CN208869644U - 一种具有清洁功能的镀膜机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于半导体设备领域，涉及一种具有清洁功能的镀膜机，至少包括：腔体，位于腔体内侧顶部用于放置片源的金属承载盘，位于腔体外侧顶部并驱动金属承载盘旋转的第一驱动机构，位于腔体内侧底部的第二驱动机构，以及产生等离子体对片源进行镀膜的多个镀源机构，镀源机构通过第一升降杆与第二驱动机构连接，其特征在于：所述镀膜机还包括多个金属板，金属板通过第二升降杆与第二驱动机构连接，第二升降杆位于第一升降杆内部；所述镀膜机的内部还设置有进气孔和抽气孔。本实用新型通过对镀膜机进行改进，将传统的片源的清洁制程和镀膜制程集中于一体，避免了清洁后的片源在转移至镀膜机中时产生的二次脏污，简化了工艺流程。
Description
技术领域
本实用新型属于半导体设备领域，尤其涉及一种具有清洁功能的镀膜机。
背景技术
LED的制程中，在进行镀膜前，需要对片源表面进行清洁处理，以提高镀膜的均匀性和粘附性。通常片源的清洁由等离子体清洁机处理，清洁后的片源需人工转移至镀膜机中进行镀膜处理，而在转移的过程中，则存在片源被二次污染的隐患。
发明内容
为解决以上问题，本实用新型提供了一种具有清洁功能的镀膜机，将片源的清洁制程和镀膜制程集中为一体，实现了工艺简化，避免了片源的二次污染。具体的技术方案如下：
一种具有清洁功能的镀膜机，至少包括：腔体，位于腔体内侧顶部用于放置片源的金属承载盘，位于腔体外侧顶部并驱动金属承载盘旋转的第一驱动机构，位于腔体内侧底部的第二驱动机构，以及产生等离子体对片源进行镀膜的多个镀源机构，镀源机构通过第一升降杆与第二驱动机构连接，其特征在于：所述镀膜机还包括多个金属板，金属板通过第二升降杆与第二驱动机构连接，第二升降杆位于第一升降杆内部；所述镀膜机的内部还设置有进气孔和抽气孔。
优选的，所述多个镀源机构围绕第一升降杆间隔分布，所述多个金属板围绕第二升降杆间隔分布。
优选的，所述金属板与镀源机构位置上下对应，覆盖镀源机构。
优选的，所述第二驱动机构驱动金属板相对于镀源机构旋转至镀源机构的间隔处，暴露镀源机构。
优选的，所述金属板的数量与镀源机构数量相同。
优选的，所述金属板包括与第二升降杆连接的内圈第一金属板，以及与第一金属板通过连接件活动连接的外圈第二金属板。
优选的，所述镀膜机还包括与腔体内侧底部固定连接用于支撑金属板的支架。
优选的，所述金属板置于支架上呈水平的板状，所述金属板由第二驱动机构驱动远离支架升高后，金属板呈与金属承载盘平行的弧状。
优选的，所述进气孔具有多个，分别位于腔体的顶部和侧壁，所述进气孔为氧气/氩气进气孔。
本实用新型通过对镀膜机进行改进，将传统的片源的清洁制程和镀膜制程集中于一体，避免了清洁后的片源在转移至镀膜机中时产生的二次脏污，简化了工艺流程。
附图说明
图1为本实用新型之镀膜机清洁片源前的正视结构示意图。
图2为本实用新型之镀膜机对片源清洁时的正视结构示意图。
图3为本实用新型之镀膜机对片源镀膜时的正视结构示意图。
图4为本实用新型之镀膜机对片源镀膜时金属板和镀源机构俯视结构示意图。
图5为本实用新型之镀膜机对片源清洁时金属板和镀源机构俯视结构示意图。
具体实施方式
在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本实用新型。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
参看附图1，本实用新型公开一种具有清洁功能的镀膜机，至少包括：腔体10、第一驱动机构11、放置片源的金属承载盘20、金属板30、镀源机构40、支架50、第一升降杆41、第二升降杆42、第二驱动机构43、进气孔60、抽气孔70。该具有清洁功能的镀膜机在镀膜之前首先对片源进行清洁，然后再镀膜。
第一驱动机构11位于腔体10外侧顶部，在镀膜时，用于驱动金属承载盘20的旋转，增强镀膜均匀性。
金属承载盘20位于腔体10内侧顶部，用于放置片源，通常呈伞状。同时，金属承载盘20在镀膜机清洁片源时，作为产生清洁片源所需的等离子体的上电极。
参看附图1~4，金属板30具有多个，其通过第二升降杆42与第二驱动机构43连接，第二升降杆42位于第一升降杆41内部，并且第二升降杆42在第二驱动机构43的作用下，相对于第一升降杆41升降。如附图3所示，多个金属板30围绕第二升降杆42间隔分布，呈“风车”状。每一个金属板30均包括与第二升降杆42连接的内圈第一金属板31，以及与第一金属板31通过连接件33活动连接的外圈第二金属板32。如附图1所示，镀膜机对片源清洁之前，金属板30置于支架50上，由于支架50的支撑作用，其呈水平的板状。如附图2所示，而当镀膜机对片源进行清洁时，由于金属板30和金属承载盘20之间需要较小的距离，因此金属板30由第二驱动机构43驱动远离支架50升高，外圈的第二金属板32则在重力作用下自然下垂一定角度，使整个金属板30呈现与金属承载盘20平行的弧状，此时呈平行的金属承载盘20和金属板30更利于等离子体对片源进行清洁。
如附图4所示，镀源机构40具有多个，其围绕第一升降杆41间隔分布，呈“风车”状，并且其数量与金属板30数量相同，本实施例中优选5个。如附图2和5所示，当镀膜机对片源清洁时，金属板30处于靠近金属承载盘20的较高位置，镀源机构40位于靠近腔体10底部的位置。此时，金属板30与镀源机构40位置上下对应，金属板30覆盖镀源机构40，防止清洁时的等离子体攻击镀源机构40从而导致镀源机构40损坏。如图3和4所示，当镀膜机对片源镀膜时，第二驱动机构43驱动金属板30相对于镀源机构40旋转至镀源机构40的间隔处，以暴露镀源机构40，同时第二驱动机构43驱动镀膜机构升高，使镀源机构40产生的金属等离子体对片源进行镀膜。
参看附图1~3，进气孔60具有多个，分别位于腔体10的顶部和侧壁，具体为顶部2个进气孔60，侧壁为2个进气孔60，抽气孔则位于腔体10的侧壁。进气孔60为氧气/氩气进气孔，氧气/氩气通过进气孔60进入腔体10内的金属承载盘20和金属板30之间，金属承载盘20和金属板30被施加电压后，氧气/氩气电离成等离子体对片源进行清洁。同时，抽气孔70将清洁后的脏污抽离腔体，避免片源的再次污染。
本实用新型通过对镀膜机进行改进，将传统的片源的清洁制程和镀膜制程集中于一体，避免了清洁后的片源在转运至镀膜机中时产生二次脏污。并且，将金属片源承载盘20作为镀膜机对片源清洁时的上电极，将改进后的金属板30用于下电极和遮板功能，充分利用镀膜机的使用功能。
应当理解的是，上述具体实施方案为本实用新型的优选实施例，本实用新型的范围不限于该实施例，凡依本实用新型所做的任何变更，皆属本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种具有清洁功能的镀膜机，至少包括：腔体，位于腔体内侧顶部用于放置片源的金属承载盘，位于腔体外侧顶部并驱动金属承载盘旋转的第一驱动机构，位于腔体内侧底部的第二驱动机构，以及产生等离子体对片源进行镀膜的多个镀源机构，镀源机构通过第一升降杆与第二驱动机构连接，其特征在于：所述镀膜机还包括多个金属板，金属板通过第二升降杆与第二驱动机构连接，第二升降杆位于第一升降杆内部；所述镀膜机的内部还设置有进气孔和抽气孔。
2.根据权利要求1所述的一种具有清洁功能的镀膜机，其特征在于：所述多个镀源机构围绕第一升降杆间隔分布，所述多个金属板围绕第二升降杆间隔分布。
3.根据权利要求2所述的一种具有清洁功能的镀膜机，其特征在于：所述金属板与镀源机构位置上下对应，覆盖镀源机构。
4.根据权利要求2所述的一种具有清洁功能的镀膜机，其特征在于：所述第二驱动机构驱动金属板相对于镀源机构旋转至镀源机构的间隔处，暴露镀源机构。
5.根据权利要求2所述的一种具有清洁功能的镀膜机，其特征在于：所述金属板的数量与镀源机构数量相同。
6.根据权利要求1所述的一种具有清洁功能的镀膜机，其特征在于：所述金属板包括与第二升降杆连接的内圈第一金属板，以及与第一金属板通过连接件活动连接的外圈第二金属板。
7.根据权利要求1~6任意一项所述的一种具有清洁功能的镀膜机，其特征在于：所述镀膜机还包括与腔体内侧底部固定连接用于支撑金属板的支架。
8.根据权利要求7所述的一种具有清洁功能的镀膜机，其特征在于：所述金属板置于支架上呈水平的板状，所述金属板由第二驱动机构驱动远离支架升高后，金属板呈与金属承载盘平行的弧状。
9.根据权利要求1所述的一种具有清洁功能的镀膜机，其特征在于：所述进气孔具有多个，分别位于腔体的顶部和侧壁，所述进气孔为氧气/氩气进气孔。
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Cited By (2)
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| CN114975685A (zh) * | 2022-05-20 | 2022-08-30 | 芦峥 | 一种具有清洁机构的太阳能镀膜设备 |
| CN115584475A (zh) * | 2022-10-28 | 2023-01-10 | 富联科技(兰考)有限公司 | 镀膜设备的清洁方法与镀膜设备 |
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2018
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