转动连接有第二转轴,所述第二转轴的外侧固定有齿轮,所述第二转轴的顶部焊接有水平设置的横杆,所述横杆的底部固定有远离第二转轴的超声波发生器,所述超声波发生器的输出端固定有中空喇叭管,横杆的顶部固定有清洗箱,所述清洗箱连接有滴液管的一端,滴液管的另一端贯穿中空喇叭管,所述超声波清洗器位于置物盘的上方,所述第二电机的输出端固定有水平设置的连接杆,所述连接杆上焊接有滑块,连接杆的上方设有水平设置的活动板,所述活动板内设有滑槽,所述滑块滑动连接在滑槽内,所述活动板远离第二电机的一侧焊接有水平设置的齿条,所述齿条上滑动套接有两个固定块,所述齿轮与齿条啮合。
优选的,所述活动板与连接杆相互垂直,所述超声波发生器的型号为CJ-1200W。
优选的,所述底板的顶部设有型号为AD89S52的控制器。
优选的,所述置物盘上设有夹持结构,置物盘上夹持有多个晶片,所述防溅板包括内环形板和外环形板,第一电机位于防溅板内部。
优选的,所述齿轮位于两个固定块之间,固定块的底部焊接在升降板的顶部,固定块上开设有方形通孔,方形通孔内滑动套接有齿条。
本实用新型的有益效果是:通过超声波发生器,可以发出不同频率的超声波,超声波发生器与滴液管的配合,可有效清除不同颗粒的污染物,齿轮与齿条的配合,超声波发生器在一定范围内绕第二转轴转动,使得清洗更加均匀,控制第一电机的转速,在清洗后甩干晶片,防溅板可有效防止清洗液飞溅。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种晶片超声波清洗甩干装置的结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种晶片超声波清洗甩干装置的部分结构示意图;
图3为本实用新型提出的一种晶片超声波清洗甩干装置的防溅板俯视结构示意图
图中:1底板、2套筒、3电动推杆、4升降板、5第二电机、6连接杆、7活动板、8滑块、9固定块、10齿轮、11第二转轴、12齿轮、13横杆、14超声波发生器、15置物盘、16第一转轴、17第一电机、18滑槽、19控制器、20清洗箱、21滴液管、22中空喇叭管、23防溅板、24内环形板、25外环形板。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-3,一种晶片超声波清洗甩干装置,包括底板1,底板1上焊接有防溅板23,底板1的顶部螺栓固定有电动推杆3和第一电机17,第一电机17的输出轴通过联轴器连接有第一转轴16,第一转轴16的顶端焊接有置物盘15,电动推杆3的输出端固定有水平设置的升降板4,升降板4的顶部固定有第二电机5和套筒2,套筒2内转动连接有第二转轴11,第二转轴11的外侧固定有齿轮10,第二转轴11的顶部焊接有水平设置的横杆13,横杆13的底部固定有远离第二转轴11的超声波发生器14,超声波发生器14的输出端固定有中空喇叭管22,横杆13的顶部固定有清洗箱20,清洗箱20连接有滴液管21的一端,滴液管21的另一端贯穿中空喇叭管22,超声波清洗器14位于置物盘15的上方,第二电机5的输出端固定有水平设置的连接杆6,连接杆6上焊接有滑块8,连接杆6的上方设有水平设置的活动板7,活动板7内设有滑槽18,滑块8滑动连接在滑槽18内,活动板7远离第二电机5的一侧焊接有水平设置的齿条12,齿条12上滑动套接有两个固定块9,齿轮12与齿条14啮合;活动板7与连接杆6相互垂直,超声波发生器14的型号为CJ-1200W;底板1的顶部设有型号为AD89S52的控制器19;置物盘15上设有夹持结构,置物盘15上夹持有多个晶片,防溅板23包括内环形板24和外环形板25,第一电机(17)位于防溅板(23)内部;齿轮10位于两个固定块9之间,固定块9的底部焊接在升降板4的顶部,固定块9上开设有方形通孔,方形通孔内滑动套接有齿条12。本实用新型通过超声波发生器,可以发出不同频率的超声波,超声波发生器与滴液管的配合,可有效清除不同颗粒的污染物,齿轮与齿条的配合,超声波发生器在一定范围内绕第二转轴转动,使得清洗更加均匀,控制第一电机的转速,在清洗后甩干晶片,防溅板可有效防止液体飞溅。
本实施例中,控制器19控制第一电机17、第二电机5、电动推杆3和超声波发生器14工作,滴液管21上设有阀门,中空喇叭管22与置物盘15之间不接触,置物盘15的顶部设有多个夹持结构,用来固定晶片,第二电机5工作时的转速小于第一电机17的转速,第一电机17为可变速电机,第一电机17在清洗时的转速小于甩干时的转速,防溅板23包括内环形板24和外环形板25,内环形板24位于第一电机17和置物盘15之间,置物盘15位于外环形板的内部,外环形板25与内环形板24的外侧壁连接,内环形板24和外环形板25之间形成一个环形凹槽,环形凹槽底部设有出水管,外环形板25的顶部位于中空喇叭管22底部和置物盘15的顶部之间,外环形板25与内环形板24均为圆筒状结构,外环形板25的上部为一个漏斗形结构,上部开口小,下部开口大,外环形板25上部的漏斗形结构与水平面的夹角小于15度。
工作原理:将待清洗晶片固定在置物盘15上,通过控制器19控制电动推杆3的伸缩端向下移动,从而使得超声波发生器14向下靠近置物台,移动到合适位置时,关闭电动推杆3,打开滴液管21上的阀门,同时启动第一电机17、第二电机5和超声波发生器14工作,第二电机17带动连接杆6转动,连接杆6带动滑块8转动,滑块8带动活动板7做左右往复运动,从而带动齿条12做作用往复运动,固定块9起到限位作用,使得活动板7不发生转动,同时使得齿条12稳定,不发生震动,齿条12带动齿轮10往复转动,齿轮10带动第二转轴11往复转动,从而使得超声波发生器14在一定的角度内座往复运动,第一电机17带动第一转轴16转动,从而带动置物盘15转动,滴液管21连续向晶片上滴清洗液,控制器19控制超声波发生器14每隔一段时间更换声波频率,在清洗液和超声波的共同作用下,使得颗粒不同的污染物均能有效的得到清洗,从而使得晶片清洗更加充分,清洗结束后,关闭第二电机5和滴液管21上的阀门,启动电动推杆3,使得超声波发生器14向上移动,远离置物盘15,加大第一电机17的功率,从而加快置物盘15转动,将晶片表面的液体甩干,然后关闭第一电机17,取下晶片即可,通过防溅板23可以防止液体飞溅,有效的保护了其他设备,避免晶片的底部与清洗液接触,同时可以临时存储清洗液,通过防溅板23上的出水管可以排出清洗液。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种晶片超声波清洗甩干装置,包括底板(1),其特征在于,所述底板(1)上焊接有防溅板(23),所述底板(1)的顶部螺栓固定有电动推杆(3)和第一电机(17),所述第一电机(17)的输出轴通过联轴器连接有第一转轴(16),所述第一转轴(16)的顶端焊接有置物盘(15),所述电动推杆(3)的输出端固定有水平设置的升降板(4),所述升降板(4)的顶部固定有第二电机(5)和套筒(2),所述套筒(2)内转动连接有第二转轴(11),所述第二转轴(11)的外侧固定有齿轮(10),所述第二转轴(11)的顶部焊接有水平设置的横杆(13),所述横杆(13)的底部固定有远离第二转轴(11)的超声波发生器(14),所述超声波发生器(14)的输出端固定有中空喇叭管(22),横杆(13)的顶部固定有清洗箱(20),所述清洗箱(20)连接有滴液管(21)的一端,滴液管(21)的另一端贯穿中空喇叭管(22),所述超声波发生器(14)位于置物盘(15)的上方,所述第二电机(5)的输出端固定有水平设置的连接杆(6),所述连接杆(6)上焊接有滑块(8),连接杆(6)的上方设有水平设置的活动板(7),所述活动板(7)内设有滑槽(18),所述滑块(8)滑动连接在滑槽(18)内,所述活动板(7)远离第二电机(5)的一侧焊接有水平设置的齿条(12),所述齿条(12)上滑动套接有两个固定块(9),所述齿轮(10)与齿条(12)啮合。
2.根据权利要求1所述的一种晶片超声波清洗甩干装置,其特征在于,所述活动板(7)与连接杆(6)相互垂直,所述超声波发生器(14)的型号为CJ-1200W。
3.根据权利要求1所述的一种晶片超声波清洗甩干装置,其特征在于,所述底板(1)的顶部设有型号为AD89S52的控制器(19)。
4.根据权利要求1所述的一种晶片超声波清洗甩干装置,其特征在于,所述置物盘(15)上设有夹持结构,置物盘(15)上夹持有多个晶片,所述防溅板(23)包括内环形板(24)和外环形板(25),第一电机(17)位于防溅板(23)内部。
5.根据权利要求1所述的一种晶片超声波清洗甩干装置,其特征在于,所述齿轮(10)位于两个固定块(9)之间,固定块(9)的底部焊接在升降板(4)的顶部,固定块(9)上开设有方形通孔,方形通孔内滑动套接有齿条(12)。
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