CN208903979U - 一种化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种化学机械抛光设备用清洗烘干装置,包括依次邻近设置的第一药液清洗槽、第一纯水溢流槽、第二药液清洗槽、第二纯水溢流槽、烘干室、悬吊装置;所述第一药液清洗槽、第二药液清洗槽内均设置有温度传感器、药液浓度传感器、电加热装置;所述第一纯水溢流槽、第二纯水溢流槽内均设置有超声波发生器;所述烘干室内部一侧设置有布风板,所述布风板与热风机相连接,所述烘干室的底板向布风板相对一侧倾斜设置,并且所述布风板的相对一侧侧壁上设置有灰尘厚度传感器,所述底板的底部设置有排尘口,所述排尘口与抽尘风机相连接。本实用新型自动化程度高,清洗烘干效果好,还具有结构新颖独特,操作方便,适合广泛推广等优点。
Description
技术领域
本实用新型属于单晶硅抛光片清洗技术领域,特别设计一种化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置。
背景技术
单晶硅是一种比较活泼的非金属元素,是晶体材料的重要组成部分,单晶硅抛光片是IC行业的基础材料。化学机械抛光装置(Chemical mechanical polisher)简称CMP设备,目前主要采用该设备来对单晶硅进行抛光。由于CMP工艺是用药液研磨硅片的正面,抛光片的洁净度是抛光片质量的重要指标,在研磨完成之后需要对硅片进行清洗,以保证芯片的成品率和下一道工艺程序的顺利开展。
单晶硅抛光片在加工过程中要经过多次清洗,现有的清洗设备(包括烘干设备)均是独立工作的个体,需要在多个设备上进行不同方式的清洗和烘干操作,工作效率低下,各个设备单独进行控制,不能对各个设备之间进行统一的协同控制,清洗效果不好,对各个设备的控制手段也不够完善,自动化程度不高。
实用新型内容
有鉴于此,为了解决上述问题,本实用新型提供一种化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,能够对单晶硅抛光片的清洗以及烘干进行一体化处理、一体化控制,清洗烘干效果好,降低了生产成本,还具有结构新颖独特,操作方便,适合广泛推广等优点。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,包括依次邻近设置的第一药液清洗槽、第一纯水溢流槽、第二药液清洗槽、第二纯水溢流槽、烘干室,还包括悬吊装置,所述悬吊装置用于移动要清洗和烘干的单晶硅抛光片,所述悬吊装置包括水平导轨,所述水平导轨上设置有第一步进电机,所述第一步进电机能够在水平导轨上水平移动,并且通过连接杆与第二步进电机固定连接,所述第二步进电机通过伸缩轴与抛光片放置笼相连接,并且能够带动所述抛光片放置笼进行上下移动;
所述第一药液清洗槽、第二药液清洗槽内均设置有温度传感器、药液浓度传感器、电加热装置,并且分别通过供给泵与药液供给保温箱相连接;
所述第一纯水溢流槽、第二纯水溢流槽内均设置有超声波发生器,并且分别通过供给泵与纯水箱相连接;
所述烘干室内部一侧设置有布风板,所述布风板与热风机相连接,所述烘干室的底板向布风板相对一侧倾斜设置,并且所述布风板的相对一侧侧壁上设置有灰尘厚度传感器,所述底板的底部设置有排尘口,所述排尘口与抽尘风机相连接。
进一步地,还包括控制单元,所述控制单元分别与所述第一步进电机、第二步进电机、温度传感器、药液浓度传感器、电加热装置、供给泵、超声波发生器、热风机、灰尘厚度传感器、抽尘风机通信连接。
进一步地,所述第一药液清洗槽、第二药液清洗槽的底部均设置有第一排放口。
进一步地,所述第一纯水溢流槽、第二纯水溢流槽的底部均设置有第二排放口。
进一步地,所述第一纯水溢流槽、第二纯水溢流槽内均设置有两个超声波发生器,并且分别设置于底壁和一侧壁之上。
进一步地,所述第一药液清洗槽、第二药液清洗槽内均设置有液位传感器。
进一步地,所述控制单元为单片机。
另外,在本实用新型所述技术方案中,凡未做特别说明的,均可采用本领域中的常规手段来实现本技术方案。
本实用新型具有以下优点:本实用新型能够对单晶硅抛光片的清洗以及烘干进行一体化处理、一体化控制,自动化程度高,清洗烘干效果好,降低了生产成本。本实用新型的自动化程度高,悬吊装置能够悬吊要处理的单晶硅抛光片进入各个清洗槽以及烘干室进行处理,所述第一药液清洗槽、第二药液清洗槽内均设置有温度传感器、药液浓度传感器、电加热装置,并且分别通过供给泵与药液供给保温箱相连接。药液浓度传感器能够对药液的浓度进行监测,当监测到药液浓度不足时,控制单元进行更换药液操作,旧的药液从排放口排出,药液供给保温箱能够将符合工作温度的药液注入清洗槽内,无需加热等待,清洗槽即可以得到符合工作的温度的药液对抛光片进行清洗,工作一段时间药液温度降低后不符合工作要求时,电加热装置能够及时对药液进行加热处理。
本实用新型所述烘干室内部一侧设置有布风板,所述布风板与热风机相连接,所述烘干室的底板向布风板相对一侧倾斜设置,并且所述布风板的相对一侧侧壁上设置有灰尘厚度传感器,所述底板的底部设置有排尘口,所述排尘口与抽尘风机相连接。当灰尘厚度传感器探测到底部集聚的灰尘达到一定厚度时,控制单元能够及时控制抽尘风机进行排尘工作,自动化程度高。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中:1、第一药液清洗槽;2、第一纯水溢流槽;3、第二药液清洗槽;4、第二纯水溢流槽;5、烘干室;6、水平导轨;7、第一步进电机;8、连接杆;9、第二步进电机;10、伸缩轴;11、抛光片放置笼;12、温度传感器;13、药液浓度传感器;14、电加热装置;15、第一排放口;16、超声波发生器;17、第二排放口;18、灰尘厚度传感器;19、热风机;20、布风板;21、纯水箱;22、药液供给保温箱;23、供给泵;24、抽尘风机。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
参见图1,一种化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,包括依次邻近设置的第一药液清洗槽1、第一纯水溢流槽2、第二药液清洗槽3、第二纯水溢流槽4、烘干室5,还包括悬吊装置,所述悬吊装置用于移动要清洗和烘干的单晶硅抛光片,所述悬吊装置包括水平导轨6,所述水平导轨6上设置有第一步进电机7,所述第一步进电机7能够在水平导轨6上水平移动,并且通过连接杆8与第二步进电机9固定连接,所述第二步进电机9通过伸缩轴10与抛光片放置笼11相连接,并且能够带动所述抛光片放置笼11进行上下移动。
所述第一药液清洗槽1、第二药液清洗槽3内均设置有温度传感器12、药液浓度传感器13、电加热装置14,并且分别通过供给泵23与药液供给保温箱22相连接。
所述第一纯水溢流槽2、第二纯水溢流槽4内均设置有超声波发生器16,并且分别通过供给泵13与纯水箱21相连接。
所述烘干室5内部一侧设置有布风板20,所述布风板20与热风机19相连接,所述烘干室5的底板向布风板20相对一侧倾斜设置,并且所述布风板20的相对一侧侧壁上设置有灰尘厚度传感器18,所述底板的底部设置有排尘口,所述排尘口与抽尘风机24相连接。
还包括控制单元,所述控制单元分别与所述第一步进电机7、第二步进电机9、温度传感器12、药液浓度传感器13、电加热装置14、供给泵23、超声波发生器16、热风机19、灰尘厚度传感器18、抽尘风机24通信连接。
进一步地,所述第一药液清洗槽1、第二药液清洗槽3的底部均设置有第一排放口15,用于更换药液以及排污。
进一步地,所述第一纯水溢流槽2、第二纯水溢流槽4的底部均设置有第二排放口17,用于排污。
进一步地,所述第一纯水溢流槽2、第二纯水溢流槽4内均设置有两个超声波发生器16,并且分别设置于底壁和一侧壁之上。
进一步地,所述第一药液清洗槽1、第二药液清洗槽3内均设置有液位传感器。
进一步地,所述控制单元为单片机。
本实用新型能够对单晶硅抛光片的清洗以及烘干进行一体化处理、一体化控制,清洗烘干效果好,降低了生产成本。本实用新型的自动化程度高,悬吊装置能够悬吊要处理的单晶硅抛光片进入各个清洗槽以及烘干室进行处理,所述第一药液清洗槽、第二药液清洗槽内均设置有温度传感器、药液浓度传感器、电加热装置,并且分别通过供给泵与药液供给保温箱相连接。药液浓度传感器能够对药液的浓度进行监测,当监测到药液浓度不足时,控制单元进行更换药液操作,旧的药液从排放口排出,药液供给保温箱能够将符合工作温度的药液注入清洗槽内,无需加热等待,清洗槽即可以得到符合工作的温度的药液对抛光片进行清洗,工作一段时间药液温度降低后不符合工作要求时,电加热装置能够及时对药液进行加热处理。
本实用新型所述烘干室内部一侧设置有布风板,所述布风板与热风机相连接,所述烘干室的底板向布风板相对一侧倾斜设置,并且所述布风板的相对一侧侧壁上设置有灰尘厚度传感器,所述底板的底部设置有排尘口,所述排尘口与抽尘风机相连接。当灰尘厚度传感器探测到底部集聚的灰尘达到一定厚度时,控制单元能够及时控制抽尘风机进行排尘工作,自动化程度高。
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (7)
1.一种化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,其特征在于:包括依次邻近设置的第一药液清洗槽、第一纯水溢流槽、第二药液清洗槽、第二纯水溢流槽、烘干室,还包括悬吊装置,所述悬吊装置用于移动要清洗和烘干的单晶硅抛光片,所述悬吊装置包括水平导轨,所述水平导轨上设置有第一步进电机,所述第一步进电机能够在水平导轨上水平移动,并且通过连接杆与第二步进电机固定连接,所述第二步进电机通过伸缩轴与抛光片放置笼相连接,并且能够带动所述抛光片放置笼进行上下移动;
所述第一药液清洗槽、第二药液清洗槽内均设置有温度传感器、药液浓度传感器、电加热装置,并且分别通过供给泵与药液供给保温箱相连接;
所述第一纯水溢流槽、第二纯水溢流槽内均设置有超声波发生器,并且分别通过供给泵与纯水箱相连接;
所述烘干室内部一侧设置有布风板,所述布风板与热风机相连接,所述烘干室的底板向布风板相对一侧倾斜设置,并且所述布风板的相对一侧侧壁上设置有灰尘厚度传感器,所述底板的底部设置有排尘口,所述排尘口与抽尘风机相连接。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,其特征在于:还包括控制单元,所述控制单元分别与所述第一步进电机、第二步进电机、温度传感器、药液浓度传感器、电加热装置、供给泵、超声波发生器、热风机、灰尘厚度传感器、抽尘风机通信连接。
3.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,其特征在于:所述第一药液清洗槽、第二药液清洗槽的底部均设置有第一排放口。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,其特征在于:所述第一纯水溢流槽、第二纯水溢流槽的底部均设置有第二排放口。
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,其特征在于:所述第一纯水溢流槽、第二纯水溢流槽内均设置有两个超声波发生器,并且分别设置于底壁和一侧壁之上。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,其特征在于:所述第一药液清洗槽、第二药液清洗槽内均设置有液位传感器。
7.根据权利要求2所述的化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置,其特征在于:所述控制单元为单片机。
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